專利名稱：一種鎂合金表面處理工藝的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種鎂合金表面處理工藝
背景技術：
鎂合金最輕的金屬材料，也是減震性最好的金屬材料。國內鎂的蘊藏量約占世界的71%左右，而我國在鎂資源的利用上處于原材料產量大，鎂制品消費量大，資源深化加工能力極小的開發劣勢。現行的鎂合金表面處理大都采用化學氧化和陽極氧化方法，鎂合金的化學氧化膜很薄，陽極氧化膜質脆而多孔，且陽極氧化的酸性溶液中加入了大量的鉻酸，容易造成環境污染。由于國內現行鎂合金表面處理工藝上的復雜性和性能上對行業要求的不適應性，嚴重制約了我國鎂合金產業在高利潤領域的競爭實力。盡管如此，鎂合金表面處理這一領域除傳統的陽極氧化加表面涂裝作為簡單的防護’方法外，目前尚未見到有關此方面的創新報道和應用實例。因此，研究一種操作簡單，處理時間短，利用后續噴粉著色處理及耐蝕性好的鎂合金表面處理工藝具有重要的意義。本發明的目的在于克服了背景技術中的不足之處，提供一種鎂合金表面處理工藝，采用該工藝能有效提高鎂合金表面陶瓷層的質量，而且其表面狀態分布有利于后續的噴粉著色處理。另外，該工藝處理工序簡單，生產效率高，并能減少環境污染。

發明內容
本發明的目的在于克服了背景技術中的不足之處，提供一種鎂合金表面處理工藝，采用該工藝能有效提高 鎂合金表面陶瓷層的質量，而且其表面狀態分布有利于后續的噴粉著色處理。另外，該工藝處理工序簡單，生產效率高，并能減少環境污染。為達到上述目的，本發明采用的技術解決方案如下:一種鎂合金表面處理工藝，其特殊之處在于:將鎂合金預處理后放入堿性電解液中，采用微弧氧化設備對鎂合金表面進行微弧氧化處理，在鎂合金表面形成陶瓷層。在進行上述微弧氧化處理時，電流密度范圍可以在理想時間范圍可以在10-120min之間。在進行上述微弧氧化處理時，電流密度范圍可以在理想范圍時間可以在10-30min之間。
具體實施例方式電弧拋光該鎂合金鑄件，其中該鎂合金鑄件被電氣連接至正電極，并且被浸入一含有電解液的電解槽中，而該電解槽槽體被電氣連接至一負電極，使得該電解液帶有負電荷，該電解槽的操作電壓、操作電流及操作溫度是被設定在一操作條件下使得該鎂合金鑄件的表面產生化學反應，且在緊鄰該鎂合金鑄件的表面產生多數的連續氣泡，因而在該鎂合金鑄件的表面與該電解液之間形成一連續性氣膜，該氣膜所形成的間隙恰足以使得該鎂合金鑄件的表面與該電解液之間產生電弧，撞擊該鎂合金鑄件的表面，而達到拋光該鎂合金鑄件。一種鎂合金表面處理工藝，其特殊之處在于:將鎂合金預處理后放入堿性電解液.中，采用微弧氧化設備對鎂合金表面進行微弧氧化處理，在鎂合金表面形成陶瓷層。在進行上述微弧氧化處理時，電流密度范圍可以在理想時間范圍可以在10-120min之間。在進行上述微弧氧化處理時，電流密度范圍可以在理想范圍時間可以在10-30min之間。
權利要求
1.電弧拋光該鎂合金鑄件，其中該鎂合金鑄件被電氣連接至正電極，并且被浸入一含有電解液的電解槽中，而該電解槽槽體被電氣連接至一負電極，使得該電解液帶有負電荷，該電解槽的操作電壓、操作電流及操作溫度是被設定在一操作條件下使得該鎂合金鑄件的表面產生化學反應，且在緊鄰該鎂合金鑄件的表面產生多數的連續氣泡，因而在該鎂合金鑄件的表面與該電解液之間形成一連續性氣膜，該氣膜所形成的間隙恰足以使得該鎂合金鑄件的表面與該電解液之 間產生電弧，撞擊該鎂合金鑄件的表面，而達到拋光該鎂合金鑄件。
全文摘要
一種鎂合金表面處理工藝，該方法包含下列的步驟預備一鎂合金鑄件；電弧拋光該鎂合金鑄件，其中該鎂合金鑄件被電氣連接至正電極，并且被浸入一含有電解液的電解槽中，而該電解槽槽體被電氣連接至一負電極，使得該電解液帶有負電荷，該電解槽的操作電壓、操作電流及操作溫度是被設定在一操作條件下使得在緊鄰該鎂合金鑄件的表面產生多數的連續氣泡，并因此在該鎂合金鑄件的表面與該電解液之間形成一連續性氣膜，該氣膜所形成的間隙恰足以使得該鎂合金鑄件的表面與該電解液之間產生電弧，撞擊該鎂合金鑄件的表面，從而達到拋光該鎂合金鑄件。
文檔編號C25D11/30GK103103598SQ201110362969
公開日2013年5月15日 申請日期2011年11月14日 優先權日2011年11月14日
發明者丁明永 申請人:丁明永