氣體分配網(wǎng)絡中的流量平衡的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及氣體分配網(wǎng)絡中的流量平衡，更具體地涉及將工藝氣體供應給多站沉積室中的兩或更多個站的流量分配網(wǎng)絡。每個流量分配網(wǎng)絡包括入口和用于將工藝氣體運載至所述站的流量分配管線。所述流量分配管線包括入口下游的分支點和該分支點下游的兩或更多條支線。每一條支線給站供應。該流量分配網(wǎng)絡還在每一條支線中包括高度可變的流量元件。在每一條支線中，限制部件被設置在可變控制元件的下游。這些限制部件在標稱上是相同的且被設計來將大部分壓降從可變流量元件轉(zhuǎn)移走以改善流量平衡，同時無需過于增加入口壓強。在一些實施例中，負載轉(zhuǎn)移允許較多可變的流量元件操作在未壅塞流態(tài)中。
【專利說明】氣體分配網(wǎng)絡中的流量平衡
相關(guān)申請交叉參考
[0001]本申請要求2012年8月17日提交的、申請?zhí)枮?1/684，261的美國臨時專利申請和2012年11月2日提交的、申請?zhí)枮?3/667,282的美國專利申請的權(quán)益，前述申請出于全部目的通過參考將全文并入此處。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明總體涉及流體的輸送，更具體涉及氣體分配網(wǎng)絡中的流量平衡。
【背景技術(shù)】
[0003]現(xiàn)有流量分配網(wǎng)絡依賴對稱性、大部件和緊公差(close tolerance)來將流量均勻地分配給支線(branch)。雖然這可能適合液體或高壓氣體，但是低壓可壓縮流體所經(jīng)歷的速率擴大了射流元件(fluidic element)的微小變化,使流量失去平衡。該問題在復雜幾何結(jié)構(gòu)(比如在截流閥中所存在的那些結(jié)構(gòu))中尤為嚴重。
[0004]在等離子體打開的情況下改變氣流的工藝序列(比如在2010年12月16日提交的申請序列號為12/970,846的美國專利申請中所描述的那個工藝序列(該專利其全文通過參考并入本文))通常要求將閥設置得盡可能靠近處理站(例如，室)。這轉(zhuǎn)而要求將截流閥放置在該網(wǎng)絡的每一條支線中，從而會產(chǎn)生流量不平衡。其它應用，尤其是牽涉給在一個反應器或多個反應器中的多個站的同步氣流的那些應用，還會遭受至各個站或反應器的流量不平衡的影響。
[0005]用傳統(tǒng)技術(shù)使流率平衡需要跨(across)支線的對稱性，這在一些應用中可能不是可行的或者不是合乎希望的。例如，對稱性可能排除諸如常規(guī)截流閥等高度可變的射流元件的使用。將這些射流元件制造為極低公差以維持跨支線的對稱性會是過于昂貴的。替代地，利用大部件來平衡流量需要該系統(tǒng)中有顯著的壓降(pressure drop)，這會增加成本并限制最大流量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明提供了使輸送給低壓流量分配網(wǎng)絡中的多個站的可壓縮流體的流量平衡的技術(shù)。為了平衡流量，在分配管線的多條支線的靠近至站的出口處的端部引入流量限制器。所述流量限制器在標稱上是相同的且被設計來將大部分壓強負載從位于所述支線上游的相對高度可變的射流元件轉(zhuǎn)移到可變度較小(less variable)的下游限流器，同時無需過于增加入口壓強。將壓強負載轉(zhuǎn)移到可變度較小的限流器可允許較多可變的射流元件操作在未壅塞流態(tài)(unchoked flow regime)中且可改善流量平衡。這些技術(shù)有助于補償高度可變的射流元件和跨支線的其它不對稱性的不平衡效應且無需使用大射流部件。
[0007]在實施方式中，流量分配網(wǎng)絡將工藝氣體供應到多站沉積室中的兩或更多個站。該流量分配網(wǎng)絡包括用于接收工藝氣體的至少一個入口和用于運載該氣體的流量分配管線的網(wǎng)絡。該流量分配管線的網(wǎng)絡包括該入口下游的分支點和該分支點下游的兩或更多條支線。每一條支線具有用于將工藝氣體供應給相應的站的出口。該流量分配網(wǎng)絡還包括具有流量系數(shù)Cv值的可變流量元件(例如,截流閥),流量系數(shù)Cv值跨支線從元件到元件以至少約2%的幅度變化。限制部件位于每一條支線中的可變控制元件的下游。該限制部件可以是例如可變控制元件下游的相關(guān)流量分配管線中的限制件(constriction)。所述限制部件在標稱上是相同的。從入口到出口，工藝氣體的流跨流量分配網(wǎng)絡產(chǎn)生系統(tǒng)壓降，該系統(tǒng)壓降至少與出口處的壓強一樣大。在一些實施例中，流量分配網(wǎng)絡的可變流量元件可操作在未壅塞流態(tài)中。
[0008]流量分配網(wǎng)絡的可變流量元件平均地產(chǎn)生該流量分配網(wǎng)絡中的系統(tǒng)壓降的第一部分。限制部件平均地產(chǎn)生該流量分配網(wǎng)絡中的壓降的第二部分。在一些實施例中，該第二部分和該第一部分之比可在約5:1至約20:1之間。
[0009]在一些實施例中，流量分配網(wǎng)絡可進一步包括用于控制系統(tǒng)壓降的控制器。該控制器可與入口、一或多個出口和/或該網(wǎng)絡的其它部件通信。
[0010]在實施方式的一個方面，所述限制部件可產(chǎn)生跨所述支線中的所述限制部件的一定的平均系統(tǒng)壓降。在一實施例中，所述限制部件可產(chǎn)生跨所述限制部件的占系統(tǒng)壓降的平均至少約3%的壓降。在另一實施例中，所述限制部件可產(chǎn)生跨所述限制部件的占系統(tǒng)壓降的平均至少約50%的壓降。在又一實施例中，所述限制部件可產(chǎn)生跨所述限制部件的占系統(tǒng)壓降的平均在10%和80%之間的壓降。
[0011]在另一方面，所述可變流量元件可產(chǎn)生跨所述支線中的所述元件的一定的平均系統(tǒng)壓降。在一實施例中，所述可變流量元件可產(chǎn)生跨所述可變流量元件的占所述流量分配網(wǎng)絡中的總壓降的平均至多約5%的壓降。在另一實施例中，所述可變流量元件可產(chǎn)生跨所述可變流量元件的占所述流量分配網(wǎng)絡中的總壓降的平均至多約10%的壓降。
[0012]在又一方面，流量分配網(wǎng)絡可具有產(chǎn)生質(zhì)量流率的可變流量元件，當每一個元件經(jīng)歷基本上相同的壓降時，該質(zhì)量流率跨所述支線從元件到元件平均以例如至少約2%的幅度變化。在另一實施例中，所述可變流量元件處的質(zhì)量流率可以至少約5%或10%的幅度變化。
[0013]在另一方面，流量分配網(wǎng)絡在所述支線中可具有限制部件，所述限制部件具有流量系數(shù)Cv值，該Cv值跨所述支線平均以小于一定百分比的幅度變化。在一實施例中，所述限制部件可跨所述支線從部件到部件平均以1%或更小的幅度變化。作為另一實施例，所述限制部件可跨所述支線從部件到部件平均以4%或更小的幅度變化。
[0014]在另一方面，所述限制部件可將工藝氣體以標稱上均勻的質(zhì)量流率提供給給站供應的各出口。在一些實施例中，所述標稱上均勻的質(zhì)量流率可在出口之間以例如小于約1%的幅度變化。在另一實施例中，所述標稱上均勻的質(zhì)量流率可在出口之間以小于約2%的幅度變化。
[0015]下面參考附圖進一步對這些方面以及其它方面進行描述。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1A是根據(jù)實施方式的針對多站流量分配網(wǎng)絡中的四個沉積站的歸一化沉積速率的圖形。
[0017]圖1B是針對圖1A的多站流量分配網(wǎng)絡中的四個沉積站的歸一化沉積速率和流量系數(shù)Cv的圖形。
[0018]圖2A是根據(jù)本文所描述的某些實施方式的具有四個站的流量分配網(wǎng)絡的部件的示意圖。
[0019]圖2B是圖2A的流量分配網(wǎng)絡的部件的示意圖，示出了在有和沒有限制部件(限流器)的情況下在該網(wǎng)絡中的節(jié)點處的壓強。
[0020]圖2C是示出沿著圖2A和圖2B的流量分配網(wǎng)絡的支線在不同距離處的壓降的圖形。
[0021]圖2D是根據(jù)實施方式的具有四個站的流量分配網(wǎng)絡的部件的線條圖。
[0022]圖2E是根據(jù)實施方式的具有兩個站的流量分配網(wǎng)絡的部件的線條圖。
[0023]圖3A和3B是示出對圖2A和2B的流量分配網(wǎng)絡的一部分的設計變更從而包括限制部件的示意圖。
[0024]圖4A是示出根據(jù)實施方式設計限制部件以改善跨流量分配網(wǎng)絡支線的流量平衡的方法的圖形。
[0025]圖4B是圖4A中的圖形的一部分的更為詳細的視圖。
[0026]圖4C是示出針對圖2A和2B的具有和沒有限流器的流量分配網(wǎng)絡中的各個容積流率的入口壓強Pinlrt的變化的圖形。
[0027]圖5A是示出相對于在實施方式的射流元件處的上游壓強Pin的容積流率(slm)的圖形。
[0028]圖5B是示出相對于圖5A的射流元件中的下游壓強的壓降的圖形。
[0029]圖5C是示出流率的變化性和位于可變流量元件處的壓強比相對于圖2A和2B中的流量分配網(wǎng)絡的限制部件的級別或限制的關(guān)系的圖形。
[0030]圖6是針對實施方式的流量分配網(wǎng)絡中的流量平衡的電路模擬的圖形。
【具體實施方式】
[0031]在下面的描述中，許多具體細節(jié)被陳述以便提供對這些實施方式的透徹理解。所公開的實施方式可在沒有這些具體細節(jié)中的一些或全部的情況下被實施。另一方面，公知的工藝操作不會被詳細描述以免不必要地模糊所公開的實施方式。雖然會結(jié)合【具體實施方式】對所公開的實施方式進行描述，但要理解的是，這不是意圖限制所公開的實施方式。
[0032]流量平衡的流量分配網(wǎng)絡
[0033]在實施方式中，流量限制部件(限流器)被設置在流量分配網(wǎng)絡的分配管線的多條支線的每一條中。這些流量限制部件在標稱上是相同的。這樣的網(wǎng)絡包括用于從供應源接收氣體的一或多個入口。這些網(wǎng)絡還包括在所述入口下游的至少一個分支點和在所述分支點下游的兩或更多支線。從單個或多個入口而來的氣體在其到兩或更多個出口的途中被分到多個支線中。每一條支線通過關(guān)聯(lián)出口供應氣體給獨立的站。本文所呈現(xiàn)的一些實施方式采用四個站，每一個站都由流量分配網(wǎng)絡供應工藝氣體。本文所呈現(xiàn)的其它實施方式采用兩個站。通常，流量分配網(wǎng)絡的實施方式可包括兩或更多個站。
[0034]實施方式的流量分配網(wǎng)絡的站可以是例如室(例如，反應室)或室的部分(portion)，在其中可進行下列工藝中的一或多個:化學氣相沉積、原子層沉積、共形膜沉積、等離子體增強化學氣相沉積，等等。在一些實施例中，流量分配網(wǎng)絡的站可以在多站沉積反應器中。這些站中的每一個均可以是裝有噴頭的反應室，該噴頭從流量分配網(wǎng)絡的出口接收工藝氣體并將工藝氣體提供到該站的內(nèi)部。
[0035]多站反應器允許人們在一個室環(huán)境中同時運行相同或不同的工藝，從而提高工件處理的效率。一般而言，在單個室中，任意數(shù)量的站都是可行的。所述站可具有相同或不同的功能。在一實施例中，個體的站能夠操作在不同的工藝條件下且可大體上彼此隔離。例如，一個站可操作在一種溫度狀況(temperature regime)下,而另一個站可操作在不同的溫度狀況下。一些操作會需要不同的溫度狀況(例如，較高的溫度)，并可在不同的一個或多個站中被執(zhí)行。根據(jù)某些實施方式，每一個處理室操作在相同的條件下或者操作在精確地實現(xiàn)相同厚度的氧化硅、氮化硅或其它材料同時在每一個站中被沉積的條件下。
[0036]在多個站處的工藝條件以及工藝流程本身可由控制器控制，該控制器包括用于監(jiān)控、維持和/或調(diào)節(jié)某些工藝變量、流率和次數(shù)、溫度、入口壓強、出口壓強等等的程序指令。所述指令可指定參數(shù)中的一些或全部以執(zhí)行工藝的操作。該控制器可包括用于不同裝置站的不同或相同的指令，從而允許所述站獨立地或同步地操作。
[0037]該控制器會通常包括一或多個存儲設備和一或多個處理器。該處理器可包括中央處理單元(CPU)或計算器、模擬和/或數(shù)字輸入/輸出連接(connection)、步進馬達控制器板、以及其它類似部件。在處理器上執(zhí)行用于實現(xiàn)恰當?shù)目刂撇僮鞯闹噶睢＿@些指令可被存儲在關(guān)聯(lián)于控制器的存儲設備上或者它們可在網(wǎng)絡上被提供。通常，會有關(guān)聯(lián)于系統(tǒng)控制器的用戶界面。用戶界面可包括顯示屏、圖形軟件以顯示工藝條件、以及用戶輸入設備匕如指點設備、鍵盤、觸摸屏、麥克風、以及類似部件)。
[0038]用于控制不同工藝的操作的計算機程序代碼可以以任何常規(guī)的計算機可讀程序語目進行編寫:例如，匯編語目、C、C++、Pascal、Fortran、或其它語目。編譯后的目標代碼或腳本由處理器執(zhí)行以完成程序中所標識的任務。
[0039]用于監(jiān)控工藝的信號可由系統(tǒng)控制器的模擬和/或數(shù)字輸入連接提供。用于控制工藝的信號通過該處理系統(tǒng)的模擬和數(shù)字輸出連接被輸出。
[0040]在實施方式中，流量分配網(wǎng)絡被設計或配置來將可壓縮的流體(比如工藝氣體)輸送到一或多個站。前驅(qū)氣體可以是在實施方式的許多應用中所使用的工藝氣體。工藝氣體可在大范圍的壓強(包括例如高于大氣壓強、處于大氣壓強、低于大氣壓強以及接近真空的出口壓強)下通過流量分配網(wǎng)絡被輸送到所述站。在一些實施例中，該網(wǎng)絡的入口氣壓(Pinlet)可在50和1000托之間。通常，在該流量分配網(wǎng)絡中，從入口到出口，網(wǎng)絡上的總壓降(APsysteffl)較之輸送氣體所到達的站的絕對壓強(Ptjutlrt)相對較大。也就是說，比APsystem/P?—大于I。在一些實施方式中，比I和20之間。除非另有聲明，否則應假定本文所描述的實施方式和特征采用:(I)具有到多個出口的支線的流量分配網(wǎng)絡，(2)用于將可壓縮流體輸送到這多個出口，以及(3)這樣的可壓縮流體在該流量分配網(wǎng)絡上的總壓降比出口壓強大。
[0041]在所公開的某些實施方式中，精確的限制部件(比如機加工至緊公差的孔或管)被添加到流量分配網(wǎng)絡中的支線的每一個端部處。該精確的限制部件位于出口處或靠近出口，所述出口將處于低的出口氣壓Pwtlrt的工藝氣體提供給站(例如，5托、6托、7托，等等)。通常，該精確的限制部件在標稱上是相同的，在跨支線的限制部件之間具有流量系數(shù)Cv的值的相對較低的變化(例如，5%或更低、1%或更低、2%或更低、3%或更低、4%或更低，等等)。限制部件可被設計來匹配限制最大的支線的典型壓降，其中支線不具有相同的流動性能，比如當分配網(wǎng)絡是不對稱的時。通過提高在緊鄰限制部件(限流器)的上游的點處的壓強，支線中的氣體的密度被增加，從而速率降低，這進而減少所述支線的上游部分中的損耗(即壓降)。這些上游部分往往包含高度可變的射流元件，比如某些類型的閥。減少這些高度可變部件中的損耗會降低流量的從支線到支線的變化性，從而提高站與站之間的流量均勻性一這是對堆層膜特別重要的結(jié)果。
[0042]本文所公開的用于分配低壓氣體的設計和技術(shù)可不管射流元件從支線到支線的變化性(不對稱性)而在流量分配網(wǎng)絡的每一條支線中提供改進的流量匹配。這樣的設計和技術(shù)還可將一些網(wǎng)絡壓降從高度可變的射流元件(例如，截流閥)轉(zhuǎn)移到可變度較小的射流元件(“負載轉(zhuǎn)移”)。可變度較小的射流元件的例子包括能夠容易地且一貫地被生產(chǎn)為緊公差的限制部件，比如，舉例來說，孔或機加工管。這些限制部件在流量系數(shù)Cv的值上可具有較低的變化性，當其被置于各條支線中時可改善流量平衡。
[0043]流量分配網(wǎng)絡在高度可變的射流元件處可經(jīng)受壅塞流。在該高度可變的射流元件下游添加限制部件能夠?qū)③杖鬓D(zhuǎn)移到可變度較小的限制部件。因為會有與壅塞流相關(guān)聯(lián)的較大壓降，因此有利的是將壅塞流從較多可變的射流元件轉(zhuǎn)移到可變度較小的限制部件。穿過射流元件的可壓縮流體的壅塞流需要該射流元件中的壓降占入口壓強的大百分比(例如50%)。通過本文所述的負載轉(zhuǎn)移，總壓降的較大部分被轉(zhuǎn)移到可變度較小的限制部件，這有助于流率的相對較少的變化。
[0044]在某些實施方式中，所公開的設計利用所輸送的氣體的壓縮性來顯著改善流量平衡卻不會明顯增加流量分配網(wǎng)絡中的總體壓降或者無需明顯增加流量分配網(wǎng)絡的一或多個入口處的壓強。一些實施方式的其它優(yōu)點包括:1)由于高度可變射流元件處的相對壓降被大幅減少，所以允許在限制部件的上游使用高度可變射流元件，2)由于限制部件(限流器)可被設定尺寸以匹配限制最大的支線中的壓降，所以消除了對該網(wǎng)絡的射流元件的對稱性的要求，這可顯著地使所有的質(zhì)量流率平衡，3)由于該網(wǎng)絡中的氣流的速率會被較高的壓強降低，所以允許使用較小的網(wǎng)絡部件，和/或4)能夠利用改變低壓氣體的壓強的顯著效果從而通過采用“負載轉(zhuǎn)移”以更高效地解決平衡問題。
[0045]圖1A和圖1B示出了用于將低壓氣體輸送給四個獨立的反應站(在其中進行例如氧化硅、氮化硅、多晶硅、和/或其它材料的沉積)的多站流量分配網(wǎng)絡中的觀測結(jié)果。該流量分配網(wǎng)絡可被用在例如垂直集成存儲器(VIM)的制造中。該些結(jié)果在沒有本文所描述的在支線的端部采用的可變度較小的限制部件的情況下被觀測到。
[0046]在圖1A中，針對流量分配網(wǎng)絡中的四個沉積站繪制了歸一化沉積速率(即，特定站的沉積速率/所述站的最高沉積速率)。在許多應用中，希望的是，沉積速率跨多個站從最高速率以小于大約最大變化的幅度變化。在所示的應用中，希望的是，沉積速率跨四個沉積站以小于約1%的最大允許變化的幅度變化。在圖1A中，站2的3%以及站I和4的7%的明顯較高的變化在受到觀測的網(wǎng)絡中被觀測到。所觀測到的沉積速率的變化的源可以是因為反應物濃度的變化、射頻功率的變化(在等離子體輔助沉積反應的情況下)、以及被輸送給該系統(tǒng)的單個的站或室的前驅(qū)氣體或其它工藝氣體的質(zhì)量流率的變化。在本公開的上下文中，質(zhì)量流率的變化是會被討論(address)的變化。應當理解的是,此處所討論的“氣體流率”或“流率”或“流量”的變化是工藝氣體的質(zhì)量流率的變化。由于沉積速率是質(zhì)量流率的函數(shù)，所以工藝氣體的質(zhì)量流率的變化直接影響沉積速率。
[0047]質(zhì)量流率對沉積速率的影響被反映在圖1B所示的圖形中。更具體地，圖1B中的圖形示出了四個站的歸一化沉積速率對應于控制至站的氣流的射流元件(例如，閥)的流量系數(shù)Cv的一些測量結(jié)果且是對該流量系統(tǒng)Cv的值的一些測量結(jié)果。參數(shù)Cv使質(zhì)量流率關(guān)聯(lián)于特定射流元件(比如閥)中的壓降。就跨射流元件的壓降固定的情況而言，較高的Cv值對應于較高的質(zhì)量流率。當然，較高的質(zhì)量流率又對應于接收該氣流的站中的較高的沉積速率。
[0048]實施方式的技術(shù)和設計可提供在標稱上均勻的質(zhì)量流率的工藝氣體至流量分配網(wǎng)絡的站。在實施方式中，在標稱上均勻的質(zhì)量流率從站到站以小于小百分比(例如，1%、2%、0.5%，等等)的幅度變化。跨站的在標稱上均勻的質(zhì)量流率可對應于跨站的在標稱上均勻的沉積速率。可得益于實施方式的這樣的技術(shù)和設計的應用是采用電介質(zhì)的堆層的VIM的制造。堆層可包括，舉例來說，氧化物或氮化物的交替層和/或氧化物和多晶硅的交替層。當務之急是，在應用(比如VM)中，單獨的層的厚度受到良好的控制且從站到站是一致的。當然，本文所公開的技術(shù)和裝置并不限于VIM應用。與集成電路制造商、LED制造商、光伏制造商等有關(guān)的許多其它應用可得益于本文所公開的技術(shù)和裝置。
[0049]圖2A是根據(jù)本文所描述的某些實施方式描繪流量分配網(wǎng)絡10的配置的示意圖。在所示的配置中，流量分配網(wǎng)絡10是多站沉積反應器。流量分配網(wǎng)絡10包括將工藝氣體輸送給四個站20的流量分配管線12的網(wǎng)絡，該四個站20包括站1-20 (a)、站2-20 (b)、站3-20 (c)和站4-20 (d)。在該示圖中，站20是反應室中的沉積站。站20中的每一個包括噴頭，噴頭接收工藝氣體并將該工藝氣體提供到站20的內(nèi)部。在其它實施例中，站20可包括其它部件。
[0050]工藝氣體可通過各歧管的兩個入口 30 Ca)和30 (b)中的一或多個被提供給流量分配網(wǎng)絡10。所描繪的流量分配網(wǎng)絡10在流量分配管線12的T配件(本文也稱為T形物或T形件)處具有三個分支點40 (a)、42 (a)和42 (b)。從歧管I和2的入口 30 (a)和30 (b)開始，氣體在第一分支點40 (a)遇到第一個T配件，第一個T配件將氣流分成兩個部分，一個部分將氣體提供給站2-20 (b)和站3-20 (c)而另一個部分將氣體提供給站
1-20(a)和站4-20 (d)。這些管線中的每一條在第一分支點40 (a)下游的T配件處具有兩個二級分支點42 (a)和42 (b)，分支點42 (a)和42 (b)將氣流分到至站1_20 (a)、站
2-20(b)、站3-20 (c)和站4-20 (d)的四條獨立的支線中。
[0051]另外，如圖2A的流量分配網(wǎng)絡10的圖形中所描繪的，每一個站20具有兩個局部入口 50 (a)和50 (b)，局部入口 50 (a)和50 (b)將氣體直接提供給相關(guān)的站20。在所示的實施例中，局部入口 50 (a)是歧管3的入口而局部入口 50 (b)是TEOS入口。TEOS是有時被用來形成氧化硅及相關(guān)材料的前驅(qū)體。在實踐中，這些局部入口 50 (a)和50 (b)可被采用來將許多不同氣體中的任意一種直接提供給相關(guān)的站20。
[0052]在所描繪的流量分配網(wǎng)絡10中，關(guān)注的是獨立支線的不同的站20處的質(zhì)量流率和相關(guān)沉積速率的變化性的源。此處所描述的變化性的主源在于射流元件(例如，閥、限制部件、分配管線，等等)的設計中，在一組給定的條件下，質(zhì)量流率在具有相同設計的元件和元件之間變化或者在單個元件中隨著時間變化。在閥和限制部件的實施例中，具有相同設計的元件之間的不對稱性基于制造公差(manufacturing tolerance)和其它制造變量(fabrication variation)。如果變化性的源在于流量分配管線從一條支線到另一條支線的不對稱性，那么該不對稱性可以與分配管線12的不對稱的長度、障礙物(例如，分配管線中的碎片)、配件和/或彎頭(例如，彎管)相關(guān)聯(lián)。
[0053]射流元件中的變化性往往顯示為具有相同設計的射流元件之間的流量系數(shù)Cv的值的變化。如前所述，流量系數(shù)Cv使質(zhì)量流率與跨射流元件的壓降相關(guān)聯(lián)。在所示的實施方式中，跨支線的質(zhì)量流率的變化性的主源基于支線中的可變流量元件60之間的流量系數(shù)Cv的值的變化。雖然可變流量元件60在所示實施例中被描繪為閥，但在其它實施方式中，可變流量元件可以是變化性的其它源或者可以是跨支線的變化性的源的組合。
[0054]可以是流量分配網(wǎng)絡10中的變化性的主源的閥的一個實施例是截流閥(例如，Veriflo⑧ISO 9001閥)。常規(guī)截流閥的特征的變化性可在約±10%。常規(guī)截流閥中的變化性的源可以與靠近該閥的機械致動器以及與該閥中的膜片或流量控制機構(gòu)的變形度相關(guān)聯(lián)。
[0055]在實施方式中，流量分配網(wǎng)絡10中的可變流量元件60的流量系數(shù)Cv跨支線在元件之間平均以至少約例如1%、2%、5%、10%等這樣的幅度變化。例如,每一個可變流量元件60的流量系數(shù)Cv可從標稱的Cv值以從流量分配網(wǎng)絡10中的所有的可變流量元件60計算出的至少約2%的幅度變化。
[0056]在一些實施例中，流量分配網(wǎng)絡10中的可變流量元件60的系數(shù)Cv跨支線在元件之間以至少約最小百分比(例如，2%、5%，等等)的變化幅度變化從而與站的質(zhì)量流率或沉積速率的大于最大允許變化(例如，1%、2%，等等)的變化相對應。例如，流量系數(shù)Cv的值可需要以2%的至少最小百分比的變化幅度變化從而產(chǎn)生沉積速率的大于1%的最大允許變化的變化，其中該網(wǎng)絡還未包含精確的限流器。由于沉積速率超過最大允許變化，所以通過在高度可變的射流元件下游設置可變度較小的射流元件而使流量平衡可被用來將沉積速率變化降至小于最大允許變化。
[0057]回到圖2A，流量分配網(wǎng)絡10在可變流量元件60 (a)、60 (b)、60 (c)和60 (d)的下游包括四個限制部件70。限制部件70在標稱上是相同的，具有從所有限制部件70的標稱Cv值以最大變化幅度(例如，0.5%、1%、2%、3%、4%，等等)或較小的變化幅度在支線中的部件之間變化的流量系數(shù)Cv值。標稱相同的限制部件70具有相同的設計特征，該設計特征具有可在小于例如0.5%、1%、2%、3%、4%等公差內(nèi)被制造的尺寸(例如，內(nèi)徑)，以便流量系數(shù)C v的值的最大變化不被超越。
[0058]工藝氣體流通過限制部件70下游的出口 80提供給站。在實施方式中，限制部件70將工藝氣體提供給各出口 80，各出口 80以標稱上均勻的質(zhì)量流率和/或標稱上均勻的沉積速率供應站20。標稱上均勾的速率在所有的站20從標稱速率以不超過最大允許的變化幅度(例如，1%、2%，等等)變化。例如，支線中的限制部件70可以以在出口 80之間以小于約1%的幅度變化的質(zhì)量流率提供工藝氣體。
[0059]圖2B示出了當圖2A的流量分配網(wǎng)絡10包含所述限制部件70時以及當不包含限制部件70時，在圖2A的流量分配網(wǎng)絡10中壓強如何變化。針對兩種網(wǎng)絡10計算出的壓強值被顯示在該示圖中的各個節(jié)點處。括號中的節(jié)點壓強是當網(wǎng)絡10不包括限制部件70時的壓強。括號外的節(jié)點壓強是當其包括限制部件70時的壓強。當網(wǎng)絡10包括限制部件70時，網(wǎng)絡10中的所示壓強示出了從可變流量元件60轉(zhuǎn)移到限制部件70的負載(壓降)。重要的是，在具有限制部件70 (限流器)的所示設計中，可變流量元件60中的壓降對網(wǎng)絡10中的總壓降APsystem的貢獻從56%降至9%。該壓降APsystem參考圖2C中所示的圖形進行進一步的說明。
[0060]在實施方式中，可變流量元件60對包含限制部件70的流量分配網(wǎng)絡10中的總壓降Δ Psystem平均貢獻至多約最大閥貢獻(例如，5%、10%、15%、20%，等等)。例如，可變流量元件60可跨支線平均貢獻至多約網(wǎng)絡10中的總壓降APsystem的20%。作為另一實施例，可變流量元件60可跨支線平均貢獻至多約網(wǎng)絡10中的總壓降APsystem的10%。在又一實施例中，可變流量元件60可跨支線平均貢獻至多約網(wǎng)絡10中的總壓降APsystem的5%。
[0061]在實施方式中，限制部件70對總壓降APsystem平均貢獻至少約最小貢獻(例如，3%、5%、10%、25%、50%、60%或70%)。在一實施方式中，限制部件70平均貢獻至少約3%。在另一實施方式中，限制部件70平均貢獻至少約50%。在又一實施方式中，限制部件70平均貢獻 10% 到 80%ο
`[0062]圖2Β中所示的壓強值利用Mathcad ?.模型計算。Mathcad⑧^^型包括流量分配網(wǎng)絡10從第一分支點40 (a)到在四個站20處的出口 80 (例如，噴頭歧管)的部分。所使用的氣體是12slm的N20、5slm的N2和4slm的He的混合物。該模型所使用的P、μ、Cp和k基于該混合物的性質(zhì)。Darcy-We i sbach方程被用于管子而Co I ebrook方程被用于摩擦因子。等效長度方法被用于流量分配管線12中的配件(例如，彎管，T形件)。Swagelok ?MS-06-84閥被用作為可變流量元件60的模型。所有方法假定流充分形成。Cv從測量結(jié)果計算得出(0.301-0.314)。出口壓強Poutlet是6托而溫度自始至終是25°C。
[0063]圖2C是在圖2A和2B的流量分配網(wǎng)絡10的各個節(jié)點處計算出的壓強作為距入口的距離的函數(shù)的圖形。圖2C中的圖形包括示出壓強在包含所述限制部件70的流量分配網(wǎng)絡10內(nèi)如何變化的第一曲線。該圖形還包括示出壓強在流量分配網(wǎng)絡10不包含限制部件70時在流量分配網(wǎng)絡10內(nèi)如何變化的第二曲線。在該兩種情況下，在離第一分支點最遠距離處的出口壓強是6托。在實施方式中，通過在出口歧管處具有大大超過用于該工藝的流量的抽速，出口壓強Ptjutlrt可被維持在低壓。
[0064]在不包含限制部件70的流量分配網(wǎng)絡10中，入口壓強是97.5托。特別關(guān)注的是，越過不包含限制部件70的分配網(wǎng)絡10的四條支線的每一條中的閥，壓強從約70托下降至約18.7托。入口壓強、壓降和出口壓強在每一條支線(支管)中略有變化。如前所述，閥是所述流量分配網(wǎng)絡10中的流率變化性的主源。此外，也如前面所注意到的，在沒有限制部件70的流量分配網(wǎng)絡10中的總壓降的約56%通過這些閥發(fā)生在流中。結(jié)果，這些閥中的變化性被直接轉(zhuǎn)化為輸送給每一個站20的氣體的質(zhì)量流率的變化性。且當然，質(zhì)量流率的變化性對應于沉積速率的變化性。
[0065]在包含限制部件70的流量分配網(wǎng)絡10中，入口壓強是128.7托。在該實施例中，壓強越過閥從約108托下降至約97托，而在限制部件70下游的出口處，壓強從約97托下降至約6托。在該實施例中，壓降已被轉(zhuǎn)移到限制部件70。重要的是，在具有限制部件70的設計中，閥對流量分配網(wǎng)絡10中的總壓降的貢獻從56%降至9%。此外，入口壓強從流量分配網(wǎng)絡10不包含限制部件70時的97.5托增加到流量分配網(wǎng)絡10包含限制部件70時的128.7托。將壓降轉(zhuǎn)移到限制部件70會增加總的系統(tǒng)壓降。在一些實施方式中，在增加系統(tǒng)壓降時，可采取一些步驟以避免給氣體斷開施加過壓。[0066]圖2C中的圖形還示出了可變流量元件60 (此處是閥)貢獻總壓降APsystem的第一部分(APV)而限制部件70貢獻總壓降APsystem的第二部分(Λ P,)。此外，還有來自流量分配網(wǎng)絡10的其它部件的相對較小的貢獻。當流量分配網(wǎng)絡10包含限制部件70時，壓降從可變流量元件60轉(zhuǎn)移到限制部件70。在該實施例中，來自可變流量元件60的壓降對網(wǎng)絡10中的總壓降的貢獻從56%降至9%。在實施方式中，由限制部件70平均貢獻的第二部分與由可變流量元件60平均貢獻的第一部分的比至少是比如5:1、10:1、15:1、20:1等最小值。在一些實施方式中，限制部件70可被設計來將入口壓強維持在低于最大值(例如，150托、200托、300托、400托、500托、600托，等等)。
[0067]圖2D是根據(jù)實施方式的具有四個站的流量分配網(wǎng)絡10的部件的線條圖。該流量分配網(wǎng)絡10包括將工藝氣體輸出給四個站(未圖示)的流量分配管線12的網(wǎng)絡。從入口(未圖示)將工藝氣體提供給流量分配網(wǎng)絡10。所描繪的流量分配網(wǎng)絡10在流量分配管線12中的T配件處具有三個分支點40 (a)、42 (a)和42 (b)。從入口開始，氣體在第一分支點40 (a)遇到第一個T配件，第一個T配件將氣流分成兩個部分，一個部分將氣體提供給兩個站而另一個部分將氣體提供另外兩個站。這些管線中的每一條在第一分支點40 (a)下游的T配件處具有兩個二級分支點42 (a)和42 (b)。從而，氣流被分到至相應站的四條獨立的支線中。
[0068]圖2D中所描繪的流量分配網(wǎng)絡10還包括四個可變流量元件60 (a)、60 (b)、60(c)和60 (d)，此處描繪為閥。該流量分配網(wǎng)絡10還包括可變流量元件60 (a)、60 (b)、60(c)和60 (d)下游的四個限制部件70。該流量分配網(wǎng)絡10還包括至該四個站的四個出口80。該四個限制部件70位于出口 80處或者鄰近出口 80。限制部件70在標稱上是相同的且被設計來將大部分壓降從可變度較大的流量元件轉(zhuǎn)移到可變度較小的限制部件。
[0069]圖2E是根據(jù)實施方式的具有兩個站的流量分配網(wǎng)絡10的部件的線條圖。該流量分配網(wǎng)絡10包括將工藝氣體輸出給兩個站(未圖示)的流量分配管線12的網(wǎng)絡。從入口(未圖示)將工藝氣體提供流量分配網(wǎng)絡10。該流量分配網(wǎng)絡10在T配件處具有單個分支點40 (a)。從入口 30開始，氣體在分支點40 (a)遇到第一個T形件，其將氣流分成穿過兩條支線的兩個部分。一條支線將氣體提供給一個站而另一條支線將氣體提供給另一個站。該流量分配網(wǎng)絡10還包括兩個可變流量元件60 (a)和60 (b)，此處描繪為閥。該流量分配網(wǎng)絡10還包括可變流量元件60 Ca)和60 (b)下游的兩個限制部件70。該流量分配網(wǎng)絡10還包括至該兩個站的兩個出口 80。該兩個限制部件70位于出口 80處或者鄰近出口80。限制部件70在標稱上是相同的且被設計來將大部分壓降從較多可變的流量元件轉(zhuǎn)移到可變度較小的限制部件。
[0070]應當理解的是，本文所公開的發(fā)明特征不局限于諸如圖2A、2B、2C和2D中所描繪的流量分配網(wǎng)絡10。例如，一些實施方式在各個站不使用獨立的局部站入口。另外，一些流量分配網(wǎng)絡只采用單個歧管入口。此外，雖然所示網(wǎng)絡中描繪了兩個站和四個站，但所公開的實施方式并不限于兩個和四個站。事實上，用于將可壓縮流體輸送給兩或更多個站的任何網(wǎng)絡均可被采用。相應地，雖然所示網(wǎng)絡中描繪了包括兩條支線和四條支線的分配管線的網(wǎng)絡，但所公開的實施方式可具有任意數(shù)量的支線。此外，雖然所示實施例中將可變流量元件60描繪為閥，但任何源或變化性的任何源或者變化性的源的組合可被包括。作為另一示例，一些實施方式可在網(wǎng)絡10的各部件處包括用于控制壓強的一或多個控制器以控制特定部件處的壓強和/或控制穿過網(wǎng)絡10的壓降。
[0071]圖3A和3B是流量分配網(wǎng)絡10的射流元件中的設計變更(如其可在圖2A和2B中呈現(xiàn)的)的示意圖。所述變更引入在閥和至反應器中的站20的出口 80之間的限制部件70。圖3A描繪了射流元件的不變(基準管線)的設計。圖3B描繪了在流量分配網(wǎng)絡10的支線的主流路徑中具有限制部件70的射流元件的修改版本。圖3A和3B中所描繪的兩個元件之間的唯一差別在于圖3A在向噴頭(分配網(wǎng)絡至反應站的流量出口)進給的下管道中包含限制部件70。圖3A和3B中所示的向射流元件進給的上管道是與用于圖2A和2B中的歧管3的局部入口 50 (a)相關(guān)聯(lián)的管道。限制部件70被描繪為在支線中位于閥的下游的在入口中的頸縮件(constriction)。該頸縮件被呈現(xiàn)為具有約0.09英寸的內(nèi)徑(ID)。不變的下管道的ID是約0.180英寸。在其它實施方式中，也可使用其它ID。
[0072]應當理解的是，限制部件70可被用在許多不同類型的流量分配網(wǎng)絡10中，而不僅僅被用在可具有有如圖3A和3B中所示的獨立的局部歧管入口的U形或V形設計的那些網(wǎng)絡10中。此外，應當理解的是，也可使用針對限制部件70的其它設計。
[0073]從設計的角度看，要注意的是，限制部件70被添加在閥或其它可變流量元件60的下游以便降低可變流量元件60的壓強比并疏通(un-choke)它們。進一步地，穩(wěn)定部件(consistent component)(例如，限制部件70)應是流量分配網(wǎng)絡10的每一條支線中的限制最大的射流元件。換句話說，任何支線中的大部分壓降主要發(fā)生在穩(wěn)定部件中。另外，應當以不會引起流量分配網(wǎng)絡10的總壓降APsystem的顯著增加和網(wǎng)絡10的入口壓強Pinlet的可能的顯著增加這樣的方式完成流量分配網(wǎng)絡的修改以平衡支管(支線)中的流量并將壓強負載從可變流量元件60轉(zhuǎn)移走。
[0074]設計限制部件以平衡流量
[0075]如前面所注意到的，理想的是具有這樣一種流量分配網(wǎng)絡10，其中跨流量分配網(wǎng)絡10的支線的質(zhì)量流率或沉積速率的變化性相當小，例如，小于約1%、2%等。另外，理想的是滿足該目標而無需過度增加流量分配網(wǎng)絡10中的入口壓強Pinlrt。
[0076]圖4A是示出根據(jù)實施方式通過選擇使流量平衡卻無需過度增加入口壓強Pinlrt的限制部件設計而在流量分配網(wǎng)絡10中跨支線地在低水平的變化性內(nèi)平衡流量的技術(shù)的圖形。該方法改變圖2A和2B的具有四個站的流量分配網(wǎng)絡10中的限制部件70的內(nèi)徑。結(jié)果建立在Mathcad 模型的基礎上，如前所述。
[0077]圖4A中的圖形具有兩條曲線。第一條曲線示出了在限制部件70的內(nèi)徑從0.04英寸變化到0.18英寸的過程中，四個站之間的質(zhì)量流率的變化。第二條曲線示出了在限制部件70的內(nèi)徑從0.04英寸變化到0.18英寸的過程中，該網(wǎng)絡的入口壓強。該內(nèi)徑被選定以使質(zhì)量流率的變化小于最大允許變化(在該實施例中是1%)，并維持相對較低的入口壓強。如該圖上所示，具有0.090英寸的內(nèi)徑的限制部件70在通過每一條支線提供的質(zhì)量流率的變化上提供適當小的變化，同時維持流量分配網(wǎng)絡10中的相對較低的入口壓強。
[0078]圖4B是圖4A中的圖形的一部分的更為詳細的視圖，包括針對限制部件70的內(nèi)徑從0.0895至0.0905英寸的不同值示出了四個站的質(zhì)量流率的變化的一部分第一曲線。該圖形示出了 0.09英寸附近的限制部件70的內(nèi)徑的輕微變化對質(zhì)量流率的變化的影響。圍繞0.09英寸內(nèi)徑的±0.0002英寸的實際公差示出了在±0.0002英寸的實際公差內(nèi)制造的不同限制部件70的質(zhì)量流率的變化性。較小的實際公差(例如，±0.0001英寸)可利用例如激光切割部件而獲得。[0079]圖4C是示出針對圖2A和2B的流量分配網(wǎng)絡10的從Mathcad ?模型計算得出的各個容積流率的入口壓強Pinlet的變化的圖形。該圖形包括示出了入口壓強在分配網(wǎng)絡10不包含限制部件70時在分配網(wǎng)絡10內(nèi)如何變化的第一曲線。在該實施例中，在向噴頭進給的下管道的內(nèi)徑是如圖3A中所示的0.18英寸的基準管線的值。該圖形還包括示出了入口壓強Pinlet在分配網(wǎng)絡10包含限制部件70時在分配網(wǎng)絡10內(nèi)如何針對不同的容積流率而變化的第二曲線。在該實施例中，所述內(nèi)徑是如圖3B中所示的0.09英寸。此處提供了對流量分配網(wǎng)絡中的容積流率的范圍的比較，其中slm是標準升每分鐘。如模擬的分配網(wǎng)絡所示，限制部件70的引入使入口壓強Pinlet增加了約10到50托。該增加剛好在公差范圍內(nèi)。[0080]壅塞流[0081]當根據(jù)方程2a，上游壓強Pin與下游壓強Ptjut的比等于或大于臨界壓強比P*(在方程I中進行定義)時，可壓縮流體中的壅塞流可發(fā)生在射流元件(例如，閥、限制部件，等等)中。當基于方程個比小于臨界壓強比P*時，未壅塞流發(fā)生。針對壅塞流和未壅塞流的流率Q分別在方程2b和3b中被示出。如所示，系數(shù)Cv使流率Q與射流元件中的壓強相關(guān)。
【權(quán)利要求】
1.一種用于將工藝氣體供應給多站沉積室中的兩或更多個站的流量分配網(wǎng)絡，所述流量分配網(wǎng)絡包括: 用于接收所述工藝氣體的入口； 用于運載所述工藝氣體的流量分配管線的網(wǎng)絡，其包括所述入口下游的分支點和所述分支點下游的兩或更多條支線，其中每一條支線具有用于將工藝氣體供應給相應的站的出Π ； 每一條支線中的具有Cv值的可變流量元件，該Cv值跨所述支線從元件到元件以至少約2%的幅度變化；以及 每一條支線中的所述可變控制元件下游的限制部件，其中所述限制部件在標稱上是相同的， 其中從所述入口到所述出口，所述工藝氣體的流跨所述流量分配網(wǎng)絡產(chǎn)生系統(tǒng)壓降，該系統(tǒng)壓降至少與所述出口處的壓強一樣大 。
2.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述可變流量元件操作在所述未壅塞流態(tài)中。
3.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述限制部件產(chǎn)生跨所述限制部件的占所述系統(tǒng)壓降的平均至少約3%的壓降。
4.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述限制部件產(chǎn)生跨所述限制部件的占所述系統(tǒng)壓降的平均至少約50%的壓降。
5.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述限制部件產(chǎn)生跨所述限制部件的占所述系統(tǒng)壓降的平均在10%和80%之間的壓降。
6.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述可變流量元件產(chǎn)生跨所述可變流量元件的占所述流量分配網(wǎng)絡中的總壓降的平均至多約10%的壓降。
7.如權(quán)利要求1所述流量分配網(wǎng)絡，其中所述可變流量元件產(chǎn)生跨所述可變流量元件的占所述流量分配網(wǎng)絡中的總壓降的平均至多約5%的壓降。
8.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述可變流量元件平均地產(chǎn)生所述流量分配網(wǎng)絡中的所述壓降的第一部分而所述限制部件平均地產(chǎn)生所述流量分配網(wǎng)絡中的所述壓降的第二部分，且其中所述第二部分與所述第一部分之比在約5:1至約20:1之間。
9.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述可變流量元件產(chǎn)生質(zhì)量流率，當每一個元件經(jīng)歷實質(zhì)上相同的壓降時，該質(zhì)量流率跨所述支線從元件到元件平均以至少約2%的幅度變化。
10.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述支線中的所述限制部件具有Cv值，該Cv值跨所述支線從部件到部件平均以1%或更小的幅度變化。
11.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述支線中的所述限制部件具有Cv值，該Cv值跨所述支線從部件到部件平均以4%或更小的幅度變化。
12.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其中每一條支線中的所述可變流量元件包括閥。
13.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述限制部件是所述可變控制元件下游的相關(guān)流量分配管線中的限制件。
14.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述限制部件將工藝氣體以標稱上均勻的質(zhì)量流率提供給給站供應的各出口。
15.如權(quán)利要求14所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述標稱上均勻的質(zhì)量流率在出口之間以小于約1%的幅度變化。
16.如權(quán)利要求14所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述標稱上均勻的質(zhì)量流率在出口之間以小于約2%的幅度變化。
17.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其進一步包括與所述入口和所述出口通信的控制器以控制所述系統(tǒng)壓降。
18.如權(quán)利要求1所述的流量分配網(wǎng)絡，其中所述入口壓強小于約200托。
19.一種平衡至多站沉積室中的兩或更多個站的流量的方法，所述方法包括: 在入口處接收工藝氣體； 通過流量分配管線的網(wǎng)絡運載工藝氣體，所述流量分配管線的網(wǎng)絡包括入口下游的分支點和所述分支點下游的兩或更多條支線，每條支線具有有Cv值的可變流量元件，該Cv值跨所述支線從元件到元件以至少約2%的幅度變化； 通過每一條支線中的出口將工藝氣體供應給相應的站； 將限制部件設置在每條支線中的每個可變控制元件的下游，其中所述限制部件跨所述支線在標稱上是相同的；以 及 從入口到所述出口，產(chǎn)生跨所述流量分配網(wǎng)絡的系統(tǒng)壓降，該系統(tǒng)壓降至少與所述出口處的壓強一樣大。
20.如權(quán)利要求19所述的方法，其進一步包括使所述可變流量元件操作在未壅塞流態(tài)中。
21.如權(quán)利要求19所述的方法，其中產(chǎn)生系統(tǒng)壓降包括由所述限制部件產(chǎn)生跨所述限制部件的占所述系統(tǒng)壓降的平均在10%和80%之間的壓降。
22.如權(quán)利要求19所述的方法，其中產(chǎn)生系統(tǒng)壓降包括由所述可變流量元件產(chǎn)生跨所述流量可變元件的占所述流量分配網(wǎng)絡中的總壓降的平均至多約10%的壓降。
23.如權(quán)利要求19所述的方法，其中產(chǎn)生系統(tǒng)壓降包括: 由所述可變流量元件平均地產(chǎn)生所述壓降的第一部分；以及 由所述限制部件平均地產(chǎn)生所述壓降的第二部分，其中所述第二部分與所述第一部分之比在約5:1至約20:1之間。
24.如權(quán)利要求19所述的方法，其中所述支線中的所述限制部件具有Cv值，該Cv值跨所述支線從部件到部件平均以1%或更小的幅度變化。
25.如權(quán)利要求19所述的方法，其進一步包括通過所述限制部件將工藝氣體以標稱上均勻的質(zhì)量流率提供給給站供應的各出口。
26.如權(quán)利要求25所述的方法，其中所述標稱上均勻的質(zhì)量流率在出口之間以小于約1%的幅度變化。
27.如權(quán)利要求19所述的方法，其中產(chǎn)生所述系統(tǒng)壓降包括通過與所述入口和所述出口通信的控制器控制所述系統(tǒng)壓降。
【文檔編號】F17D1/04GK103591458SQ201310361997
【公開日】2014年2月19日 申請日期:2013年8月19日 優(yōu)先權(quán)日:2012年8月17日
【發(fā)明者】杰弗里·沃馬克, 史蒂芬·勞 申請人:諾發(fā)系統(tǒng)公司