專利名稱：等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試方法及其裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種保護膜性能測試方法及其裝置，尤其是一種等離子 顯示屏保護膜的性能測試的方法及其裝置，具體的說是等離子顯示屏保 護膜耐濺射性測試方法及其裝置。
背景技術：
目前，在等離子顯示屏(PDP)技術中，惰性放電氣體被密封在分別 具有掃描電極和尋址電極的前、后基板中，放電氣體被電離成等離子體， 在此電離過程中放電氣體被激發發射出紫外線，并且紫外線激發在特定 位置放置的熒光粉發射可見光。
在前、后基板的掃描電極和尋址電極的表面需要形成一層厚度約 20 30txm的介質層，儲存壁電荷以維持氣體放電，同時也起絕緣作用。 當電極間被施加特定波形的高頻交流電壓時，放電氣體被電離成等離子 體，陽離子會射向陰極電極，而制作介質層的材料，通常耐離子轟擊能 力很差。為了不使介質層被離子轟擊而迅速破壞，在介質層表面還需要 再覆蓋一層保護膜，以保護介質層不受陽離子的轟擊。由于保護膜直接 和放電氣體接觸，保護膜的電氣性能對等離子顯示屏的性能也有很大影 響，這種保護膜要有很高的耐濺射性。目前，測試保護膜的耐濺射性，通常有兩種方法
第一種方法，是直接通過長時間點亮等離子顯示屏來測試保護膜的 耐濺射性，在等離子顯示屏封屏前測量保護膜的厚度，將等離子屏接到 老煉電路上，用高于正常驅動電路頻率的電路來點亮等離子屏。在經過 長時間的老煉后，打開等離子屏，再次測量保護膜的厚度，用封屏前測 得的厚度值減掉老煉后測得的厚度值可以得到保護膜被離子轟擊濺射掉 的厚度。
這種方法需要經過數千小時的老煉才可以得到結果，不能及時的獲 知測試結果，效率不高。
第二種方法，將保護膜制備在玻璃基片上，測量保護膜的厚度，然 后將玻璃基片放置到離子源下，在真空室里用離子源轟擊玻璃基片，經 過一定時間后再測量被轟擊過的保護膜厚度，對比兩次測量厚度差可以 得到被離子轟擊掉的保護膜厚度。
這種方法的采用的離子源轟擊的模式和保護膜在等離子屏里面受離 子轟擊的模式完全不同。由于保護膜材料是絕緣體，在受到離子轟擊后 表面會積累正電荷而排斥后續離子，因此需要大幅度提高離子束強度， 這樣測試得到的結果不能完全代表保護膜的性能，測試結果不準確。
發明內容
本發明目的是針對目前測試等離子顯示屏保護膜的耐濺射性的方 法，所存在的測試周期過長，測試模式與保護膜實際工作模式差別過大 造成效率低、測試結果不準確的問題，提供了一種可以高效高速并且測 試方法模式與保護膜實際工作模式類似的等離子顯示屏保護膜耐濺射性 測試方法及其裝置。
本發明的技術方案是
一種等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試方法，其特征是它包括以下 步驟
a. 在玻璃基片上鍍制保護膜
b. 在鍍有保護膜的玻璃基片上貼敷特定形狀的金屬掩膜，保護膜的 一部分被貼敷的金屬掩膜覆蓋，另一部分沒有被貼敷的金屬掩膜覆蓋，
將貼敷有金屬掩膜的玻璃基片放在射頻濺射鍍膜機的靶位置上；
c. 打開射頻濺射鍍膜機的節流閥引入工作氣體；
d. 打開射頻濺射鍍膜機開始放電，工作氣體受激發產生工作氣體離 子對貼敷有金屬掩膜的玻璃基片進行高頻離子濺射；
e. 濺射一段時間后，將去除金屬掩膜的玻璃基片放到表面形貌測定 儀上測量被金屬掩膜覆蓋部分和未被金屬掩膜覆蓋的保護膜的厚度差；
f. 用厚度差除以濺射時間，得到保護膜的濺射率，從而完成保護膜 耐濺射性的測試。
本發明所述的等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試方法，其特征是所 述的射頻濺射鍍膜機的濺射頻率可為100KHz，濺射能量密度不低于
薩/cm'。
本發明所述的等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試方法，其特征是所 述的工作氣體為惰性氣體，可為氬氣。
本發明所述的等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試方法，其特征是所 述的金屬掩膜厚度為lum。
本發明所述的等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試方法，其特征是所 述的表面形貌測定儀測量精度不低于1nm。
一種等離子顯示屏保護膜耐濺射性的測試裝置，其特征是它包括射 頻濺射鍍膜機、循環冷水裝置、靶、電極和節流閥，靶安裝在射頻濺射 鍍膜機的腔體內，電極安裝在靶的上側，循環冷水裝置安裝在電極的上 側，節流閥安裝在射頻濺射鍍膜機的外殼上。
本發明的有益效果
1、 本發明采用射頻濺射鍍膜機，可以較近似的模擬等離子顯示屏保 護膜的工作狀態，能夠高效、準確的進行保護膜耐濺射性的測試。
2、 本發明采用金屬掩膜覆蓋部分保護膜，使被覆蓋的部分完全不受 離子濺射，這樣測量被濺射掉的厚度值準確性。
3、 本發明采用高頻濺射鍍膜方法模擬等離子屏保護膜受離子轟擊的 模式，兩種狀態工作原理基本相同，由于采用高頻電場，無需考慮由于 保護膜為絕緣體，受離子轟擊后一段時間會產生正電荷積累而排斥后續 正離子的現象。可以自由選擇離子轟擊能量，真實的反應出保護膜的耐濺射性能，測試結果準確，高速高效。
圖1是本發明的等離子顯示屏保護膜耐濺射性的測試示意圖。 圖2是本發明的等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試裝置示意圖。
具體實施例方式
下面結合附圖l-2和實施例對本發明作進一步的說明。
一種等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試方法，其特征是它包括以下
步驟
a. 在玻璃基片1上鍍制保護膜2;
b. 在鍍有保護膜2的玻璃基片1上貼敷特定形狀的金屬掩膜4，保 護膜2的一部分被貼敷的金屬掩膜4覆蓋，另一部分沒有被貼敷的金屬 掩膜4覆蓋，將貼敷有金屬掩膜4的玻璃基片1放在射頻濺射鍍膜機3 的靶6位置上；
c. 打開射頻濺射鍍膜機3的節流閥10引入工作氣體；
d. 打開射頻濺射鍍膜機3開始放電，工作氣體受激發產生工作氣體 離子8對貼敷有金屬掩膜4的玻璃基片1進行高頻離子濺射；
e. 濺射一段時間后，將去除金屬掩膜4的玻璃基片1放到表面形貌 測定儀上測量被金屬掩膜4覆蓋部分和未被金屬掩膜4覆蓋的保護膜2 的厚度差；
f.用厚度差除以濺射時間，得到保護膜的濺射率，從而完成保護膜 耐濺射性的測試。
一種等離子顯示屏保護膜耐濺射性的測試裝置，其特征是它包括射
頻濺射鍍膜機3、循環冷水裝置5、靶6、電極7和節流閥10，靶6安裝 在射頻濺射鍍膜機3的腔體內，電極7安裝在靶6的上側，循環冷水裝 置5安裝在電極7的上側，節流閥10安裝在射頻濺射鍍膜機3的外殼上。
具體實施時
首先將保護膜2制備在玻璃基片1上，保護膜2厚度約1000 1500rnn，然后在保護膜2表面貼敷一層厚度較厚，濺射產額很低的金屬 掩膜4，利用部分遮擋，使部分保護膜2的表面完全沒有被金屬掩膜4 覆蓋。其次，將玻璃基片1安裝到射頻濺射鍍膜機3的靶6位置上，靶 6上裝有循環冷水裝置5，可以調整靶6的溫度，使之與實際等離子屏工 作狀態下溫度相當，同時該射頻濺射鍍膜機3帶有高頻濺射功能，從節 流閥10引入工作氣體氬氣，氣體壓強為67Pa，可以施加100KHz的高頻 電場于靶6下方的電極7上，同時為保證一定的離子轟擊能量，濺射能 量密度10W/cm2。然后打開射頻濺射鍍膜機3開始放電，產生工作氣體離 子8，使其以幾百電子伏特的能量轟擊位于靶6上的玻璃基片1，當濺射 在設定功率下進行一定時間后，停止濺射并取出玻璃基片1。最后，將 貼敷在玻璃基片1上的金屬掩膜4去除掉，使用測量精度為lrini的表面 形狀測定儀9測量被金屬掩膜4覆蓋的部分和未被掩膜覆蓋的保護膜2
的高度差，將此值除以濺射時間就可以得到此種保護膜的濺射率，對不 同種類的保護膜進行相同測試條件下的對比就可以評價不同保護膜的耐 濺射性。
本發明未涉及部分均與現有技術相同或可采用現有技術加以實現。
權利要求
1、一種等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試方法，其特征是它包括以下步驟a.在玻璃基片(1)上鍍制保護膜(2)；b.在鍍有保護膜(2)的玻璃基片(1)上貼敷特定形狀的金屬掩膜(4)，保護膜(2)的一部分被貼敷的金屬掩膜(4)覆蓋，另一部分沒有被貼敷的金屬掩膜(4)覆蓋，將貼敷有金屬掩膜(4)的玻璃基片(1)放在射頻濺射鍍膜機(3)的靶(6)位置上；c.打開射頻濺射鍍膜機(3)的節流閥(10)引入工作氣體；d.打開射頻濺射鍍膜機(3)開始放電，工作氣體受激發產生工作氣體離子(8)對貼敷有金屬掩膜(4)的玻璃基片(1)進行高頻離子濺射；e.濺射一段時間后，將去除金屬掩膜(4)的玻璃基片(1)放到表面形貌測定儀上測量被金屬掩膜(4)覆蓋部分和未被金屬掩膜(4)覆蓋的保護膜(2)的厚度差；f.用厚度差除以濺射時間，得到保護膜的濺射率，從而完成保護膜耐濺射性的測試。
2、 權利要求書1所述的等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試方法，其特征 是所述的射頻濺射鍍膜機(3)的濺射頻率可為lOOKHz，濺射能量密度不 低于10W/cm2。
3、 權利要求書1所述的等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試方法，其特征 是所述的工作氣體為惰性氣體，可為氬氣。
4、 權利要求書1所述的等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試方法，其特征是所述的金屬掩膜(4)厚度為1 P m。
5、 權利要求書1所述的等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試方法，其特征 是所述的表面形貌測定儀測量精度不低于lnm。
6、 一種等離子顯示屏保護膜耐濺射性的測試裝置，其特征是它包括射頻 濺射鍍膜機(3)、循環冷水裝置(5)、靶(6)、電極(7)和節流閥(10)，耙(6) 安裝在射頻濺射鍍膜機(3)的腔體內，電極(7)安裝在靶(6)的上側，循環冷 水裝置(5)安裝在電極(7)的上側，節流閥(10)安裝在射頻濺射鍍膜機(3)的外殼上。
全文摘要
本發明的等離子顯示屏保護膜耐濺射性測試方法及其裝置，其特征是在鍍有一定厚度的保護膜(2)的玻璃基片(1)上覆蓋具有特定形狀的金屬掩膜(4)，將玻璃基片(1)放入射頻濺射鍍膜機(3)中的靶(6)位置上以高頻濺射一定時間后，測量被金屬掩膜(4)遮擋的區域和未遮擋區域的保護膜(2)厚度差，可以計算出濺射速率，從而得出保護膜耐濺射性評估方法。本發明可以高效、準確的測試等離子顯示屏保護膜的耐濺射性能，并且測試原理與等離子屏的工作原理較近似，結果可信度高。
文檔編號G01N33/00GK101339175SQ20081002251
公開日2009年1月7日 申請日期2008年8月14日 優先權日2008年8月14日
發明者孫青云, 朱立鋒, 霞 李, 林青園, 王保平 申請人:南京華顯高科有限公司