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一種基于激光準直原理的二維位移測量裝置的制作方法

文檔序號:11985417閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種基于激光準直原理的二維位移測量裝置,包括光學基準模塊、位移測量模塊,所述光學基準模塊固定在基準面上,所述位移測量模塊安裝于被測物上,其特征在于所述光學基準模塊包括調節支座和固定在其上的激光發生器,所述位移測量模塊為二維位移測量盒,包括光擴散板、光電晶體管陣列、掃描電路、AD采集電路、MCU處理器和4G網絡模塊,所述光擴散板置于光電晶體管陣列前方,所述光電晶體管陣列、掃描電路、AD采集電路、MCU處理器、4G網絡模塊依次連接。

2.根據權利要求1所述的基于激光準直原理的二維位移測量裝置,其特征在于所述的二維位移測量裝置還包括工程監測機,所述二維位移測量盒通過4G網絡模塊與工程監測機之間通過無線網絡連接。

3.根據權利要求2所述的基于激光準直原理的二維位移測量裝置,其特征在于所述工程監測機為固定式或移動式數據終端。

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