專利名稱：線光源輻照度分布模擬方法及系統的制作方法
技術領域：
本發明涉及光源技術領域，特別是涉及線光源輻照度分布模擬方法及系統。
背景技術：
長弧氣體燈可近似視為線光源，在以長弧氣體燈為光源的設備中輻照度分布是一個重要指標。采用實測的方法來研究其輻照度分布不太可行，因為長弧氣體燈系統比較復雜，其中涉及到觸發、恒功率控制、調光、測光、冷卻等諸多環節，如果是多燈系統，其復雜程度則成比例增加。另外，觸發時，需要幾萬伏的高壓，有一定的危險性；系統工作時，水電的消耗量都比較大。因此，如果用軟件模擬的方法來研究其輻照度分布，可以大大降低復雜性、加快研究速度、降低危險性、減少能耗。目前沒有發現現成的模擬軟件能夠簡明直觀地模擬多個線光源的輻照度分布，因此迫切需要一個軟件能模擬單個或多個線光源的輻照度分布，并直觀的顯示出來，同時各個線光源的強度、尺寸、位置均可靈活調整。

發明內容
為解決上述問題，本發明提供一種可以簡單快捷地得出線光源輻照度分布模擬的方法。本發明的另一個目的是提供一種線光源輻照度分布模擬系統。本發明解決其技術問題所采用的技術方案是線光源輻照度分布模擬方法，包括以下步驟A、設置線光源的數量、輻射功率、發光長度、位置坐標；B、設置樣品長度、位置坐標；C、根據實際需要選擇數學模型，然后根據相應的線光源輻照度公式計算得出輻照度分布數據；D、繪制并顯示輻照度分布圖。進一步，還包括以下步驟E、顯示任一鼠標光標所在點的輻照度數據；F、統計樣品受光面上的輻照度平均值、不均勻度、最大值和最小值。進一步，所述步驟A中所有線光源位于同一平面內，且平行或共線。進一步，所述輻照度分布圖可以是等輻照度線或漸變圖。進一步，所述線光源位置坐標與樣品位置坐標由X坐標和Y坐標組合表示，輻照度分布圖中設有X，Y垂直坐標系，X坐標表示距離Y軸的值，Y坐標表示距離X軸的值。進一步，所述步驟C中不考慮受光角度影響下，線光源輻照度公式為單個線光源對樣品受光表面任意一點的輻照度為
權利要求
1.線光源輻照度分布模擬方法，其特征在于包括以下步驟A、設置線光源的數量、輻射功率、發光長度、位置坐標；B、設置樣品長度、位置坐標；C、根據實際需要選擇數學模型，然后根據相應的線光源輻照度公式計算得出輻照度分布數據；D、繪制并顯示輻照度分布圖。
2.根據權利要求1所述的線光源輻照度分布模擬方法，其特征在于還包括以下步驟E、顯示任一鼠標光標所在點的輻照度數據；F、統計樣品受光面上的輻照度平均值、不均勻度、最大值和最小值。
3.根據權利要求1所述的線光源輻照度分布模擬方法，其特征在于所述步驟A中所有線光源位于同一平面內，且平行或共線。
4.根據權利要求1所述的線光源輻照度分布模擬方法，其特征在于所述輻照度分布圖可以是等輻照度線或漸變圖。
5.根據權利要求1所述的線光源輻照度分布模擬方法，其特征在于所述線光源位置坐標與樣品位置坐標由χ坐標和Y坐標組合表示，輻照度分布圖中設有X，Y垂直坐標系，X 坐標表示距離Y軸的值，Y坐標表示距離X軸的值。
6.根據權利要求1所述的線光源輻照度分布模擬方法，其特征在于所述步驟C中不考慮受光角度影響下，線光源輻照度公式為單個線光源對樣品受光表面任意一點的輻照度為
7.根據權利要求1所述的線光源輻照度分布模擬方法，其特征在于所述步驟C中考慮受光角度影響下，線光源輻照度公式為單個線光源對樣品受光表面任意一點的輻照度為
8.線光源輻照度分布模擬系統，其特征在于包括線光源數據設置模塊，用于設置線光源的數量、輻射功率、發光長度、位置坐標； 樣品數據設置模塊，用于設置樣品長度、位置坐標；數據處理分析模塊，用于根據實際需要選擇數學模型，然后根據相應的線光源輻照度公式計算得出輻照度分布數據；繪制顯示模塊，用于繪制并顯示輻照度分布圖。
9.根據權利要求8所述的線光源輻照度分布模擬系統，其特征在于還包括 鼠標光標數據模塊，用于顯示任一鼠標光標所在點的輻照度數據；數據統計模塊，用于統計樣品受光面上的輻照度平均值、不均勻度、最大值和最小值。
全文摘要
本發明公開了一種線光源輻照度分布模擬方法及系統，該方法包括設置線光源的數量、輻射功率、發光長度、位置坐標；設置樣品長度、位置坐標；根據實際需要選擇數學模型，然后根據相應的線光源輻照度公式計算得出輻照度分布數據；繪制并顯示輻照度分布圖。該系統包括線光源數據設置模塊；樣品數據設置模塊；數據處理分析模塊；繪制顯示模塊。本發明方法及系統避免了實測方法研究輻照度的高成本、復雜性以及危險性，形象直觀地得出了所需要的圖形及數據，效率高且方便快捷，作為一種線光源輻照度分布模擬方法及系統廣泛運用于光源實驗研究中。
文檔編號G06F19/00GK102520923SQ201110366319
公開日2012年6月27日 申請日期2011年11月17日 優先權日2011年11月17日
發明者周彥宇 申請人:廣州合成材料研究院有限公司