本申請要求于2015年7月29日提交的韓國專利申請第10-2015-0107497號的優先權，如同在本文中完全闡述一樣，出于所有目的將其全部內容并入本文中。

技術領域

實施方式涉及有機發光顯示裝置，并且更具體地，涉及可以使用設置在輔助電極上的堤岸圖案(bank pattern)和障壁(barrier rib)而制造成為大尺寸的有機發光顯示裝置。

背景技術：

隨著以信息為導向的社會的進步，對于用于顯示圖像的顯示裝置的各種需求日益增加。近來，已經使用了各種類型的顯示裝置，例如液晶顯示器(LCD)裝置、等離子體顯示面板(PDP)裝置或者有機發光顯示(OLED)裝置。這樣的顯示裝置各自包括對于其適合的顯示面板。

在顯示面板中，在每個像素區域中形成有薄膜晶體管，并且通過薄膜晶體管中的電流來控制顯示面板中的特定像素區域。薄膜晶體管包括柵電極和源電極/漏電極。

在OLED裝置中，在兩個不同的電極之間形成有發光層，并且當由電極中的一個電極生成的電子和由另一個電極生成的空穴被注入到發光層中時，經注入的電子和空穴組合成激子。當所生成的激子從激發態轉換為基態時，發出光以顯示圖像。

這樣的OLED裝置在被制造成小的尺寸時不存在問題。然而，當被制造成大的尺寸時，OLED裝置具有亮度不均勻的問題以及具有在周圍區域與中央區域之間的亮度差。更具體地，如果電流從有機發光元件的陰極電極流動至周圍區域與中央區域之間的空間，則電流可以遠離電流注入點。在這種情況下，由于有機發光元件的陰極電極的電阻而出現電壓降，這造成周圍區域與中央區域之間的亮度差。

即，在具有大尺寸的常規OLED裝置中，由于有機發光元件的上電極的電阻造成的周圍部分與中央部分之間的亮度差，亮度均勻性大幅降低。由此，常規OLED裝置需要手段來補償亮度差。

因此，已經引入了可以與陰極電極接觸的輔助電極(或輔助線)，以解決電壓降的問題。然而，由于在輔助電極上形成有有機材料，所以陰極電極和輔助電極難以彼此接觸。此外，有機材料部分地形成為大的厚度，并且由此，可能生成漏電流。

此外，近來，已經嘗試通過在輔助電極上提供障壁來解決該問題。然而，額外地需要用于形成障壁的過程。因此，對于用于在沒有附加過程的情況下抑制漏電流并且使陰極電極接觸輔助電極的方法存在需求。

技術實現要素：

示例性實施方式的一個方面提供了一種有機發光顯示裝置，其可以抑制當被制造為大的尺寸時由陰極的電阻造成的電壓降，并且還可以抑制漏電流的生成并且簡化了過程。

根據本公開的一個方面，提供了一種有機發光顯示裝置，包括：基板；第一電極和輔助電極，其設置在基板上；堤岸圖案，其設置在第一電極的一部分上和輔助電極的一部分上，并且被劃分成第一區域和設置在第一區域下方的第二區域；障壁，其設置在輔助電極的上表面的一部分上，并且被劃分成具有倒錐形形狀的第三區域以及在第三區域下方并具有錐形形狀的第四區域；有機發光層，其設置在除了相鄰于障壁的輔助電極的區域之外的基板上；以及第二電極，其設置在有機發光層上，并且與輔助電極接觸。

本文中，障壁的第三區域的最大寬度可以大于障壁的第四區域的最大寬度。此外，堤岸圖案的第一區域具有倒錐形形狀，并且堤岸圖案的第二區域具有錐形形狀。

此外，有機發光層包括第一非設置區域至第三非設置區域。本文中，有機發光層的第一非設置區域對應于堤岸圖案的兩個側表面的部分區域。有機發光層的第二非設置區域對應于障壁的第三區域的兩個側表面。有機發光層的第三非設置區域對應于障壁的第四區域的兩個側表面以及輔助電極的上表面的通過有機發光層露出的部分。

根據示例性實施方式，在具有大尺寸的有機發光顯示裝置中，陰極電極和輔助電極可以容易地彼此接觸。由此，可以抑制由陰極電極的電阻造成的電壓降。

此外，根據示意性實施方式，在有機發光顯示裝置中，有機發光層包括：第一非設置區域，其在堤岸圖案的第三區域的側表面的一部分上。由此，可以抑制由有機發光層的厚度的變化造成的漏電流，并且可以簡化形成障壁的過程。

附圖說明

將結合附圖從下面的詳細描述中更清楚地理解本公開的以上和其他方面、特征和其他優點，在附圖中：

圖1是簡單地示出根據示例性實施方式的有機發光顯示裝置的視圖；

圖2是簡單地示出根據另一示例性實施方式的有機發光顯示裝置的視圖；

圖3是根據本公開的示例性實施方式的有機發光顯示裝置的平面圖；

圖4是沿根據本公開的示例性實施方式的有機發光顯示裝置的線A-A’截取的截面圖；

圖5是示出根據本公開的示例性實施方式的有機發光顯示裝置的堤岸圖案和障壁的視圖；

圖6A至圖6C是示出本公開的堤岸圖案和障壁的制造方法的視圖；

圖7是示出根據本公開的另一示例性實施方式的有機發光顯示裝置的堤岸圖案和障壁的視圖；

圖8是根據本公開的又一實施方式的有機發光顯示裝置的截面圖；

圖9是示出根據示例性實施方式的子像素與輔助電極之間的設置關系的平面圖；

圖10是示出根據另一示例性實施方式的子像素與輔助電極之間的設置關系的平面圖；以及

圖11是示出根據又一示例性實施方式的子像素與輔助電極之間的設置關系的平面圖。

具體實施方式

下文中，將參照附圖詳細描述本公開的示例性實施方式。下文中引入的示例性實施方式被提供作為示例，以將其精神傳達給本領域普通技術人員。因此，本公開不限于下面的示例性實施方式，而是可以以不同的形狀實施。此外，在附圖中出于便捷的原因，裝置的尺寸和厚度可能被表現為是夸大的。遍及本說明書中，相同的附圖標記一般指示相同的元件。

從下面參照附圖描述的示例性實施方式中將更清楚地理解本公開的優點和特征以及用于實現該優點和特征的方法。然而，本公開不限于下面的示例性實施方式，而是可以以各種不同的形式實施。示例性實施方式僅提供以完成對本公開的公開，以及向本公開所屬領域的普通技術人員提供本發明的類別，并且本公開將由所附權利要求限定。遍及本說明書中，相同的附圖標記通常指代相同的元件。在附圖中，為了清楚，層和區的尺寸和相對尺寸可以夸大。

當元件或層被稱為在另一元件或層“上”時，其可以直接在另一元件或層上，或者可以存在中間元件或層。同時，當元件被稱為“直接在”另一元件“上”時，不能存在任何中間元件。

為了描述方便，如附圖中所示，空間關系術語如“下方”、“以下”、“下”、“上方”以及“上”在本文中可以用來描述一個元件或多個部件與其他(一個或多個)元件或(一個或多個)部件的關系。應理解的是，除了圖中所描繪的定向之外，空間關系術語旨在包括使用或操作的元件的不同定向。例如，如果附圖中的元件被翻轉，則被描述在在其他元件“下方”或“以下”的元件接著會被定向為在所述其他元件“上方”。由此，示例性術語“下方”可以包括上方和下方的方向兩者。

本文中使用的術語僅提供用于對示例性實施方式的說明而不旨在限制本公開。如本文中所使用的，除了上下文另有明確指示，否則單數術語包括復數形式。術語“包含”和/或“包括”指定所闡述的部件、步驟、操作和/或元件的存在，但不排除一個或更多個其他部件、步驟、操作和/或元件的存在或添加。

圖1是簡單地示出根據示例性實施方式的有機發光顯示裝置的視圖。參照圖1，根據示例性實施方式的有機發光顯示裝置10包括基板100、柵極驅動器GD、多個柵極線GL、數據驅動器DD、多個數據線DL、輔助電極130以及多個子像素SP。

基板100可以是由塑料、玻璃、陶瓷等形成的絕緣基板。如果基板100由塑料形成，則基板100可以是柔性的。然而，基板100的材料不限于此。基板100可以由金屬形成。

此外，柵極驅動器GD向多個柵極線GL依次供應掃描信號。例如，柵極驅動器GD是控制電路，并且響應于從定時控制器(未示出)供應的控制信號向多個柵極線GL供應掃描信號。接著，根據掃描信號來選擇子像素SP，并且依次向子像素SP供應數據信號。

多個柵極線GL設置在基板100上，并且沿第一方向延伸。柵極線GL包括多個掃描線SL1至SLn。多個掃描線SL1至SLn連接至柵極驅動器GD，并且被供應有來自柵極驅動器GD的掃描信號。

此外，數據驅動器DD響應于從外部(如定時控制器(未示出))供應的控制信號向選自數據線DL中的數據線DL1至DLm供應數據信號。每當掃描信號被供應至掃描線SL1至SLn時，供應至數據線DL1至DLm的數據信號就被供應至根據掃描信號選擇的子像素SP。由此，子像素SP充有與數據信號對應的電壓，并且以與其對應的亮度發光。

本文中，數據線DL沿第二方向設置，以與柵極線GL交叉。此外，數據線DL包括多個數據線DL1至DLm，并且包括驅動電源線VDDL。此外，多個數據線DL1至DLm連接至數據驅動器DD，并且被供應有來自數據驅動器DD的數據信號。此外，驅動電源線VDDL連接至外部的第一電源VDD，并且被供應有來自第一電源VDD的驅動電力。

同時，有機發光顯示裝置分為頂部發光有機發光顯示裝置、底部發光有機發光顯示裝置以及雙發光有機發光顯示裝置。本文中，在任何類型的有機發光顯示裝置中，在具有大尺寸的顯示面板的整個表面上形成陰極電極時，可能出現陰極電極的電壓降。由此，為了解決該問題，可以在非發光區域中形成輔助電極或輔助線。在下文中，將在下面的示例性實施方式中描述頂部發光顯示裝置。然而，本公開的示例性實施方式不限于頂部發光顯示裝置，而是可以應用于能夠抑制陰極電極的電壓降的任何顯示裝置。

輔助電極130可以設置在基板100上，以與多個數據線DL1至DLm平行。即，輔助電極130可以沿第二方向設置。本文中，雖然在附圖中未示出，但是可以進一步設置更多的與數據線DL1至DLm平行的輔助線。

輔助電極130不限于此，而是可以設置在基板100上以與多個掃描線SL1至SLn平行。即，輔助電極130可以沿第一方向設置。由于輔助電極130，有機發光顯示裝置10可以響應于有機發光元件(未示出)的陰極電極(未示出)的電阻以及周圍部分與中央部分之間所產生的亮度差而抑制電壓降。

下文中，將參照圖2描述根據本發明的另一示例性實施方式的有機發光顯示裝置。圖2是簡單地示出根據另一示例性實施方式的有機發光顯示裝置的視圖。根據本公開的另一示例性實施方式的有機發光顯示裝置可以包括與上述示例性實施方式的部件相同的部件。可以省略其多余的描述。此外，相同的部件將被分配相同的附圖標記。

參照圖2，有機發光顯示裝置20包括：多個掃描線SL1至SLn，其沿第一方向設置在基板100上；以及數據線DL1至DLm，其沿第二方向設置以與掃描線SL1至SLn交叉。此外，有機發光顯示裝置20包括設置在基板上的多個輔助電極230。

具體地，有機發光顯示裝置20包括設置為與多個掃描線SL1至SLn平行的多個第一輔助電極231以及設置為與多個數據線DL1至DLm平行的多個第二輔助電極232。即，輔助電極230可以以網狀形式設置在基板100上。因此，輔助電極230可以設置為各種形狀。此外，雖然在附圖中未示出，但是可以進一步設置與數據線DL1至DLm平行的輔助線。由于輔助電極230，有機發光顯示裝置20可以響應于有機發光元件(未示出)的陰極電極(未示出)的電阻以及周圍部分與中央部分之間所產生的亮度差而抑制電壓降。

下文中，將參照圖3至圖7來詳細描述包括輔助電極和輔助線的有機發光顯示裝置。

圖3是根據本公開的示例性實施方式的有機發光顯示裝置的平面圖。圖4是沿根據本公開的示例性實施方式的有機發光顯示裝置的線A-A’截取的截面圖。圖5是示出根據本公開的示例性實施方式的有機發光顯示裝置的堤岸圖案和障壁的視圖。圖6A至圖6C是示出本公開的堤岸圖案和障壁的制造方法的視圖。圖7是示出根據本公開的另一示例性實施方式的有機發光顯示裝置的堤岸圖案和障壁的視圖。

參照圖3，根據本公開的示例性實施方式的有機發光顯示裝置包括：有源層102，其設置在基板100上；柵電極103；數據線DLm-1和DLm；源電極106a，其從數據線DLm-1和DLm分支；漏電極106b，其設置為與源電極106a分隔開；以及輔助線110，其設置在與連接電極109(其將源電極106a和漏電極106b相連接)的同一層上，并且由與源電極106a和漏電極106b相同的材料形成。

此外，有機發光元件的第一電極120通過使漏電極106b露出的第一接觸孔170而與漏電極106b接觸。下文中，第一電極120可以是有機發光元件的陽極電極。

此外，輔助電極130形成在與第一電極120同一層上，并且由與第一電極120相同的材料形成。輔助電極130可以沿水平方向和垂直方向設置，并且由此設置為網狀形式。然而，輔助電極130的設置形式不限于此，以及輔助電極130可以沿水平方向和垂直方向中的任一個方向設置。

此外，輔助線通過第二接觸孔180與輔助電極130接觸。另外，堤岸圖案150設置為使輔助電極130的一部分露出。輔助電極130的沒有被堤岸圖案150露出的區域與有機發光顯示元件的第二電極(未示出)接觸，并且由此，第二電極(未示出)的電壓降得到抑制。雖然在附圖中未示出，但是在輔助電極130的被堤岸圖案150露出的部分上設置有由與堤岸圖案150相同材料形成的障壁(未示出)，以使輔助電極130與第二電極(未示出)接觸。

待與根據本公開的示例性實施方式的有機發光顯示元件的第二電極接觸的輔助電極位于像素區域之間，并且由與第一電極、源電極/漏電極或者將它們電連接的連接電極M3相同的材料形成。由此，可以在沒有附加的掩模的情況下執行形成輔助線的過程。

此外，根據本公開的示例性實施方式的輔助電極和輔助線被沒有區別地使用。另外，在通過使輔助電極/輔助線與有機發光層之間的距離增大而使輔助線連接至有機發光元件的第二電極時，由于有機發光層與第二電極材料之間的臺階覆蓋差，輔助線和第二電極可以被連接，但是在輔助線與第二電極之間不允許引入有機發光層。由此，輔助電極與第二電極之間的接觸區域可以增大。

下面將參照作為沿線A-A’截取的截面圖的圖4來對其細節進行描述。參照圖4，基板100包括像素區域和接觸區域。本文中，在基板100的像素區域上設置有薄膜晶體管Tr和有機發光元件EL。此外，輔助電極130和第二電極122在基板100的接觸區域處相連接。

具體地，在基板100上設置有緩沖層101，并且在緩沖層101上設置有有源層102。在有源層102的溝道層(未示出)上設置有柵極絕緣膜105。柵電極103形成在柵極絕緣膜105上。

柵電極103可以通過將Cu、Mo、Al、Ag、Ti或由其組合形成的合金中的至少一種進行層疊而形成。然而，柵電極103的材料不限于此，而是可以使用通常用于柵電極和柵極線的材料。此外，雖然在附圖中柵電極103被示為單個金屬層，但是在一些情況下，柵電極103可以通過將至少兩個金屬層進行層疊來形成。

在柵電極103上設置有第一層間絕緣膜104。此外，源電極106a和漏電極106b設置在層間絕緣膜104上以彼此隔開。源電極106a和漏電極106b通過形成在層間絕緣膜104中的第一接觸孔與有源層102接觸。

本文中，源電極106a和漏電極106b可以通過將Cu、Mo、Al、Ag、Ti以及由其組合形成的合金、或者為透明導電材料的ITO、IZO和ITZO中的至少一種進行層疊而形成。然而，源電極106a和漏電極106b的材料不限于此，源電極106a和漏電極106b可以由通常用于數據線的材料形成。此外，雖然在附圖中源電極106a和漏電極106b中的每一個示為單個金屬層，但是在一些情況下源電極106a和漏電極106b中的每一個可以通過將至少兩個金屬層進行層疊而形成。因此，薄膜晶體管Tr可以設置在基板100上。

為了保護源電極106a和漏電極106b，在包括薄膜晶體管Tr的基板100上設置有第二層間絕緣膜107和第一平坦膜108。在第一平坦膜108上，設置有連接至薄膜晶體管Tr的漏電極106b的連接電極109，并且輔助線110與連接電極109在同一層上。本文中，輔助線110可以由與連接電極109相同的材料形成，但是不限于此。輔助線110可以由與柵電極103或源電極106a/漏電極106b相同的材料形成。

輔助線110電連接至有機發光元件EL的第二電極122，并且可以抑制由第二電極122的電阻造成的電壓降。本文中，輔助線110可以形成為適合于有機發光顯示裝置的寬度和厚度，以改進大尺寸顯示裝置的電壓降。此外，可以基于輔助線110的寬度、長度、厚度以及材料的種類來計算輔助線110的電阻。

如上所述，輔助線110設置在第一平坦膜108上。由此，輔助線110基本上平坦，這意味著輔助線110形成為不具有臺階部。然而，根據本公開的示例性實施方式的輔助線110不限于此。如果第一平坦膜108沒有形成為足夠大的厚度，則第一平坦膜108可能由于設置在其下方的部件而具有臺階部。因此，輔助線110也可能具有臺階部。

本文中，由于輔助線110設置在第一平坦膜108上，所以可以使可能在薄膜晶體管Tr的部件之間生成的寄生電容的影響最小化。因此，第一平坦膜108可以形成為足夠大的厚度，以抑制輔助線110與薄膜晶體管Tr的部件之間的寄生電容。

此外，輔助線110設置在有機發光元件EL的第一電極120下方。由此，輔助線110可以與設置有第一電極120的面積的大小無關地形成。因此，可以增加設置第一電極120的面積的大小，并且由此，可以進一步增加發光區域。

在包括連接電極109和輔助線110的基板100上設置有第二平坦膜111。本文中，為了將有機發光元件EL的第一電極120連接至薄膜晶體管Tr的漏電極106b，需要在第一平坦膜108和第二平坦膜111中形成接觸孔。在形成接觸孔時，由于平坦膜形成為雙層，所以難以使接觸孔形成為使漏電極106b露出。因此，連接電極109設置在第一平坦膜108與第二平坦膜111之間，并且由此，使漏電極106b與第一電極120電連接變得容易。

此外，有機發光元件EL的通過接觸孔與連接電極109接觸的第一電極120設置在第二平坦膜111上。此外，通過接觸孔與輔助線110接觸的輔助電極130設置在與第一電極120同一層上。輔助電極130能夠解決電壓降的問題。

本文中，第一電極120可以由具有高的功函數的透明導電材料形成。例如，第一電極120可以由選自ITO(銦錫氧化物)、IZO(銦鋅氧化物)以及ZnO的組中的任一種形成。雖然在附圖中第一電極120被示為單層，但是第一電極120可以形成為包括反射層和透明導電層的多層。

輔助電極130可以由與第一電極120相同的材料形成，但不限于此。輔助電極130可以由與柵電極103、源電極106a/漏電極106b、連接電極109或輔助線110相同的材料形成。輔助電極130可以用于將輔助線110與有機發光元件EL的第二電極電連接。

堤岸圖案150可以設置在第一電極120和輔助電極130的兩個側表面上。即，堤岸圖案150可以設置為使輔助電極130和第一電極120的上表面的一部分露出。此外，在輔助電極130的其上表面被堤岸圖案150部分露出的上表面的露出部分上設置有障壁160。本文中，障壁160可以設置在與堤岸圖案150同一層上，并且由與堤岸圖案150相同的材料形成。障壁160可以在輔助電極130附近切開有機發光層131。那么，輔助電極130可以便于與第二電極接觸。

下文中，將參照圖5來詳細描述堤岸圖案150和障壁160的形狀。參照圖5，堤岸圖案150包括：第一區域151，其具有寬度從基板100逐漸增大的倒錐形形狀；以及第二區域152，其具有寬度從基板100逐漸減小的錐形形狀，并且設置在第一區域151下方。此外，障壁160可以包括具有倒錐形形狀的第三區域161和在第三區域161下方的具有錐形形狀的第四區域162。

本文中，堤岸圖案150可以由熱固性負性光致抗蝕劑形成。在使用熱固性負性光致抗蝕劑150a形成堤岸圖案150時(參照圖6A至圖6C)，隨著在曝光過程期間掩模500與熱固性負性光致抗蝕劑150a之間的距離增加，光510從掩模500的端部散射。由于光510的散射，在熱固性負性光致抗蝕劑150a的端部與中央部分之間的曝光量不同。由此，熱固性負性光致抗蝕劑150a可能形成為倒錐形形狀。

在熱固性負性光致抗蝕劑150a的曝光過程之后，經固化的熱固性負性光致抗蝕劑150b、150c的下部分可通過施加300℃或更小的熱511的熱處理過程而形成為錐形形狀。具體地，熱固性負性光致抗蝕劑150a的中央部分被供應足夠的曝光量，并且由此被完全引發。然而，熱固性負性光致抗蝕劑150a的端部由于光510的散射而被供應不足的曝光量，并且由此與中央部分相比沒有被充分引發。接著，在用于對熱固性負性光致抗蝕劑150a進行固化的熱處理過程期間，首先對熱固性負性光致抗蝕劑150a的已經被充分引發的中央部分進行固化。使熱固性負性光致抗蝕劑150b、150c顯影。

通過對熱固性負性光致抗蝕劑150a進行固化同時調節熱處理的持續時間，可以在熱固性負性光致抗蝕劑150b的下部分處形成突起150c。由此，經固化的熱固性負性光致抗蝕劑的上部分可以形成為倒錐形形狀，并且熱固性負性光致抗蝕劑的下部分可以形成為錐形形狀。

因此，可以形成包括倒錐形形狀和錐形形狀二者的堤岸圖案150b、150c。此外，可以通過與形成堤岸圖案150b、150c相同的過程在與堤岸圖案150b、150c同一層上形成障壁圖案。

可以通過使用半色調掩模600的曝光過程來最終確定按照這樣形成的堤岸圖案150b、150c以及障壁圖案的形狀。例如，在堤岸圖案150b、150c以及障壁圖案上形成負性光致抗蝕劑，并且在其上形成有負性光致抗蝕劑的基板上設置包括遮蔽部600a、透射部600d以及半透射部600c的半色調掩模600。本文中，透射部600d使光透過，而半透射部600c與透射部600d相比使較少的光透過。遮蔽部600a完全遮蔽光。

半色調掩模600的透射部600d設置成對應于障壁圖案，并且半透射部600c設置成對應于堤岸圖案150b、150c。此外，遮蔽部600a設置成對應于未設置堤岸圖案150b、150c和障壁的其他區域。使用半色調掩模600去除形成在未設置堤岸圖案150b、150c以及障壁的區域上的熱固性負性光致抗蝕劑。接著，對形成在堤岸圖案150b、150c上的負性光致抗蝕劑進行灰化。在這種情況下，設置在障壁上的負性光致抗蝕劑被部分去除。接著，使用在障壁上剩余的負性光致抗蝕劑作為掩模來蝕刻堤岸圖案150b、150c的上部分的一部分。光致抗蝕劑可以是正性光致抗蝕劑。在這種情況下，半色調掩模600的圖案可以相反地形成。

在使用半色調掩模600的曝光過程和顯影過程之后，堤岸圖案150和障壁160中的每一個可以形成為具有倒錐形形狀和錐形形狀二者。因此，堤岸圖案150和障壁160可以通過相同的過程形成。然而，形成本公開的堤岸圖案150和障壁160的過程不限于此。可以采用能夠形成具有倒錐形形狀和錐形形狀的堤岸圖案150和障壁160的任何過程。

在使用半色調掩模600的曝光過程和顯影過程之后，堤岸圖案150和障壁160的高度可以不同。本文中，經過使用半色調掩模600的曝光過程和顯影過程的堤岸圖案150和障壁160的高度可以取決于曝光和顯影的曝光量或持續時間而被改變。具體地，障壁160的高度可以高于堤岸圖案150的高度。更具體地，障壁160的第三區域161的高度可以高于堤岸圖案150的第一區域151的高度。

本文中，在使用半色調掩模600的曝光過程和顯影過程期間，僅蝕刻堤岸圖案150的第一區域151的一部分，堤岸圖案150的第二區域152的高度可以與障壁160的第四區域162的高度相同。在這種情況下，堤岸圖案150的第二區域152的高度可以被限定為從有機發光元件EL的第一電極120的上表面至堤岸圖案150的第二區域152與第一區域151之間的接觸點的長度。此外，障壁160的第四區域162的高度可以被限定為從有機發光元件EL的第一電極120的上表面至障壁160的第四區域162至第三區域161之間的接觸點的長度。

即，堤岸圖案150的第二區域152和障壁160的第四區域162具有相同的高度，并且堤岸圖案150的第一區域151的高度低于障壁160的第三區域161的高度。由此，堤岸圖案150的整體高度可以低于障壁160的整體高度。本文中，由于堤岸圖案150的高度低于障壁160的高度，所以堤岸圖案150與障壁160之間的開放區域可以形成為大的尺寸。由此，有機發光元件EL的第二電極122可以在輔助電極130的露出的上表面上設置為寬的范圍。

如圖4和圖5中所示，有機發光元件EL的有機發光層131a、131b、131c、141設置在其上設置有堤岸圖案150和障壁160的基板100上。在這種情況下，有機發光層131a、131b、131c、141可以通過線性沉積或涂覆方法形成。例如，有機發光層131a、131b、131c、141可以通過蒸鍍形成。通過上述方法形成的有機發光層131a、131b、131c、141可以包括在基板100上的第一非設置區域151a和151b、第二非設置區域161a和161b以及第三非設置區域162a和162b。

本文中，有機發光層131a、131b、131c、141的第一非設置區域151a和151b對應于堤岸圖案150的第一區域151的兩個側表面的部分區域。有機發光層131a、131b、131c、141的第二非設置區域161a和161b對應于障壁160的第三區域161的兩個側表面。有機發光層131a、131b、131c、141的第三非設置區域162a和162b對應于障壁160的第四區域162的兩個側表面以及輔助電極130的上表面的通過有機發光層131a、131b、131c、141露出的部分。

具體地，有機發光層131a、131b、131c、141可以設置在堤岸圖案150的上表面上，堤岸圖案150的兩個側表面的多個部分上，以及障壁160的上表面上。本文中，設置在堤岸圖案150的兩個側表面的多個部分上的有機發光層131b、131c可以設置為使具有倒錐形形狀的第一區域151的形成錐角的區域露出。

更具體地，由于有機發光層131a、131b、131c、141通過線性沉積或涂覆方法形成，所以在具有臺階部的區域上或在具有倒錐形結構的區域(如堤岸圖案150)上不形成有機發光層131a、131b、131c、141。因此，在堤岸圖案150的第一區域151的兩個側表面的形成錐角的部分區域上沒有沉積或涂覆有機發光層131a、131b、131c、141。

此外，在具有倒錐形結構的障壁160周圍沒有沉積或涂覆有機發光層131a、131b、131c、141。具體地，有機發光層131a、131b、131c、141僅形成在障壁160的第三區域161的上表面上，而不形成在障壁160的第三區域161的兩個側表面上以及第四區域162周圍。更具體地，有機發光層131a、131b、131c、141可以形成為使第三區域161的兩個側表面以及第四區域162周圍的輔助電極130的上表面的一部分露出。

有機發光元件EL的第二電極122可以設置在其上設置有有機發光層131a、131b、131c、141的基板100上。本文中，第二電極122可以通過非定向沉積或涂覆方法形成。例如，第二電極122可以通過濺射形成。這樣的方法具有優異的臺階覆蓋性，并且由此，可以容易地在具有臺階部或倒錐形形狀的結構上形成第二電極122。

因此，第二電極122可以容易地設置在具有倒錐形形狀的堤岸圖案150上以及障壁160周圍。具體地，第二電極122可以設置在除了障壁160的第三區域161的兩個側表面之外的任何區域上。本文中，在障壁160的第三區域161的兩個側表面之間無法引入第二電極122。由此，第二電極122沒有形成在第三區域161的兩個側表面上。

即，第二電極122可以設置為與堤岸圖案150的第一區域151的兩個側表面的沒有設置有機發光層131a、131b、131c、141的部分區域上的堤岸圖案150接觸。此外，第二電極122可以設置在其上表面由于沒有設置有機發光層131a、131b、131c、141而被部分露出的輔助電極130上。即，第二電極122可以設置為與輔助電極130的上表面的一部分接觸。

本文中，第二電極122在堤岸圖案150的第一區域151的兩個側表面周圍的厚度可以減小，并且在障壁160的第四區域162周圍的輔助電極130上的厚度可以減小。這是因為雖然形成第二電極122，但是第二電極122的材料的路徑被堤岸圖案150的具有倒錐形形狀的第一區域151和障壁160的第三區域161阻擋。

然而，由于有機發光層131a、131b、131c、141設置為使輔助電極130的上表面的一部分露出，所以第二電極122和輔助電極130可以在輔助電極130的上表面的露出區域處彼此完全接觸。由此，第二電極122的電阻可以減小。

換言之，由于堤岸圖案150的第一區域151具有小的高度，所以堤岸圖案150的第一區域151的最大寬度可以小于堤岸圖案150的第二區域152的最大寬度。此外，由于障壁160的第三區域161具有大的高度，所以第三區域161的最大寬度可以大于障壁160的第四區域162的最大寬度。

同時，由于有機發光層131a、131b、131c、141是通過線性沉積或涂覆方法形成的，所以隨著具有倒錐形形狀的第一區域151和第三區域161的最大寬度增加，用于有機發光層131a、131b、131c、141的區域減少。即，隨著第一區域151和第三區域161的高度和最大寬度增加，被第一區域151和第三區域161的最寬的部分覆蓋的區域增加。由此，用于通過線性沉積或涂覆方法形成的有機發光層131a、131b、131c、141的區域減小。

即，由于障壁160的具有倒錐形形狀的第三區域161的最大寬度大于第四區域162的最大寬度，所以可以抑制將有機發光層131a、131b、131c、141的材料引入到設置輔助電極130的區域中。具體地，由于第三區域161的最大寬度大于第四區域162的最大寬度，所以第三區域161可以形成為與堤岸圖案150的第二區域152以及輔助電極130的上表面的通過障壁160的第四區域162露出的部分重疊。由此，第三區域161覆蓋輔助電極130的上表面的一部分。因此，可以抑制有機發光層131a、131b、131c、141在輔助電極130的整個表面上的沉積或涂覆。

即，有機發光層131a、131b、131c、141可以設置為使輔助電極130的上表面的一部分露出。因此，可以取決于障壁160的第三區域161的高度對其中可以使第二電極122和輔助電極130彼此接觸的區域進行調節。因此，可以有效地減小第二電極122的電阻。

此外，常規有機發光層形成為在有機發光元件的堤岸圖案與第一電極之間的邊界處形成為大的厚度，并且由此，常規有機發光層具有在堤岸圖案與第一電極之間的邊界處的漏電流的問題。然而，根據本公開的示例性實施方式的堤岸圖案150包括具有倒錐形形狀的第一區域151。因此，有機發光層131a、131b、131c、141包括在第一區域151的兩個側表面的部分區域上的第一非設置區域151a和151b。由此，可以抑制漏電流的生成。即，堤岸圖案150和第二電極122被設置為在有機發光層131a、131b、131c、141的第一非設置區域151a和151b中彼此接觸，并且有機發光層131a、131b、131c、141的造成漏電流的配置被消除。因此，可以抑制漏電流的生成。

此外，由于堤岸圖案150的第一區域151的最大寬度小于第二區域152的最大寬度，所以有機發光層131a、131b、131c、141可以包括在堤岸圖案150與第一電極120之間的邊界處的第一非設置區域151a和151b，以不影響發光區域。換言之，根據本公開的示例性實施方式，即使有機發光層131a、131b、131c、141包括非設置區域，發光區域也不會減少，而漏電流的生成也得到抑制。由此，可以抑制黑點或亮點的生成。

下文中，將參照圖7來描述根據本公開的另一示例性實施方式的堤岸圖案的形狀。根據本公開的另一示例性實施方式的有機發光顯示裝置可以包括與上述示例性實施方式的部件相同的部件。可以省略其多余的描述。此外，相同的部件將被分配相同的附圖標記。

參照圖7，根據本公開的另一示例性實施方式的堤岸圖案250包括第一區域251和第二區域252。堤岸圖案250的第一區域251形成為倒錐形形狀，并且堤岸圖案250的第二區域252形成為錐形形狀。

在這種情況下，堤岸圖案250的第一區域251的最大寬度可以大于堤岸圖案250的第二區域252的最大寬度。由此，有機發光層131a、131b、131c、141的第一非設置區域251a和251b的尺寸可以增加。因此，可以進一步抑制由于有機發光層131a、131b、131c、141的大的厚度造成的漏電流的生成。

下文中，將參照圖8來描述根據本公開的又一示例性實施方式的有機發光顯示裝置。圖8是根據本公開的又一示例性實施方式的有機發光顯示裝置的截面圖。根據本公開的又一示例性實施方式的有機發光顯示裝置可以包括與上述示例性實施方式的部件相同的部件。可以省略其多余的描述。此外，相同的部件將被分配相同的附圖標記。

圖8是示出以下的平面圖：在圖4的截面圖中示出的第二層間絕緣膜108、連接電極109以及輔助線110不包括在根據本公開的又一示例性實施方式的有機發光顯示裝置中，并且有機發光元件EL的第一電極120直接連接至薄膜晶體管Tr的漏電極106b。本文中，由于不包括第二層間絕緣膜108、連接電極109以及輔助線110，所以可以減少掩模的數目和過程的數目。

此外，本公開的輔助電極和障壁可以設置在各個位置處。將參照圖9至圖11描述其細節。圖9是示出根據示例性實施方式的子像素與輔助電極之間的設置關系的平面圖。參照圖9，在有機發光顯示裝置的基板100上設置有多個像素區域P。在像素區域P上設置有多個子像素。

具體地，像素區域P可以包括第一子像素SP1、第二子像素SP2、第三子像素SP3以及第四子像素SP4。在附圖中，像素區域P包括四個子像素，但不限于此。像素區域P可以包括三個子像素。

本文中，第一子像素SP1可以是白色(W)子像素，第二子像素SP2可以是紅色(R)子像素，第三子像素SP3可以是綠色(G)子像素，并且第四子像素SP4可以是藍色(B)子像素，但不限于此。

本文中，第一子像素至第四子像素SP1、SP2、SP3、SP4可以通過堤岸圖案350被限定為發光區域EA和非發光區域NEA。即，通過堤岸圖案350露出的區域可以是發光區域EA，而設置有堤岸圖案350的區域可以是非發光區域NEA。在這種情況下，非發光區域NEA可以包括設置有輔助電極330的區域。

此外，輔助電極330可以設置在第一子像素至第四子像素SP1、SP2、SP3、SP4下方。即，單個輔助電極330可以包括在每個子像素中。本文中，輔助電極330可以設置為與柵極線(未示出)平行，或者可以設置為與數據線(未示出)平行。

可以在輔助電極330的上表面的一部分上設置障壁360。本文中，堤岸圖案350和障壁360可以設置在同一層上，并且由相同的材料形成。此外，堤岸圖案350和障壁360中的每一個可以形成為具有倒錐形形狀和錐形形狀二者。

此外，雖然在附圖中輔助電極330被示為設置在第一子像素至第四子像素SP1、SP2、SP3、SP4下方，但是本公開不限于此。輔助電極330可以設置在每個子像素的上部分或側部分上。即，在本公開的示例性實施方式中，單個輔助電極330對于每個子像素是足夠的。因此，由于輔助電極330設置在每個子像素中，所以可以通過子像素來控制有機發光顯示裝置的電壓差。

圖10是示出根據另一示例性實施方式的子像素與輔助電極之間的設置關系的平面圖。根據本公開的另一示例性實施方式的有機發光顯示裝置可以包括與上述示例性實施方式的部件相同的部件。可以省略其多余描述。此外，相同的部件將被分配相同的附圖標記。參照圖10，在基板100上設置有包括多個子像素SP1、SP2、SP3以及SP4的像素區域P。

此外，可以在像素區域P下方設置輔助電極430。即，單個輔助電極430可以包括在每個像素區域P中。本文中，輔助電極430可以設置為與柵極線(未示出)平行，或者可以設置為與數據線(未示出)平行。

可以在輔助電極430上設置障壁460，障壁460設置在與堤岸圖案450同一層上并且由與堤岸圖案450相同的材料形成。堤岸圖案450和障壁460中的每一個可以形成為具有倒錐形形狀和錐形形狀二者。

雖然在附圖中輔助電極430被示為設置在像素區域P下方，但是本公開不限于此。輔助電極430可以設置在像素區域P的上部分或側部分上。即，在本公開的示例性實施方式中，單個輔助電極430對于每個像素區域P是足夠的。因此，由于單個輔助電極430設置在每個子像素中，所以可以通過像素區域來控制有機發光顯示裝置的電壓差。

圖11是示出根據又一示例性實施方式的子像素與輔助電極之間的設置關系的平面圖。根據本公開的又一示例性實施方式的有機發光顯示裝置可以包括與上述示例性實施方式的部件相同的部件。可以省略其多余的描述。此外，相同的部件將被分配相同的附圖標記。

參照圖11，在基板100上設置有第一像素區域P1和第二像素區域P2(第一像素區域P1和第二像素區域P2每一個均包括多個子像素SP1、SP2、SP3以及SP4)。本文中，第一像素區域P1和第二像素區域P2設置為彼此相鄰。例如，第一像素區域P1可以位于第二像素區域P2上。

本文中，可以在第一像素區域P1與第二像素區域P2之間設置輔助電極530。具體地，輔助電極530可以設置在布置于第一像素區域P1中的一個子像素與布置于第二像素區域P2中的對應的子像素之間。

例如，輔助電極530可以設置在布置于第一像素區域P1中的第二子像素SP2與布置于第二像素區域P2中的第二子像素SP2之間。本文中，第二子像素SP2可以是白色(W)子像素。

雖然在附圖中輔助電極530被示為設置在第一像素區域P1中的白色(W)子像素與第二像素區域P2中的白色(W)子像素之間，但是本公開不限于此。輔助電極530可以設置在第一像素區域P1中的紅色(R)子像素與第二像素區域P2中的紅色(R)子像素之間。此外，輔助電極530可以設置在第一像素區域P1中的綠色(G)子像素與第二像素區域P2中的綠色(G)子像素之間。替代地，輔助電極530可以設置在第一像素區域P1中的藍色(B)子像素與第二像素區域P2中的藍色(B)子像素之間。

可以在輔助電極530上設置障壁560，障壁560設置在與堤岸圖案550同一層上并且由與堤岸圖案550相同的材料形成。堤岸圖案550和障壁560中的每一個可以形成為具有倒錐形形狀和錐形形狀二者。

此外，雖然單個輔助電極530被示為設置在本公開的示例性實施方式中的兩個像素區域之間，但是本公開不限于此。多個像素區域可以共用單個輔助電極530。因此，由于多個像素區域包括輔助電極530，所以可以通過多個像素區域來控制有機發光顯示裝置的電壓差。

以上示例性實施方式中所述的特征、結構、效果等包括在至少一個示例性實施方式中，但是不限于一個示例性實施方式。此外，可以由本領域技術人員在相對于其他實施方式進行組合或修改時執行各個示例性實施方式中所述的特征、結構、效果等。因此，應理解的是，涉及組合和變型的內容將包括在本公開的范圍內。

此外，應理解的是，上述示例性實施方式應僅以描述的意義考慮，而不用于限制目的。本領域技術人員應理解的是，可以在不脫離示例性實施方式的精神和范圍的情況下，在其中進行各種其他變型和應用。例如，可以在修改時執行示例性實施方式中詳細示出的各個部件。