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可溶液處理的超薄基板以及相關(guān)技術(shù)

文檔序號(hào):41542394發(fā)布日期:2025-04-07 23:22閱讀:12來源:國知局
可溶液處理的超薄基板以及相關(guān)技術(shù)

1.本公開涉及用于制造和使用可轉(zhuǎn)移超薄基板的技術(shù)。更具體地且非限制性地,本公開涉及用于以快速且可規(guī)模化的方式在可轉(zhuǎn)移超薄基板上制造裝置的系統(tǒng)、機(jī)器和方法。還提供了包括裝置和可轉(zhuǎn)移超薄基板的結(jié)構(gòu)。本公開還涉及包括超薄基板和裝置的結(jié)構(gòu)的使用。2.
背景技術(shù):
超薄半導(dǎo)體裝置(例如,超薄光伏(pv)裝置)可以制備在預(yù)制的基板(例如塑料膜和金屬箔)上,或者制備在原位形成的基板(例如化學(xué)氣相沉積的聚對(duì)二甲苯或溶液處理的聚酰亞胺)上。由于其極薄的形狀和機(jī)械易碎性,這些裝置制備在載體基板上,并且可能在裝置制造工藝完成時(shí)分層。預(yù)制的超薄基板上的表面缺陷和厚度變化的存在,以及與在層壓到載體上之前對(duì)這種超薄基板進(jìn)行處理相關(guān)的挑戰(zhàn),使得原位沉積基板使用得更普遍。通過在所完成的裝置的頂部上使用附加的包封層,整體幾何形狀允許裝置的功能部件位于“中性平面”(即,當(dāng)彎曲時(shí)減少或限制對(duì)裝置的機(jī)械應(yīng)力損壞的平面)中。此外,施于預(yù)拉伸的彈性體上的裝置層壓允許形成此后在機(jī)械彎曲和壓縮測(cè)試下顯示出優(yōu)異的彈性的屈曲結(jié)構(gòu)。除了pv之外,也已有大量以類似方式制備的電子和光電子裝置的報(bào)道。

背景技術(shù)


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本公開的實(shí)施例涉及用于在可轉(zhuǎn)移超薄基板上形成裝置(例如,電子裝置)的系統(tǒng)、方法和機(jī)器。該系統(tǒng)、方法和機(jī)器可以用于僅使用基于溶液的(例如,濕法)處理技術(shù)在可轉(zhuǎn)移超薄基板上制造電子裝置。該系統(tǒng)、方法和機(jī)器還可以用于制造具有某一期望特性的可釋放基板。本公開的實(shí)施例還涉及包括裝置的結(jié)構(gòu)。一種結(jié)構(gòu)可以包括裝置、可釋放基板、以及可移除的釋放襯層載體。本公開的實(shí)施例還涉及用于從可釋放基板和裝置移除釋放襯層載體、用于將可釋放基板和裝置施加到永久性基板、以及用于重復(fù)使用釋放襯層載體以制造另一裝置的系統(tǒng)、方法和機(jī)器。

2、根據(jù)本公開的某些實(shí)施例,提供了通過將溶液施加到釋放襯層載體而在釋放襯層載體上形成可釋放基板、以及在可釋放基板之上形成電子裝置以產(chǎn)生可轉(zhuǎn)移電子裝置的系統(tǒng)和方法。

3、該系統(tǒng)和方法還可以包括:使用包括可溶性樹脂的溶液。該系統(tǒng)和方法還可以包括:使用包括可溶性樹脂的溶液,該可溶性樹脂是聚酯。該系統(tǒng)和方法可以另外包括:使用包括硅酮涂層的釋放襯層載體。該系統(tǒng)和方法還可以包括:識(shí)別可釋放基板的特性;基于所識(shí)別的特性來選擇溶液;以及將所選擇的溶液施加到釋放襯層載體,以產(chǎn)生具有所識(shí)別的特性的可釋放基板。該系統(tǒng)和方法還可以包括:所期望的特性是紫外光過濾特性,并且還可以基于紫外光過濾特性來進(jìn)一步確定在溶液中包括的紫外光過濾染料的濃度,選擇包括所確定的濃度的紫外光過濾染料的溶液,并且施加所選擇的溶液以形成具有紫外光過濾特性的可釋放基板。該系統(tǒng)和方法可以另外包括:所期望的特性是厚度特性,并且可以進(jìn)一步基于厚度特性來確定在溶液中包括的可溶性樹脂的濃度,選擇包括所確定的濃度的可溶性樹脂的溶液,并且施加所選擇的溶液以形成具有厚度特性的可釋放基板。該系統(tǒng)和方法還可以通過將第一溶液涂布或印刷在可釋放基板上來形成電子裝置的第一功能層、以及通過將第二溶液涂布或印刷在第一功能層上來形成電子裝置的第二功能層來形成電子裝置。

4、根據(jù)一些實(shí)施例,提供了一種包括電子裝置的結(jié)構(gòu)。該結(jié)構(gòu)包括:硅酮涂布的釋放襯層載體、包括樹脂并且形成在硅酮涂布的釋放襯層載體之上的可釋放基板、以及形成在可釋放基板之上的電子裝置。

5、該結(jié)構(gòu)還可以包括可釋放基板,該可釋放基板是聚酯。該結(jié)構(gòu)可以進(jìn)一步包括被配置為從可釋放基板移除而不損壞可釋放基板或電子裝置的釋放襯層載體。該結(jié)構(gòu)可以另外包括作為光伏裝置的電子裝置。該結(jié)構(gòu)還可以包括由至少第一功能層和第二功能層組成的電子裝置,第一功能層附接到可釋放基板。該結(jié)構(gòu)還可以包括:可釋放基板具有紫外線過濾特性、防潮特性、耐刮擦特性、抗反射特性或厚度特性。該結(jié)構(gòu)可以另外包括:硅酮涂布的釋放襯層載體是柔性的。

6、此外,根據(jù)一些實(shí)施例,提供了一種方法,該方法包括:從包括樹脂的可釋放基板移除硅酮涂布的釋放襯層載體,其中,可釋放基板附接到電子裝置;以及將可釋放基板和電子裝置施加到永久性基板。

7、該方法還可以包括:重復(fù)使用硅酮涂布的釋放襯層載體以形成另一電子裝置。該方法還可以包括:永久性基板是織物。該方法可以另外包括:可釋放基板是由聚酯形成的。該方法還可以包括:在永久性基板上操作電子裝置。

8、在詳細(xì)解釋與本公開一致的示例性實(shí)施例之前,應(yīng)當(dāng)理解,本公開在其應(yīng)用方面不限于在以下描述中闡述的或在附圖中示出的構(gòu)造細(xì)節(jié)和布置。本公開能夠以各種方式實(shí)踐和執(zhí)行。此外,應(yīng)當(dāng)理解,本文以及摘要中采用的措辭和術(shù)語是出于描述的目的,而不應(yīng)被認(rèn)為是限制性的。

9、應(yīng)當(dāng)理解,前述的一般描述以及以下詳細(xì)描述都僅是說明性的,而不是對(duì)所要求保護(hù)的主題的限制。



技術(shù)特征:

1.一種方法,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述溶液包括可溶性樹脂。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中,所述可溶性樹脂是聚酯。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述釋放襯層載體包括硅酮涂層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,還包括:

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中,所期望的特性是紫外光過濾特性,所述方法還包括:

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中,所期望的特性是厚度特性,所述方法還包括:

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,形成所述電子裝置還包括:

9.一種包括電子裝置的結(jié)構(gòu),包括:

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的結(jié)構(gòu),其中,所述可釋放基板是聚酯。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的結(jié)構(gòu),其中,所述釋放襯層載體被配置為從所述可釋放基板移除而不損壞所述可釋放基板或所述電子裝置。

12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的結(jié)構(gòu),其中,所述電子裝置是光伏裝置。

13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的結(jié)構(gòu),其中,所述電子裝置由至少第一功能層和第二功能層組成,所述第一功能層附接到所述可釋放基板。

14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的結(jié)構(gòu),其中,所述可釋放基板具有紫外線過濾特性、防潮特性、耐刮擦特性、抗反射特性或厚度特性。

15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的結(jié)構(gòu),其中,所述硅酮涂布的釋放襯層載體是柔性的。

16.一種方法,包括:

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,還包括:重復(fù)使用所述硅酮涂布的釋放襯層載體以形成另一電子裝置。

18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,其中,所述永久性基板是織物。

19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,其中,所述可釋放基板是由聚酯形成的。

20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,還包括:在所述永久性基板上操作所述電子裝置。


技術(shù)總結(jié)
描述了用于在可轉(zhuǎn)移超薄基板上提供裝置(例如,電子裝置)的概念、系統(tǒng)、方法和機(jī)器。所描述的概念、系統(tǒng)、方法和機(jī)器可以用于僅使用基于溶液的(例如,濕法)處理技術(shù)在可轉(zhuǎn)移超薄基板上制造電子裝置。所描述的概念、系統(tǒng)、方法和機(jī)器還可以用于制造具有某一期望特性的用于電子裝置的可釋放基板。還描述了包括裝置的結(jié)構(gòu)。該結(jié)構(gòu)可以包括裝置、可釋放基板、以及可移除的釋放襯層載體。還描述了用于從可釋放基板和裝置移除釋放襯層載體、用于將可釋放基板和裝置施加到永久性基板、以及用于重復(fù)使用釋放襯層載體以制造另一裝置的系統(tǒng)、方法和機(jī)器。

技術(shù)研發(fā)人員:V·布洛維奇,M·薩拉瓦納帕瓦南坦,J·姆瓦烏拉
受保護(hù)的技術(shù)使用者:麻省理工學(xué)院
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/4/6
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