技術(shù)編號(hào)：41771394
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請(qǐng)屬于微納制造領(lǐng)域，具體涉及一種高精度大面積超薄鏤空硬掩膜的制備方法。背景技術(shù)、鏤空硬掩膜技術(shù)，是一種先進(jìn)的微納加工方法，它通過使用具有精確定義孔洞的硬質(zhì)掩膜實(shí)現(xiàn)材料的直接沉積或轉(zhuǎn)移，以形成微米至納米尺度的圖案。該技術(shù)以其無需使用光敏抗蝕劑、可重復(fù)使用性以及高吞吐量的特點(diǎn)，為微納制造領(lǐng)域提供了一種高效、低成本且環(huán)境友好的圖案化解決方案。鏤空硬掩膜通常采用硅碳化物、硅氮化物等硬質(zhì)材料制成，確保了良好的機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)穩(wěn)定性。其應(yīng)用范圍廣泛，包括生物傳感器、柔性基底圖案化、光子晶體結(jié)構(gòu)、納米電子...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。