技術編號：41774056
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本申請屬于半導體化學機械拋光，具體涉及一種二氧化硅拋光液及其制備方法。背景技術、在當前拋光技術領域，膠體二氧化硅作為一種廣泛應用的研磨介質，卻存在拋光效率低和容易造成劃痕等缺點。相關技術中大多通過調整顆粒的形貌以增加顆粒間的接觸面積和摩擦力，進而提高顆粒在拋光過程中的物理作用。然而，拋光速率提升有限，且更容易造成劃痕。因此，二氧化硅拋光技術有待進一步改進。技術實現思路、本申請旨在至少在一定程度上解決相關技術中的技術問題之一。為此，本申請提出一種拋光效率較高的二氧化硅拋光液及其制備方法。、本...
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