技術(shù)編號:41775179
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及高純度三氧化二鎵及其制備方法。背景技術(shù)、日本特開-號公報(bào)(專利文獻(xiàn))公開了以高效地制造氧化鎵單晶為目的,使作為上述氧化鎵單晶的原料的氧化鎵原料高密度化的技術(shù)。作為該氧化鎵原料,可舉出市售的氧化鎵或碳酸鎵等鎵的氧化物或鹽類、它們的水合物以及它們的混合物等。下述非專利文獻(xiàn)公開了包含.質(zhì)量ppm的硅(si)的氧化鎵作為制造氧化鎵單晶的原料。下述非專利文獻(xiàn)公開了使用所謂vb法制造包含.~質(zhì)量ppm的si的氧化鎵單晶。下述非專利文獻(xiàn)公開了包含.質(zhì)量p...
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