專利名稱：氣流磨清洗盤的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種氣流磨部件,尤其是涉及一種密封性好的氣流磨清 洗盤。
背景技術：
氣流磨中的物料分級中，分選輪與清洗盤之間是動密封結構，為防止 磨室內的磁粉進入清洗盤間隙中，主要是靠清洗壓力吹洗，以往，與過粉 管道密封面相接觸的氣流磨清洗盤密封面是靠平面的無間隙密封，為了達 到密封效果，要求加工表面有很高的光滑渡和平面度，同時由于清洗盤密 封面與為過粉管道密封面之間平行度的微小變化或清洗盤的安裝不合適， 經常會因為氣流磨清洗盤的密封性不好而造成清洗壓力泄漏、清洗壓力變 小，造成分選輪與清洗盤抱死或粗粉進入成品粉中，嚴重影響產品質量。

實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題在于針對上述現有技術中的不足，提 供一種氣流磨清洗盤，其結構簡單，在降低成本的同時，徹底解決了由此 處導致的清洗壓力泄漏問題。
為解決上述技術問題，本實用新型采用的技術方案是 一種氣流磨清洗 盤，其特征在于所述氣流磨清洗盤的密封面上開有多個密封槽，所述密 封槽中設置有密封墊圈。
所述密封槽的數量為兩個。 本實用新型與現有技術相比具有以下優點降低對兩個密封面加工 精度和光潔度要求，降低成本，確保兩密封面對氣道的有效密封，同時便 于每次安裝的可重復性，徹底解決了由此處導致的清洗壓力泄漏問題。下面通過附圖和實施例，對本實用新型的技術方案做進一步的詳細描述。


圖l為本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
如圖l所示，本實用新型氣流磨清洗盤1的密封面上開有兩個密封槽，
各密封槽中均設置有密封墊圈3。密封墊圈3的材料是橡膠、聚氨酯、氟 橡膠、尼龍等。密封墊圈3的設計，確保了氣流磨清洗盤1的密封面和過 粉管道2的密封面的有效密封，從而不再要求對以上兩個密封面的加工精 度和光潔度高要求，降低成本，節約工時和勞動強度，徹底解決了由此處 導致的清洗壓力泄漏問題。
以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例，并非對本實用新型作任何限
以及等效結構變換，均仍屬于本實用新型技術方案的保護范圍內。
權利要求1. 一種氣流磨清洗盤，其特征在于所述氣流磨清洗盤(1)的密封面上開有多個密封槽，所述密封槽中均設置有密封墊圈(3)。
2. 按照權利要求l所述的氣流磨清洗盤，其特征在于所述密封槽的 數量為兩個。
專利摘要本實用新型公開了一種氣流磨清洗盤，氣流磨清洗盤的密封面上開有多個密封槽，密封槽中均設置有密封墊圈。本實用新型結構簡單，在降低成本，節約工時和勞動強度的同時，徹底解決了由此處導致的清洗壓力泄漏問題。
文檔編號B02C23/00GK201283310SQ200820222080

公開日2009年8月5日 申請日期2008年10月27日 優先權日2008年10月27日
發明者鄒光榮 申請人:西安西工大思強科技有限公司