專利名稱：一種流體對沖擊式研磨分散元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種新型研磨分散設(shè)備中的研磨分散元件。
背景技術(shù)：
研磨分散設(shè)備在諸多行業(yè)及領(lǐng)域中廣泛使用，如:涂料、粉體、食品、藥品、日用化工等。研磨分散設(shè)備基礎(chǔ)組成部件包括:驅(qū)動部分、傳動部分、研磨分散部分，研磨分散效率，與驅(qū)動傳動機械部件的效率、機械運行穩(wěn)定性有關(guān)，但更主要的是與研磨分散部件的結(jié)構(gòu)、性能密切相關(guān)。對研磨分散元件的研究一直是研磨分散設(shè)備廠商的重要課題，德國耐馳機械有限公司針對不同的研磨料及應(yīng)用領(lǐng)域，開發(fā)出了多種類型的研磨分散元件，這些元件是該公司研磨分散機高效運行、制備出的產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定的重要原因。隨著我國經(jīng)濟的發(fā)展，我國在研磨分散設(shè)備制造業(yè)取得了很大的發(fā)展，解決了諸多行業(yè)領(lǐng)域的生產(chǎn)問題，但如何更好地更有效地解決粉體研磨分散效率及制備產(chǎn)出的性能穩(wěn)定是一個廣泛受關(guān)注的問題。這也對研磨分散機械提出了更高的要求。這一較高要求的能否實現(xiàn)關(guān)系到各個行業(yè)產(chǎn)品質(zhì)量的提高及生產(chǎn)過程的節(jié)能減排。而這些問題的解決與研磨分散元件的設(shè)計、結(jié)構(gòu)和性能密切相關(guān)。專利CN 2367428Y設(shè)計了一種新型濕法研磨分散機構(gòu)，由分散軸、分散盤和較多的葉片組成。該設(shè)備利用具有傾角的葉片推動流體定向運動，并與分散盤相互作用達到分散的目的，該機構(gòu)由多葉片與分散盤共同完成研磨分散任務(wù)，組件復(fù)雜、難以清洗，而且由于多葉片在長期高速運轉(zhuǎn)的分散軸驅(qū)動下容易引起生產(chǎn)安全問題。CN 202143846述及一種研磨機高效研磨分散盤。盤形體的盤面上設(shè)有數(shù)個漸起于該盤形體底平面的階形體，一種階形體與盤形體底平面夾角在5。 45。，此裝置盤形體上下兩個盤面上至少設(shè)有2個以上的階形體，階形體的脊交錯排列，且傾斜方向一致。該設(shè)備利用分散盤帶動研磨介質(zhì)高速運動而產(chǎn)生摩擦和剪切，使物料得到研磨和分散。該設(shè)備僅靠物料被盤面帶動旋轉(zhuǎn)拋射及與階形體碰撞形成拋射，達到研磨的目的。由于物料與盤面有效作用面積小，物料在液體中粒子間相互碰撞機率小，所·以難以達到理想的分散研磨效果。針對以上技術(shù)問題，提出更合理利用能源、更安全有效的研磨分散元件是非常有必要的。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的實施例提供一種新的流體對沖擊式研磨分散元件。該研磨分散元件利用了流體中的粒子在機械帶動的切線拋力作用下做正向或側(cè)向?qū)ψ材軌颢@得高能量、且能夠提高動能利用率的原理，從而實現(xiàn)了高效研磨。同時，下分散盤旋轉(zhuǎn)后產(chǎn)生向上強大的負(fù)壓力，使底部流體向上運動，從而也解決了缸體底部易沉積固體形成死角的難題。為達到上述目的，本實用新型的實施例采用技術(shù)方案:一種流體對沖擊式研磨分散兀件，包括上分散盤、下分散盤、分散桿。其中，所述的上分散盤、下分散盤均呈漏斗型；上分散盤、下分散盤的漏斗底部對接，上分散盤的漏斗底部與分散桿固定連接；上分散盤、下分散盤的軸線與分散桿的軸線重合；上分散盤、下分散盤的側(cè)壁開有通透缺口 ；通透缺口內(nèi)側(cè)邊緣都有一個向內(nèi)側(cè)方向伸展的耳型突起。進一步的,所述的分散桿為圓柱體,分散桿的半徑為0.3 1.0cm,優(yōu)選為0.5cm ；所述的上分散盤與下分散盤的形狀、大小均相同，且其漏斗口半徑為5 10cm，優(yōu)選為7cm ；所述的上分散盤的軸線與其側(cè)壁壁面的切面夾角為30° 85°，優(yōu)選為60°。進一步的，所述的通透缺口的數(shù)目為2 5，優(yōu)選為3，且沿側(cè)壁均勻分布，其形狀為長方形或正方形，其寬度為0.5 1.0cm，其長度為0.5 1.0cm，面積占側(cè)壁面積的
0.5% 20%，優(yōu)選為長方形，寬度為0.5cm,長度為1.0cm0進一步的，所述的耳型突起，其形狀、大小均與所述的通透缺口相同，且與漏斗型壁面的切面夾角為5° 80°，優(yōu)選為75°。本實用新型的實施例提供的研磨分散元件，與現(xiàn)有技術(shù)相比，能夠使流體中的粒子在機械帶動的切線拋力作用下做正向或側(cè)向?qū)ψ玻軌颢@得更高的能量、且進一步提高了動能利用率，能夠?qū)崿F(xiàn)高效研磨。同時，下分散盤旋轉(zhuǎn)后產(chǎn)生向上強大的負(fù)壓力，能夠使底部流體向上運動，從而也解決了缸體底部易沉積固體形成死角的難題。

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為實施例一的流體對沖擊式研磨分散元件的結(jié)構(gòu)示意圖。`具體實施方式
下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。本實用新型實施例提供一種流體對沖擊式研磨分散元件，如圖1所示，包括上分散盤2、下分散盤4、分散桿I。所述的分散元件通過與機器傳動桿連接，機器傳動桿再與機械設(shè)備的電機傳動裝置相連，從而獲得旋轉(zhuǎn)驅(qū)動。其中:所述的上分散盤2、下分散盤4均呈漏斗型；上分散盤2、下分散盤4的漏斗底部對接，上分散盤2的漏斗底部與分散桿I固定連接；上分散盤2、下分散盤4的軸線與分散桿I的軸線重合；上分散盤2、下分散盤4的側(cè)壁開有通透缺口 5 ;通透缺口 5內(nèi)側(cè)邊緣都有一個向內(nèi)側(cè)方向伸展的耳型突起3。本述實施例提供的分散桿I為圓柱體，分散桿I的半徑為0.3 1.0cm,優(yōu)選為
0.5cm上分散盤2與下分散盤4的形狀、大小均相同，且其漏斗口半徑為5 IOcm,優(yōu)選為7cm。上分散盤2的軸線與其側(cè)壁壁面的切面夾角為30° 85°，優(yōu)選為60°。[0019]本述實施例提供的通透缺口 5的數(shù)目為2 5，優(yōu)選為3，且沿側(cè)壁均勻分布，其形狀為長方形或正方形，其寬度為0.5 1.0cm，其長度為0.5 1.0cm，面積占側(cè)壁面積的
0.5% 20%，優(yōu)選為長方形，寬度為0.5cm,長度為1.0cm0本述實施例提供的耳型突起3，其形狀、大小均與所述的通透缺口 5相同，且與漏斗型壁面的切面夾角為5° 80°，優(yōu)選為75°。以上所述，僅為本實用新型的具體實施方式
，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。因此，本實用新型的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護 范圍為準(zhǔn)
權(quán)利要求1.一種流體對沖擊式研磨分散兀件,包括上分散盤(2)、下分散盤(4)、分散桿(I),其特征在于:所述的上分散盤(2)、下分散盤(4)均呈漏斗型；上分散盤(2)、下分散盤(4)的漏斗底部對接，上分散盤(2)的漏斗底部與分散桿(I)固定連接；上分散盤(2)、下分散盤(4)的軸線與分散桿(I)的軸線重合；上分散盤(2)、下分散盤(4)的側(cè)壁開有通透缺口(5);通透缺口(5)內(nèi)側(cè)邊緣都有一個向內(nèi)側(cè)方向伸展的耳型突起(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體對沖擊式研磨分散元件，其特征在于:所述的分散桿(I)為圓柱體，分散桿(I)的半徑為0.3 1.0cm ;上分散盤(2)與下分散盤(4)的形狀、大小均相同，且其漏斗口半徑為5 IOcm ;上分散盤(2)的軸線與其側(cè)壁壁面的切面夾角為30。 85°。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的流體對沖擊式研磨分散元件，其特征在于:所述的分散桿(I)的半徑為0.5cm ;所述的上分散盤(2)的漏斗口半徑為7cm ;所述的上分散盤(2)的軸線與其側(cè)壁壁面的切面夾角的切面夾角為60°。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體對沖擊式研磨分散元件，其特征在于:所述的通透缺口(5)的數(shù)目為2 5,且沿側(cè)壁均勻分布,其形狀為長方形或正方形，其寬度為0.5 1.0cm,其長度為0.5 1.0cm,面積占側(cè)壁面積的0.5% 20%。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的流體對沖擊式研磨分散元件，其特征在于:所述的通透缺口(5)的數(shù)目為3,其形狀為長方形，寬度為0.5cm,長度為1.0cm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體對沖擊式研磨分散元件，其特征在于:所述的耳型突起(3)，其形狀、大小均與所述的通透缺口(5)相同，且與漏斗型壁面的切面夾角為5° 80。。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體對沖擊式研磨分散元件，其特征在于:所述的耳型突起(3)，且與漏斗型壁面的切面夾角為75°。
專利摘要本實用新型涉及一種流體對沖擊式研磨分散元件，該分散元件由上分散盤、下分散盤、分散桿組成。其中，上、下分散盤均呈漏斗型；上、下分散盤的漏斗底部對接，上分散盤的漏斗底部與分散桿固定連接，上、下分散盤的軸線與分散桿的軸線重合；上、下分散盤的側(cè)壁上開有通透缺口；通透缺口內(nèi)側(cè)邊緣有一個向內(nèi)側(cè)方向伸展的耳型突起。本實用新型利用了流體中的粒子在機械帶動的切線拋力作用下做正向或側(cè)向?qū)ψ材軌颢@得高能量、且能夠提高動能利用率的原理，從而實現(xiàn)了高效研磨。同時，下分散盤旋轉(zhuǎn)后產(chǎn)生向上強大的負(fù)壓力，使底部流體向上運動，從而也解決了缸體底部易沉積固體形成死角的難題。
文檔編號B02C19/00GK203091033SQ2013201098
公開日2013年7月31日 申請日期2013年3月12日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月12日
發(fā)明者蘇有良, 蘇 衡 申請人:蘇有良