本實用新型涉及健康保健領域，尤其涉及用于扁平足輔助治療的鞋墊。

背景技術：

扁平足習慣上是指足部正常的內側縱弓的喪失，發病原因包括：一、足部骨骼異常：舟狀骨位置、形態異常，副舟骨，跖骨以及跟骨的異常；二、足部肌肉異常：脛前肌、腓骨肌止點異常，足內、外側肌軟柔，負重時足部肌肉、韌帶受力不平衡；三、遺傳因素：遺傳因素在扁平足的發病中起重要作用，一般為多基因遺傳。對于有疼痛的柔韌性扁平足，一般可以使用矯形鞋墊進行矯正和改善患者的舒適程度。然而現有的矯正鞋墊還存在不具有按摩效果，無法通過遠紅外線進行有效改善血液循環、促進新陳代謝增強機體抗病能力。

基于此，有必要設計一種用于扁平足輔助治療的鞋墊，既能夠利用按摩塊進行按摩，又能通過遠紅外線促進用戶足部的血液循環，增強機體抗病能力，從而對扁平足進行矯正，促進形成弓足。

技術實現要素：

本實用新型的主要目的在于提供用于扁平足輔助治療的鞋墊，旨在解決現有的矯正鞋墊不具有按摩效果，無法通過遠紅外線進行有效改善血液循環的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供了用于扁平足輔助治療的鞋墊，包括墊體，所述墊體包括表覆層、墊體彈力層、橡膠層、隔墊層以及底覆層，其中：

所述表覆層設置有按摩塊，分別為多個腳趾按摩塊和腳跟按摩塊，所述多個腳趾按摩塊分別設置在對應于用戶的五個腳趾的位置處，所述腳跟按摩塊設置在對應于用戶的腳跟的位置處；

所述按摩塊包括按摩塊保護層、遠紅外線層、按摩塊彈力層和隔離層，所述遠紅外線層由遠紅外顆粒組成；

所述表覆層上還設置有內弧凸起，且所述內弧凸起可拆卸連接于所述表覆層上，所述內弧凸起與人體足弓區的位置一致，用于矯正扁平足。

優選地，所述按摩塊還包括沸石粉，所述隔離層包裹著所述沸石粉。

優選地，所述腳趾按摩塊包括設置在大腳趾底部中間的成長發育按摩區和設置在小腳趾旁的激素分泌按摩區。

優選地，所述表覆層上還設有與腳趾和腳跟位置對應的定位防滑區域。

優選地，所述表覆層為絨布。

優選地，所述按摩塊保護層為絨布。

優選地，所述墊體彈力層為松緊布。

優選地，所述按摩塊凸起的高度為1.5mm。

相較于現有技術，本實用新型用于扁平足輔助治療的鞋墊既能夠利用按摩塊進行按摩，又能通過遠紅外線促進用戶足部的血液循環，增強機體抗病能力。從而對扁平足進行矯正，促進形成弓足。

附圖說明

圖1是本實用新型用于扁平足輔助治療的鞋墊優選實施例的結構示意圖；

圖2是本實用新型墊體的平面結構示意圖；

圖3是本實用新型按摩塊的平面結構示意圖。

本實用新型目的的實現、功能特點及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。

具體實施方式

應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。

參照圖1、圖2和圖3所示，圖1是本實用新型用于扁平足輔助治療的鞋墊優選實施例的結構示意圖；圖2是本實用新型墊體的平面結構示意圖；圖3是本實用新型按摩塊的平面結構示意圖。在本實施例中，所述用于扁平足輔助治療的鞋墊包括墊體100，所述墊體100包括表覆層1、墊體彈力層2、橡膠層3、隔墊層4以及底覆層5，其中：

所述表覆層1設置有按摩塊11，分別為多個腳趾按摩塊110和腳跟按摩塊111，所述多個腳趾按摩塊110分別設置在對應于用戶的五個腳趾的位置處，所述腳跟按摩塊111設置在對應于用戶的腳跟的位置處；

所述按摩塊11包括按摩塊保護層1101、遠紅外線層1102、按摩塊彈力層1103和隔離層1104，所述遠紅外線層1102由遠紅外顆粒組成；

所述表覆層1上還設置有內弧凸起12，且所述內弧凸起12可拆卸連接于所述表覆層1上，所述內弧凸起12與人體足弓區的位置一致，用于矯正扁平足。

在本實施例中，用于扁平足輔助治療的鞋墊包括墊體100，墊體100從上到下包括表覆層1、墊體彈力層2、橡膠層3、隔墊層4以及底覆層5。表覆層1處于最上層，離用戶的腳底的皮膚最近；底覆層5處于最下層，離用戶的鞋底最近。表覆層1上設有對應于腳趾和腳跟位置的定位防滑區域，可以通過設置防滑紋的形式出現的，防滑紋在圖1中未示出，防滑紋優選設置在與腳趾位置對應的位置處，也可以設置在用戶的腳跟對應的位置處，能夠增大鞋墊的摩擦力，使得腳底的著力效果更好。表覆層1的材質優先為絨布，增加了用戶足部皮膚的舒適度。墊體彈力層2的材質優選為有彈力的松緊布，橡膠層3為熱塑性彈性體材料，粘附于所述隔墊層4的上表面。所述的橡膠層3厚度為0.2-0.5mm，該材料安全無毒且較薄，粘性好，能與隔墊層4很好地附著。所述的隔墊層4同時具有隔熱效果，其優選采用保溫隔熱紙制成，其材質輕，保溫效果好，厚度薄。底覆層5由以下各項中的一種或多種材料構成，例如：氯丁橡膠、橡膠、聚合物、彈性體、棉花以及合成纖維。

在本實施例中，所述表覆層1設置有多個按摩塊11，為腳趾按摩塊110和腳跟按摩塊111，用于刺激腳底穴位進行按摩，按摩塊11可以設計成半球形，直徑為1.3-1.5cm，所述按摩塊11凸起的高度為1.5mm。所述多個腳趾按摩塊110分別設置在對應于用戶的五個腳趾的位置處，所述腳跟按摩塊111設置在對應于用戶的腳跟的位置處；所述按摩塊11包括按摩塊保護層1101、遠紅外線層1102、按摩塊彈力層1103和隔離層1104。按摩塊保護層1101的材質可以選擇絨布，有效改善腳感。所述遠紅外線層1102由遠紅外顆粒組成的遠紅外線面料，由于遠紅外通過模擬太陽815μm波長段的有益遠紅外線，太空生命永久磁石產生磁波，對腳底諸多穴位同時進行按摩，使微細血管擴張，加速血液循環，促進細胞的新陳代謝，增強機體活力，刺激生長激素分泌從而促進成長發育。在本實施例中，所述腳趾按摩塊110包括設置在大腳趾底部中間的成長發育按摩區和設置在小腳趾旁的激素分泌按摩區。因此，通過對成長發育按摩區進行按摩，能夠促進腦垂體發射區的作用，同時能夠影響甲狀腺區域，刺激增長激素分泌。所述按摩塊11還包括沸石粉，所述隔離層1104包裹著所述沸石粉。具體的來說，隔離層1104為無紡布，將沸石粉包裹在內部，可有效隔離沸石粉的溢出，同時具備良好的透氣效果。所述的沸石粉具有顯著的殺菌效果和吸濕效果，能抑制墊體100上細菌的存活和繁殖并減少鞋內的濕氣，該沸石粉是天然的沸石巖磨細而成，優選200-250目的沸石粉，該粒徑的沸石粉能抱結成團，對于穴位的刺激作用較強。按摩塊彈力層1103也優選為有彈力的松緊布，避免穿著不適。

在本實施例中，所述表覆層1上還設置有內弧凸起12，內弧凸起12可拆卸連接于表覆層1上，內弧凸起12的材質為軟質材料，避免對用戶的皮膚造成磨損或傷害。此外，內弧凸起12與人體足弓區的位置一致，該內弧凸起12用于矯正扁平足，內弧凸起12的設置能夠對足部起到承托作用，行走時刺激足部肌肉，有利于形成足弓，矯正扁平足。

本實用新型所述用于扁平足輔助治療的鞋墊既能夠利用按摩塊進行按摩，又能通過遠紅外線促進用戶足部的血液循環，增強機體抗病能力。從而對扁平足進行矯正，促進形成弓足。

以上僅為本實用新型的優選實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構或等效功能變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。