偏振成像內窺鏡系統及內窺成像方法
【專利摘要】本發明公開了一種偏振成像內窺鏡系統及內窺成像方法，所述系統包括：光源；用于將來自所述光源的光依次調制為不同偏振態的照明光的起偏裝置；用于將來自所述起偏裝置的所述不同偏振態的照明光依次照射至被攝組織表面上的內窺鏡裝置；用于將來自所述被攝組織表面的回光進行成像和對所成的像進行攝像的檢偏攝像裝置；其特征在于：所述檢偏攝像裝置包括：依次設置的偏振解析透鏡陣列和攝像單元，所述偏振解析陣列包括至少四個偏振解析陣列單元，分別用于對所述回光中不同偏振態的光進行解析并成像；所述攝像單元用于對所述四個偏振解析陣列單元所成的像進行攝像。本發明具有快速偏振成像的有益效果。
【專利說明】
偏振成像內窺鏡系統及內窺成像方法

【技術領域】
[0001 ] 本發明涉及內窺鏡成像檢測【技術領域】，尤其是涉及偏振成像內窺鏡系統及內窺成像方法。

【背景技術】
[0002]近年來，光學檢測方法因為具有高分辨力，對檢測對象無損傷，并易于實現等優點，在生物醫學領域得到廣泛應用。國際上的諸多研究表明，偏振成像方法能夠提高表面組織成像的分辨率，有效反映生物組織的形態和微觀結構信息。當組織發生病變甚至癌變時，偏振圖像的變化較普通成像更為敏感。因此，偏振成像的方法擁有介入內窺檢測的潛力。以往的偏振檢測多使用線偏振光，只能分析組織部分的偏振信息，而要想全面地反映組織所有的偏振信息，必須測量組織的16幅穆勒矩陣圖像。而傳統方法采用分時測量獲得16幅穆勒矩陣圖像，需要10-60秒的測量時間，由于測量時操作者和被測量這都不是靜止的，因此，如此長時間的測量常常會導致前后圖像不匹配，不能得到準確的偏振圖像。
[0003]文獻 Antonello De Martino, Yong-Ki Kim, Enric Garcia-CaureI, BlandineLaude, and Bernard Drevillon, “Optimized Mueller polarimeter with liquidcrystals, ”0ptics Letters, 28(8)2003.公開了關于液晶的相位延遲方法及其優化方法，但仍無法徹底解決上述問題。
[0004]以上【背景技術】內容的公開僅用于輔助理解本發明的發明構思及技術方案，其并不必然屬于本專利申請的現有技術，在沒有明確的證據表明上述內容在本專利申請的申請日已經公開的情況下，上述【背景技術】不應當用于評價本申請的新穎性和創造性。


【發明內容】

[0005]本發明所要解決的技術問題是，提供一種更為優良的偏振成像內窺鏡系統及內窺成像方法。
[0006]本發明的技術問題通過下述手段予以解決:
[0007]一種偏振成像內窺鏡系統，包括:
[0008]光源；
[0009]用于將來自所述光源的光依次調制為不同偏振態的照明光的起偏裝置；
[0010]用于將來自所述起偏裝置的所述不同偏振態的照明光依次照射至被攝組織表面上的內窺鏡裝置；
[0011]用于對來自所述被攝組織表面的回光進行成像和對所成的像進行記錄的檢偏攝像裝置；
[0012]所述檢偏攝像裝置包括:依次設置的偏振解析透鏡陣列和攝像單元，
[0013]所述偏振解析陣列包括至少四個偏振解析陣列單元，分別用于解析所述回光中不同偏振態的光并成像；
[0014]所述攝像單元采用單個CCD或CMOS相機,用于單巾貞記錄對所述偏振解析陣列單元解析每次所述回光所成的多幅像。使用單個CCD或CMOS相機能夠避免使用多個CCD或CMOS相機因為設備差異產生的問題。
[0015]本發明還提供一種內窺成像方法，包括以下步驟:
[0016]一種內窺成像方法，包括以下步驟:
[0017]S1、提供一光源；
[0018]S2、將來自所述光源的光線依次調制為不同偏振態的照明光；
[0019]S3、將所述不同偏振態的照明光通過內窺鏡依次照射至被攝組織表面；
[0020]S4、利用一至少包括四個偏振解析陣列單元的偏振解析陣列對所述被攝組織表面返回的的每一次回光中不同偏振態的光進行解析并成像；
[0021]S5、單幀記錄對所述偏振解析陣列單元解析每次所述回光所成的多幅像，獲得多幀被攝組織表面偏振圖像。
[0022]與現有技術相比，本發明利用包括至少四個偏振解析陣列單元的偏振解析陣列對每次回光進行解析成型，單次成像能夠獲得至少四個不同偏振態的偏振圖像，在空間域上實現同時檢測，能夠大幅縮短檢測時間，從而避免檢測受到操作者或被攝組織的位移對檢測準確性的影響。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0023]圖1是本發明具體實施例的內窺鏡系統的光路原理圖；
[0024]圖2是圖1中偏振解析陣列的結構示意圖；
[0025]圖3是圖2中偏振解析陣列單元的結構示意圖；
[0026]圖4是本發明具體實施例中測得的標準樣品的穆勒矩陣圖像；
[0027]圖5是本發明具體實施例中測得被攝組織表面的穆勒矩陣圖像；
[0028]圖6是圖5中所測的被攝組織表面的客觀的穆勒矩陣圖像
[0029]圖7是采用本發明具體實施例的方法對圖5的穆勒矩陣圖像進行還原獲得的穆勒矩陣圖像；
[0030]圖8是本發明一實例的染色后的組織切片；
[0031]圖9是與圖8的組織切片毗鄰但未染色的組織切片；
[0032]圖10是采用本發明具體實施例的方法測得的未染色組織切片的穆勒矩陣圖像。

【具體實施方式】
[0033]下面結合優選的實施方式對本發明作進一步說明。
[0034]如圖1所示的具體實施例，該偏振成像內窺鏡系統包括
[0035]光源100 ;起偏裝置200，用于將來自所述光源的光依次調制為不同偏振態的照明光；內窺鏡裝置300，用于將來自所述起偏裝置的所述不同偏振態的照明光依次照射至被攝組織表面上；檢偏攝像裝置400，用于對所述被攝組織表面返回的回光進行成像和對所成的像進行記錄。
[0036]檢偏攝像裝置400包括依次設置的偏振解析透鏡陣列410和攝像單元420，偏振解析陣列410包括四個偏振解析陣列單元411、412、413、414，分別用于對所述回光中不同偏振態的光進行解析并成像；攝像單元420對所述四個偏振解析陣列單元所成的像進行攝像。圖1所示的實施例中，偏振解析陣列單元的數量為四個，但是本領域技術人員根據本文公開的內容可以了解，偏振解析陣列單元顯然可以多于四個，本實施例的數量僅用于示例，而非用于限定。每個偏振解析單元的功能在于對回光不同偏振態的光進行解析并成像，那么四個偏振解析單元則可以同時解析出回光中四幅不同維度的偏振圖像(即每幀圖像中包含有四幅不同偏振態的偏振圖像)，從而，通過起偏裝置進行四次不同的起偏，獲得四次偏振態的照明光即能夠獲得被攝組織表面四幀圖像共計16幅不同偏振態的偏振圖像。相比與現有技術，本實施例的方案實現了每一次回光不同偏振態的同時性測量，因此，能夠減少分次測量的次數，大幅縮短檢測時間，降低了操作者或被測組織位移導致前后圖像無法匹配的風險。
[0037]如圖3所示的實施例中，提供了一種優選的偏振解析陣列單元的結構，其包括依次排列的成像透鏡模塊401、消色差波片402和偏振片403。成像透鏡模塊可以是單片成像透鏡，也可以是有多個光學元件組成的透鏡組，本發明并不進行任何的限制，成像透鏡模塊的作用在于將回光進行成像，因此，優選采用具有優秀成像質量的透鏡組。消色差波片和偏振片用于構造檢偏通道，實現對含有偏振信息的圖像進行檢偏，即只允許預定偏振方向的偏振光通過，為了獲得四幅不同偏振態的偏振圖像，四個偏振解析透鏡陣列單元的偏振片需要設置為分別允許不同偏振態的光線通過，如果四個偏振解析透鏡陣列單元采用相同的偏振片，那么則需要調整各個偏振片的角度，從而實現不同的檢偏效果。
[0038]在圖1所示的實施例中，檢偏攝像裝置400還包括設置于偏振解析透鏡陣列之前的中繼鏡430以及反光鏡440，反光鏡440用于將回光反射入中繼經440，通過中繼鏡440實現遠距離的傳輸，避免信號損失。
[0039]為實現多光譜的成像，本實施例的光源100包括用于產生寬帶光的寬帶光源110及用于對所述寬帶光進行濾波以產生不同中心波長的窄帶光的液晶調控帶通濾波片130 ；更優選，在光源110與液晶調控帶通濾波片130之間設置準直鏡120。
[0040]對于偏振成像內窺鏡而言，起偏裝置200每次起偏所耗費的時間也是直接影響檢測時間的重要因素，傳統機械轉動波片的方法耗時較長，因此，為獲得更佳的效果，本實施例進一步提出了一種優選的起偏裝置200，如圖1所示，本實施例的起偏裝置200包括偏振片230和兩個液晶相位延遲器240、250 ;所述起偏器230用于對所述單色光進行起偏；液晶相位延遲器240和250用于產生不同的相位延遲以將來自偏振片230的光線調制為預定偏振態的完全偏振光。兩個液晶相位延遲器是通過相應于電壓變化以實現相位延遲，進而達到調制偏振態的功能，其電壓相應時間可達到10毫秒量級，而攝像單元420可采用(XD、CMOS等光學傳感器，其單詞成型時間可降至I毫秒，因此，本優選實施例的單幀圖像成像最快能夠在10毫秒內完成，即:提供100幀/秒的視頻輸出，能夠有效地應用于內窺鏡成像，以縮短檢測時間。
[0041]如圖1所示的實施例，所述偏振成像內窺鏡系統還包括設置于所述起偏裝置200與所述內窺鏡裝置300之間的分光裝置500，來自所述起偏裝置的光線經所述分光裝置透射進入所述內窺鏡裝置，所述回光經所述分光裝置反射進入所述攝像單元。分光裝置500優選但不現定于非偏振分光棱鏡。圖1所示的實施例中，分光裝置與內窺鏡之間設有透鏡600用于將來自分光裝置500的光線導入內窺鏡。
[0042]對于目前內窺鏡中經常使用的光纖導光束，其偏振干擾，如退偏振非常大，有可能會造成偏振測量方法的失效。因此，本實施例的內窺鏡優選采用硬管光路作為內窺鏡的照明光路，從而能夠克服上述問題。
[0043]本發明還提供一種內窺成像方法，下文提供一非限制性的具體實施例對所述內窺成像方法進行說明:
[0044]一種內窺成像方法，其特征在于，包括以下步驟:
[0045]S1、提供一光源；
[0046]S2、將來自所述光源的光線依次調制為不同偏振態的照明光；
[0047]S3、將所述不同偏振態的照明光通過內窺鏡依次照射至被攝組織表面；
[0048]S4、利用一至少包括四個偏振解析陣列單元的偏振解析陣列對所述被攝組織表面返回的的每一次回光中不同偏振態的光進行解析并成像；
[0049]S5、單幀記錄對所述偏振解析陣列單元解析每次所述回光所成的多幅像，獲得多幀被攝組織表面偏振圖像。
[0050]優選還包括偏振信息還原步驟，用于消除步驟S5所獲得的被攝組織表面偏振圖像中所包含的干擾信息，獲得被攝組織表面真實的穆勒矩陣圖像，所述偏振信息還原步驟包括:
[0051]S601、將步驟S1-S5中的被攝組織表面替換為標準樣品，以獲得標準樣品表面偏振圖像；
[0052]S602、根據所述被攝組織表面偏振圖像和所述標準樣品表面偏振圖像，計算獲得所述被攝組織表面對應的穆勒矩陣圖像M2和所述標準樣品表面對應的穆勒矩陣圖像M1 ；
[0053]S603、根據下述公式計算獲得被攝組織表面真實的穆勒矩陣圖像Ms:
[0054]M1 = Mg.Mref.Mg
[0055]M2 = Mg.Ms.Mg
[0056]聯立上述兩個公式可獲得Ms。
[0057]其中，Mref為標準樣品真實的穆勒矩陣圖像，是預先測定的已知數;Me是內窺成像所采用的設備自身光學元件的穆勒矩陣圖像，是需要消除的干擾信息。
[0058]為進一步對本發明前述系統及方法進行說明，下文提供更加具體的非限制性實施例對采用圖1所示的內窺鏡系統的進行病變區域檢測的方法進行說明:
[0059]I)將內窺鏡裝置300從圖1的系統中移除，將標準樣品置于透鏡600前，并將液晶調控濾波片130調至某一設定電壓。
[0060]2)按照預先設定的程序改變兩個液晶相位延遲器240、250的電壓，同時記錄攝像單元420獲得的單幀4幅偏振圖像；通過改變液晶相位延遲器的電壓以產生4種不同的相位延遲，進而得到4幀16幅標準樣品的偏振圖像。
[0061]3)由標準樣品的16幅偏振圖像對偏振測量系統進行校準，并按照校準結果微調液晶相位延遲器的電壓，并調整后文的穆勒矩陣計算參數，以得到更加準確的穆勒矩陣圖像。
[0062]4)將內窺鏡裝置安裝在偏振檢測系統上，將液晶調控濾波片調至某一設定電壓，并將標準樣品(該標準樣品可以但不限于是反射鏡)固定于樣品處。重復步驟2)，測量獲得16幅標準樣品的偏振圖像。
[0063]5)將內窺鏡的鏡頭送達體內，重復步驟2)，測量獲得16幅被攝組織表面的偏振圖像。
[0064]6)根據步驟4)和步驟5)獲得的偏振圖像，在計算機上計算標準樣品對應的穆勒矩陣圖像M1和被攝組織表面的穆勒矩陣圖像M2 ;這些穆勒矩陣圖像同時包含了待測物(標準樣品或組織表面)、內窺鏡和光路中其他原件的偏振信息。
[0065]7)通過標準樣品對應的穆勒矩陣圖像M1對被攝組織表面對應的穆勒矩陣圖像M2進行還原，消除內窺鏡和光路中其他原件的偏振干擾。
[0066]8)在計算機顯示屏上顯示還原得到的被攝組織表面真實的穆勒矩陣圖像Ms，通過由穆勒矩陣求出的某些特異性參數可用于劃分出被攝組織的病變區域。
[0067]9)改變液晶調控帶通濾波片130的電壓，重復1-8步，可獲得多光譜的偏振內窺圖像。
[0068]將偏振檢測的方法用到內窺鏡中面臨的另一個重要問題是，組織表面的偏振信息會被所采用的內窺成像所采用的設備(包括內窺鏡和其他光學元件)固有的一些光學偏振信息所干擾。主要的干擾有透鏡面反射的偏振干擾、應力產生的雙折射的干擾、以及常見的內窺鏡前端藍寶石窗口雙折射的干擾。不同的內窺鏡這種干擾會有不同。上述步驟7)中即是用于通過標準樣品對應的穆勒矩陣圖像M1對被攝組織表面對應的穆勒矩陣圖像M2進行還原，消除內窺鏡和光路中其他原件的偏振干擾。下文結合具體的實例，以對一已知客觀穆勒矩陣圖像的被攝組織進行成像，對步驟7)的方法及效果進行進一步的說明:
[0069]下面介紹消除內窺鏡對樣品的偏振干擾的方法。設Mm為標準樣品真實的穆勒矩陣圖像，為已知數;MS為被攝組織表面真實的穆勒矩陣圖像(即:是本方法需要還原獲得的穆勒矩陣圖像，此處稱之為真實的穆勒矩陣圖像僅在于與其他圖像進行區分，而不具有限定意義)，Mc為內窺成像所采用的設備自身光學元件的穆勒矩陣圖像，是需要消除的干擾信息。；實施步驟4)中，測量得到的穆勒矩陣圖像是:
[0070]M1 = Mg.Mref.Mg
[0071]M1的結果如圖4所示。
[0072]實施步驟5)，測量得到的穆勒矩陣圖像是:
[0073]M2 = Mg.Ms.Mg
[0074]M2的結果如圖5所示。圖6所示則是被攝組織表面客觀的穆勒矩陣圖像，對比可看出，直接測量獲得的M1與被攝組織表面客觀的穆勒矩陣圖像相差很大，難于識別病變區域。
[0075]通過上式聯立運算可以得到Ms。
[0076]其結果如圖7所示，對比圖6可以看出，經還原后的穆勒矩陣圖像與客觀的穆勒矩陣圖像已經非常接近，足于用于識別病變區域(上述附圖5-7中虛線所圈定的位置為病變區域)。
[0077]當然，并非所有的內窺鏡都會擁有圖4這樣顯著的偏振性質。本文這里展示的是，即使是這樣顯著的偏振干擾，本實施例的還原算法也可以較好地消除。該還原的方法是通用的，任意內窺鏡都可使用。如圖8-10所示的實例，圖8為染色后的病變組織切片，其虛線標記區域為病變區域，圖9為與圖8的病變組織毗鄰但未染色的病變組織切片，可以看到，在未染色的情況下，無法識別病變區域，圖10為采用前述步驟I)-8)獲得的穆勒矩陣圖像，可以看到，采用前述方法步驟能夠有效地識別出病變區域。需要說明的是，為了使的病變區域顯示更清晰，和便于灰度顯示，圖4-10所展示的是對穆勒矩陣所有陣元求絕對值的結果O
[0078]本領域技術人員熟知，上述步驟6)中，將偏振圖像通過計算獲得穆勒矩陣圖像的方法在現有技術中有諸多選擇。下文將提供一種優選但非限制性的方法:
[0079]測量穆勒矩陣需要不同的起偏和檢偏態的組合，對于任意的起偏和檢偏組合，光學傳感器(例如CCD)上記錄的光強信息為:

4 4
[0080]X= AMG = H Cii ηιι? g,

J=I _/=1.'
[0081]這里G為起偏獲得的斯托克斯向量，M為目標穆勒矩陣，A為檢偏斯托克斯向量，它是檢偏穆勒矩陣的第一列。為了得到16個穆勒矩陣M，至少需要測量16組光強X。將穆勒矩陣寫成1X16的向量形式:
[0082]M= [mil ml2...m43 m44]T
[0083]上式中T為矩陣轉置。
[0084]偏振測量可表不為:

^lg1I ^lg12 ^lgl * ^lgl 卜11
I I7 72222

?fg-f a[g； a[g；.a；g； mil
[0085]X = WM = a\gl ^g31 afg33.a\gl.ml3
Vgf?fg3V.aUU [m44_
[0086]這里X為NX I的向量，表示N次測量的光強值。W為NX 16的儀器矩陣，或者稱為穆勒矩陣數據還原矩陣，它的每個元素為
N N N
[0087]Wij = Qi g.
[0088]N 彡 16，當 N = 16 時，W 為 16X16 的方陣。
[0089]M = T1X
[0090]T1為W的逆矩陣。上式構成16個未知數M和16個線性獨立方程構成的正定方程組，有唯一的解M。
[0091]當N>16時，同樣只有16個未知數M,但具有多于16個不同的方程。該方程組為超定方程組，需要通過最小二乘法獲得最優解M?？刹捎孟率接嬎?br> [0092]M = (WtW) ^1WtX
[0093]需要注意的，上述G向量和A向量的選取要保證系統擁有16個的線性獨立方程組，同時W矩陣的條件數cond(W)和equally weighted variance (EffV)要盡量小。
[0094]我們使用矩陣的條件數cond(W)來尋找最優化的儀器矩陣，矩陣的條件數最小為1，越接近I，線性方程組的求解越精確。
[0095]k ⑷=IlAlI I IA—11
[0096]||A||為A的第二類范數。
[0097]我們同時利用另一個參數即equally weighted variance (EWV)表示系統的測量誤差容忍度，EffV越小，容忍度越高。
3 N-1R-1
[0098]W = ￡￡(A"；)；,a_ =Tr[(A-；)T Α-；] = 2^M-
/=1 k=0 /=0
[0099]這里W+為W的偽逆，Tr為求矩陣的跡。
[0100]在我們的儀器中，G向量由液晶相位延遲器確定，A向量由四通道偏振解析透鏡陣列決定。
[0101]特別地，在本例的設計中，液晶相位延遲器240和250的相位延遲設為
[0102]S1 = 315° +a90° ,^1 = 135° +a90°
[0103]液晶相位延遲器240和250的快軸角度設為
[0104]Θ: = c27.4° +b90°，θ 2 = c72.4° +b90°
[0105]上式a，b為任意整數，c = ±1，正負與01和θ2相同。
[0106]在本例的設計中，采用四通道偏振解析陣列進行檢偏。圖3中的403為偏振解析陣列單元411的偏振片，四個通道的偏振片的通光方向一致，并將該通光方向記為0° ;圖3中403為偏振解析陣列單元411中的波片，四個通道的波片為消色差波片，相位延遲都等于130°，快軸方向分別為±51.7°和±15.1°。以上設置可以使得整套偏振測量系統的儀器矩陣W達到很好的指標，即擁有很小的條件數和EWV。
[0107]以上內容是結合具體的優選實施方式對本發明所作的進一步詳細說明，不能認定本發明的具體實施只局限于這些說明。對于本發明所屬【技術領域】的技術人員來說，在不脫離本發明構思的前提下，還可以做出若干等同替代或明顯變型，而且性能或用途相同，都應當視為屬于本發明的保護范圍。
【權利要求】
1.一種偏振成像內窺鏡系統,包括: 光源； 用于將來自所述光源的光依次調制為不同偏振態的照明光的起偏裝置； 用于將來自所述起偏裝置的所述不同偏振態的照明光依次照射至被攝組織表面上的內窺鏡裝置； 用于對來自所述被攝組織表面的回光進行成像和對所成的像進行記錄的檢偏攝像裝置； 其特征在于: 所述檢偏攝像裝置包括:依次設置的偏振解析透鏡陣列和攝像單元， 所述偏振解析陣列包括至少四個偏振解析陣列單元，分別用于解析所述回光中不同偏振態的光并成像； 所述攝像單元為單個CCD或CMOS相機，用于單幀記錄對所述偏振解析陣列不同單元所成的多幅像。使用單個CCD或CMOS相機能夠避免使用多個CCD或CMOS相機因為設備差異產生的問題。
2.根據權利要求1所述的偏振成像內窺鏡系統，其特征在于: 所述偏振解析陣列單元包括依次排列設置的成像透鏡模塊、消色差波片和偏振片。
3.根據權利要求1或2所述的偏振成像內窺鏡系統，其特征在于:所述起偏裝置包括:依次排列設置的準直透鏡、偏振片和兩個液晶相位延遲器；所述偏振片用于對來自光源的光進行起偏；所述兩個液晶相位延遲器用于產生不同的相位延遲以將來自所述偏振片的光線調制為預定偏振態的完全偏振光。
4.根據權利要求1或2所述的偏振成像內窺鏡系統，其特征在于:所述光源包括:用于產生寬帶光的寬帶光源及用于對所述寬帶光進行濾波以產生不同中心波長的窄帶光的液晶調控帶通濾波片。
5.根據權利要求1或2所述的偏振成像內窺鏡系統，其特征在于:所述檢偏攝像裝置還包括設置于所述偏振解析透鏡陣列之前的中繼透鏡系統。
6.根據權利要求1或2所述的偏振成像內窺鏡系統，其特征在于:還包括設置于所述起偏裝置與所述內窺鏡裝置之間的分光裝置，來自所述起偏裝置的光線經所述分光裝置透射進入所述內窺鏡裝置，所述回光經所述分光裝置反射進入所述攝像單元。
7.根據權利要求1或2所述的偏振成像內窺鏡系統，其特征在于: 所述兩個液晶相位延遲器的相位延遲可分別設置為:\ = 315° +a90° , δ2 =135° +a90°，其中S1為靠近所述偏振片的相位延遲器的相位延遲，δ2為遠離所述偏振片的相位延遲器的相位延遲； 所述兩個液晶相位延遲器的快軸角度分別為Q1 = C27.4° +b90°，θ2 =c72.4° +b90°，Q1為靠近所述偏振片的相位延遲器的快軸角度，θ2為遠離偏振片的相位延遲器的快軸角度，上式中a、b為任意整數，C= ±1，正負與01和θ2相同。
8.一種內窺成像方法，其特征在于，包括以下步驟: S1、提供一光源； S2、將來自所述光源的光線依次調制為不同偏振態的照明光； S3、將所述不同偏振態的照明光通過內窺鏡依次照射至被攝組織表面； S4、利用所述偏振解析陣列的每一個偏振解析單元對所述被攝組織表面返回的回光進行解析并成像； S5、單幀記錄對所述偏振解析陣列單元解析每次所述回光所成的多幅像，改變S2和S3步驟中的入射偏振態，拍攝至少4幀被攝組織表面偏振圖像即可獲得被攝組織表面的穆勒矩陣圖像。
9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于:還包括偏振信息還原步驟，用于消除步驟S5所獲得的被攝組織表面偏振圖像中所包含的干擾信息，獲得被攝組織表面真實的穆勒矩陣圖像，所述偏振信息還原步驟包括: S601、將步驟S1-S5中的被攝組織表面替換為標準樣品，以獲得標準樣品表面偏振圖像； S602、根據所述被攝組織表面偏振圖像和所述標準樣品表面偏振圖像，計算獲得所述被攝組織表面對應的穆勒矩陣圖像M2和所述標準樣品表面對應的穆勒矩陣圖像M1 ； S603、根據下述公式計算獲得被攝組織表面真實的穆勒矩陣圖像Ms:S
M1 = Mg.Mref.Mg
M2 = Mg.Ms.Mg
聯立上述兩個公式可獲得Ms。 其中，為標準樣品真實的穆勒矩陣圖像，是預先測定的已知數⑷^是內窺成像所采用的設備自身光學元件的穆勒矩陣圖像，是需要消除的干擾信息。
【文檔編號】A61B1/05GK104161493SQ201410351749
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2014年7月22日 優先權日:2014年7月22日
【發明者】馬輝, 常金濤, 曾楠 申請人:清華大學深圳研究生院