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一種能抑制寄生電容的方向性腦深部電極的制作方法

文檔序號:11094864閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種能抑制寄生電容的方向性深部腦電極,其特征在于:所述電極(1)的遠端的外表面設置有MEMS膜層;所述MEMS膜層可由一層或多層金屬物,一層或多層硅系阻隔物,和一層或多層聚合物形成;所述MEMS膜層形成多個電極觸點(2),所述電極觸點(2)設置為全向電極或定向電極,所述全向電極圍繞所述電極(1)的大約整個圓周;所述定向電極圍繞所述電極(1)的一部分圓周,所述定向電極可電連接成所述全向電極;任意相鄰所述電極觸點(2)之間存在能夠抑制寄生電容的間隔(3)。

2.根據權利要求1所述的方向性深部腦電極,其特征在于:所述間隔(3)的形狀可設置為具有周期性變化的波形形狀,所述波形的波長約為電極刺激波形波長的整數倍。

3.根據權利要求1或2所述的方向性深部腦電極,其特征在于:所述間隔(3)的形狀設置為鋸齒狀,所述鋸齒狀的波形波長約為電極刺激波形波長的整數倍。

4.根據權利要求1或2所述的方向性深部腦電極,其特征在于:所述間隔(3)的形狀設置為波浪形狀,所述波浪形狀的波長約為電極刺激波形波長的整數倍。

5.根據權利要求1所述的方向性深部腦電極,其特征在于:所述間隔(3)的形狀設置為折線段形狀。

6.根據權利要求1所述的方向性深部腦電極,其特征在于:所述間隔(3)的形狀設置為對稱形狀或者非對稱形狀。

7.根據權利要求1所述的方向性深部腦電極,其特征在于:所述間隔(3)的形狀設置為規則形狀或非規則形狀。

8.根據權利要求1所述的方向性深部腦電極,其特征在于:所述金屬物層沉積在所述硅系阻隔物層的表面上;所述硅系阻隔層沉積到所述聚合物層上。

9.根據權利要求1所述的方向性深部腦電極,其特征在于:所述金屬物可選擇為:金,銀,鈦,鉑或銥,所述硅系阻隔物可選擇為:氮化硅,氧化硅,碳化硅,多晶硅或非晶硅;所述聚合物層可選擇為:聚酰亞胺或硅氧烷前體。

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