專利名稱:電子元件的清洗裝置的制作方法
技術領域:
本實用新型涉及電子元件的清洗裝置,尤其是涉及到鋁電解電容器芯 包的清洗裝置。
肖蹄^
隨著電子元器件行業(yè)不斷發(fā)展,在電解電容器技術方面,制造方面也 有了長足的進步。隨著技術不斷的革新,新產品的不斷問世,電解電容器, 尤其是鋁電解電容器在化成鋁箔裁斷時會損害化成鋁箔的氧化膜層,會造 成鋁電解電容器漏電流等電特性參數(shù)的不良,因此在外殼封裝前對鋁電解
電容器芯包的清洗預處理工藝逐漸被重視,經過清洗預處理的鋁電解電容 器的電特性參數(shù)會得到相應的提高。但是存在一個問題,如果不清洗掉殘 留在鋁電解電容器芯包上的清洗液,則會對電容器電特性參數(shù)帶來一定的 不良影響。在現(xiàn)有文獻技術資料中均未記載針對此類清洗的清洗裝置,僅
在專利號200310117118.4中提到利用超聲波清洗電子元件,尤其是切割后 半導體封裝件的清洗裝置,但是超聲波,強力水流清洗不適用于鋁電解電 容器芯包,其超聲震動,強力水流沖擊會損害鋁電解電容器芯包的化成鋁 箔的氧化層,從而影響電容器電特性。
為了達到不損害電解電容器芯包化成鋁箔氧化層的有效清洗效果,達 到穩(wěn)定的清洗液面,研究發(fā)明了本實用新型。
發(fā)明內容
本實用新型所要解決的技術問題是在不損害鋁電解電容器芯包化成 鋁箔氧化層的前提下,提供相對平穩(wěn)的清洗液面,流動的清洗液,達到有 效清洗殘留在鋁電解電容器芯包上清洗液的清洗裝置,且該清洗裝置結構簡單,制作成本低廉。
為了解決這一技術問題,本實用新型提出的技術解決方案是
一種電子元件的清洗裝置,該清洗裝置包括可容置清洗液的清洗槽 體,為該清洗槽體供應清洗液的清洗液供應系統(tǒng);所述清洗槽體的底部至 少開設有一進液口 ,其與所述的清洗液供應系統(tǒng)相連接以便為清洗槽體供 應清洗液;所述清洗槽體外側連接有至少一溢流槽;該清洗液供應系統(tǒng)具 有可調節(jié)清洗液流量的流量控制裝置以控制清洗液流速。
所述清洗槽體側邊上開設有至少一溢流口,以使清洗液可以從該溢流 口溢流到溢流槽,保持一定的清洗液面高度。
所述清洗槽體內部水平設置有一可拆卸調流板,該調流板上設置有復 數(shù)個可使清洗液流經的透孔,以使從清洗槽體底部進液口進入該清洗槽體 的液體向上更均勻流經該調流板的透孔達到液面平穩(wěn)。
所述的清洗裝置,在該清洗槽體兩外側還分別安裝有可上下升降的頂 桿,以便使待清洗產品跟隨頂桿上下升降,自動浸漬進清洗液或脫離清洗 液,可實現(xiàn)上下升降清洗,該頂桿可以通過與氣缸連接而上下升降。
所述的清洗裝置,還可在所述清洗槽體兩外側邊上分別安裝有可上下 移動的桁架。通過桁架的上下移動,調節(jié)產品浸漬進清洗液的深度。
本實用新型的技術優(yōu)點是結構簡單,制作方便,其可以通過調節(jié)清 洗液的流速,以適應對不同產品的洗凈要求,達到更好的洗凈效果;由于 洗凈液為流動狀態(tài),因此提高了清洗效果;由于增加了調流板使清洗液平 穩(wěn)流動,保持平穩(wěn)液面,提高了待清洗產品浸漬深度的一致性,保證了清 洗效果,保證了清洗液不接觸待清洗產品陰陽極引出線,避免了對其的腐 蝕;加之頂桿及桁架可上下調節(jié),可進行上下升降清洗,也可適應多種產 品的清洗要求。
圖1是本實用新型清洗裝置;圖2是本實用新型清洗槽體未安裝調流板之俯視示意圖; 圖3是本實用新型清洗槽體剖面示意圖。
具體實施方式
如圖1 圖3所示,本實用新型提供一種用于電子元件清洗、尤其用 于對鋁電解電容器芯包進行清洗的裝置,其主體結構包括清洗槽體1和清 洗液供應系統(tǒng)2,其中
所述清洗槽體l,其為一具有可容納清洗液的槽體,該清洗槽體l可 以是方形,圓形或其他形狀,可依據(jù)生產要求選取其形狀,本實施例選用 方形槽體;該清洗槽體1可選用絕緣材料,也可以選用不銹鋼等材料制成, 該清洗槽體1可放置在一承重架或作業(yè)臺面上(為普通可承重架或作業(yè)臺 面),該清洗槽體l的底部上開設有至少一進液孔121,本實施例開設有3 個進液孔,均勻分布在該底部上,以使清洗液較均勻進入該清洗槽體1中; 該清洗槽體l側邊上可開設有至少一溢流口 10,在本實施例中,采用該清 洗槽體1相對兩側邊的高度低于另外相對兩側邊的高度,從而形成兩溢流 口 10,清洗液可以從該相對較低的兩側邊溢流口 10處溢流,維持一定的 液面高度,且使清洗液保持流動狀態(tài),提高清洗效果,該清洗槽體l具有 溢流口的外側設置有溢流槽4,為節(jié)省材料和減少占用體積,該溢流槽4 可僅僅與有溢流口的側邊連接,而不用環(huán)繞該清洗槽體1整個外側;該溢 流槽4至少有一排液口 41,從清洗槽體1溢流出來的清洗液流入該溢流槽 4,通過排液口 41被收集在一起;上述該清洗槽體1的側邊也可以等高, 不開設溢流口,清洗液可以從各側邊向外溢流,該溢流槽4設置在該清洗 槽體1的外側,以便收集從該清洗槽體1溢流出的清洗液; 一調流板5, 其形狀和該清洗槽體l內周邊形狀相似,其上均勻開設有復數(shù)個透孔51, 該調流板5水平可拆卸式安裝在該清洗槽體1內部,其位于該清洗槽體1 內上底表面的上方,以便從該清洗槽體1底部進液孔121中進入槽體的清 洗液向上更均勻流經該透孔51,使清洗液更均勻流動,保證液面平穩(wěn);所述清洗液供應系統(tǒng)2,其輸液管道21與該清洗槽體1底部相連通, 通過泵(根據(jù)清洗液的不同選擇泵的類型,清洗液腐蝕性小時,可選擇水 泵)使清洗液持續(xù)通過該清洗槽體1底部進液孔121進入清洗槽體1中, 從而使清洗槽體1中充盈清洗液并使液體流動;在輸液管道21與該清洗 槽體1底部相連通的輸液管道21間,安裝有流量控制裝置(未圖示),該 流量控制裝置可以是流量計,閥門,本實施例采用流量計,通過調節(jié)流量 計,可得到需要的流速,達到控制清洗液流速的目的,依據(jù)待清洗產品的 需求,選擇合適的流速,達到最佳清洗效果。
按照本實用新型技術方案,在該清洗槽體1兩外側邊上,還分別水平 安裝有一可上下移動的桁架7,該桁架上開設有至少兩腰圓孔,通過螺釘 穿過該腰圓孔,將該桁架分別可移動的固定于該清洗槽體1的兩外側,為 了更方便的控制作業(yè)時間,或實現(xiàn)自動上下升降清洗,在該清洗槽體l的 兩外側分別垂直安裝有至少2根頂桿8,該頂桿8可通過與汽缸連接進行 上下升降運動,當放置有帶清洗產品的置物架放置在清洗槽體l上時,通 過支持著置物架的頂桿的向下運動,置物架隨同待清洗產品一起向下,使 待清洗產品浸漬進清洗液,通過調整支持帶清洗產品的該兩桁架7的髙度, 調整待清洗產品的高度,以便使待清洗產品達到需要浸漬進清洗液的深 度,當作業(yè)結束時,通過頂桿向上運動,支撐起置物架,使清洗好的產品 脫離清洗液,結束一個清洗循環(huán)。便于控制作業(yè)時間,可實現(xiàn)上下升降清 洗,可適用于不同尺寸規(guī)格的產品的清洗作業(yè)。作業(yè)時間、頂桿的上下升 降運動,還可以通過一控制箱9進行控制。
本實用新型清洗裝置的使用方法是通過清洗液供應系統(tǒng)給清洗槽體 1供應清洗液,依據(jù)待清洗產品的尺寸規(guī)格,調節(jié)流量控制裝置選擇合適 的清洗液流速,把放置鋁電解電容器待清洗產品的置物架放置在清洗槽體 上,在頂桿支撐作用下隨著頂桿向下運動,使待清洗產品浸漬進清洗液中 適宜的深度進行清洗,待達到作業(yè)規(guī)定的時間,頂桿向上作用,提升置物架,使產品脫離清洗液,完成清洗作業(yè)。也可以利用頂桿的動作頻率設置, 進行上下升降清洗。由于該裝置清洗液為勻速流動清洗液,液面穩(wěn)定,因 此可保證清洗產品浸漬深度,不受巨大水流沖擊,從而保證化成箔氧化層 不受損害,陰陽極引出線不受清洗液腐蝕,并達到很好的清洗效果,并可 使用不同規(guī)格產品的清洗。
以上通過具體實施例對本實用新型技術方案進行了詳細說明,給出 的例子僅是應用范例,不能理解為對本實用新型權利要求保護范圍的一 種限制。因此,凡在相同的實用新型條件下所作有關本實用新型的任何 修飾或變更,皆乃應包括在本實用新型保護的范圍之內。
權利要求1. 一種電子元件的清洗裝置,包括可容置清洗液的清洗槽體和清洗液供應系統(tǒng),其特征在于所述清洗槽體的底部至少有一進液口,所述的清洗液供應系統(tǒng)與該進液口相連通,為所述的清洗槽體供應清洗液;所述清洗槽體外側至少設置有收集從該清洗槽體溢流出的清洗液的一溢流槽;所述的清洗液供應系統(tǒng)具有可調節(jié)清洗液流量的流量控制裝置。
2. 根據(jù)權利要求l所述的電子元件的清洗裝置,其特征在于所述清 洗槽體側邊上開設有至少一溢流口 。
3. 根據(jù)權利要求l所述的電子元件的清洗裝置,其特征在于所述清 洗槽體的內部水平安裝有可拆卸式調流板。
4. 根據(jù)權利要求3所述的電子元件的清洗裝置,其特征在于所述調 流板上均勻分布有復數(shù)個可使清洗液流過的透孔。
5. 根據(jù)權利要求l所述的電子元件的清洗裝置,其特征在于所述清 洗液供應系統(tǒng)的流量控制裝置為流量計,該流量計安裝于所述清洗液供應 系統(tǒng)與所述清洗槽體之間連接的輸液管上。
6. 根據(jù)權利要求l所述的電子元件的清洗裝置,其特征在于該清洗 槽體兩外側還分別安裝有可上下升降的頂桿。
7. 根據(jù)權利要求6所述的電子元件的清洗裝置,其特征在于所述頂 桿由氣缸帶動上下升降。
8. 根據(jù)權利要求l所述的電子元件的清洗裝置,其特征在于所述清 洗槽體兩外側邊上分別安裝有可上下移動的桁架。
專利摘要本實用新型涉及一種電子元件的清洗裝置,包括可容置清洗液的清洗槽體和清洗液供應系統(tǒng)所述該清洗槽體的底部至少有一進液口,其與所述的清洗液供應系統(tǒng)相連接以便為所述的清洗槽體供應清洗液;所述的清洗液供應系統(tǒng)具有可調節(jié)清洗液流量的流量控制裝置以控制清洗液流速。該清洗裝置結構簡單,制作成本低廉,由于清洗液流動液面平穩(wěn),因而提高了清洗效果,且不會對產品產生損害,消除了清洗液對產品陰陽極引出線的腐蝕隱患。
文檔編號B08B13/00GK201223861SQ200820036068
公開日2009年4月22日 申請日期2008年5月27日 優(yōu)先權日2008年5月27日
發(fā)明者曹建東, 溫貽芳, 勇 王, 袁淑會, 濤 顧 申請人:蘇州工業(yè)職業(yè)技術學院