專利名稱：清洗組合物的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種清洗組合物，更具體地，涉及一種用于諸如液晶顯示器，等離子體顯示器，柔性顯示器和類似顯示器的平板顯示器(在下文中，稱之為“FPDS”)的清洗組合物。
背景技術：
FPDs,其典型實例是液晶顯示器(IXDs)，是通過膜形成，曝光，蝕刻以及諸如此類 與半導體裝置同樣的工藝制造的。但是，在這些工藝中，具有Ium或以下尺寸的各種有機或者無機粒子附著到基板的表面，從而導致基板的污染。當帶著附著其上的粒子進行隨后的工藝時，在膜上形成針孔或坑，及線路斷裂或橋接，從而降低產品良率。因此，為了除去這些粒子，實施清洗工藝，因而開發出各種清洗劑。這些清洗劑的除去有機或無機微粒的能力必須是優異的，且它們必須不腐蝕基板或由鋁、鋁合金、銅、銅合金或者類似物制成的且形成于基板上的金屬線。此外，為了容易地實施隨后的工藝，需要這些清洗劑提高清洗后基板的涂布性能。韓國專利登記號10-0305314公開了一種包括不含金屬離子的堿性水溶液和具有2至10個羥基(-0H)的多羥基基團的清洗劑。但是，由于這種清洗劑不包含諸如乙二醇醚的有機溶劑，所以存在的問題是其不具有足夠的除去諸如油及其類似物的有機污染物的能力，和其不能充分顯示出在清洗后賦予基板表面親水性的效果。此外，韓國專利登記號10-073052公開了一種包括乙二醇醚，水溶性有機溶劑和銨基化合物的清洗劑。然而，這種清洗劑在其能夠被有效使用在除去光致抗蝕劑工藝方面是有利的，但在其未賦予基板表面親水性方面和大量的有機溶劑殘留在基板上方面是有問題的，因而增加了基板的表面接觸角。此外，韓國專利登記號10-0522845公開了一種清洗劑，包括選自胺類和氟化物的至少一種溶解促進劑；和水溶性高分子化合物如聚乙烯吡咯烷酮。但是這種清洗劑也有問題，硅基玻璃基板或者氮化硅膜被添加的氟化物腐蝕，和金屬如銅也被腐蝕。
發明內容
因此，想出了本發明以解決上述問題，本發明的目的是提供一種清洗劑，其具有除去在制造FPD基板工藝過程中污染玻璃基板或者金屬膜的有機污染物或者粒子的優異能力，其具有防止由鋁、鋁合金、銅、銅合金或者類似物制成的金屬線被腐蝕的優異能力，和其具有賦予基板表面親水性以提高清洗后基板的涂層性能的優異能力。為了完成以上目的，本發明的一個方面提供了一種能賦予基板的表面親水性的清洗組合物，包括基于組合物總量，0. 0001 5wt%的選自由聚乙烯醇、聚乙二醇(PEG)、纖維素、聚丙烯酸(PAA)、聚乙基噁唑啉和聚乙烯吡咯烷酮組成的組中的至少一種水溶性高分子化合物；0. 01 5wt*%的多元醇化合物；0. 05 IOwt %的氫氧化季銨；0. 05 40wt*%的由以下分子式I表示的乙二醇醚基有機溶劑；和剩余的水。
分子式I
權利要求
1.一種能賦予基板的表面親水性的清洗組合物，包含，基于所述組合物的總量0.0001 5wt%的選自由聚乙烯醇，聚乙二醇，纖維素，聚丙烯酸，聚乙基噁唑啉和聚乙烯吡咯烷酮組成的組中的至少一種水溶性高分子化合物； 0.01 5wt%的多元醇化合物； 0.05 IOwt %的氫氧化季銨； 0.05 40被％的由以下分子式I表示的乙二醇醚基有機溶劑；和 剩余的水 [分子式I]
2.根據權利要求I所述的清洗組合物，其中所述的多元醇化合物包括選自由乙二醇、丙二醇、1，3-丙二醇、1，2-丁二醇、1，3-丁二醇、2，3-丁二醇、1，4-丁二醇、2-甲基-1，3-丙二醇、甘油、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、季戊四醇、木糖醇、甘露醇、山梨醇、赤蘚糖醇、側金盞花醇、蘇糖醇、阿拉伯糖醇和塔羅糖醇組成的組中的至少一種。
3.根據權利要求I所述的清洗組合物，其中所述的氫氧化季銨包括選自由氫氧化四甲銨，氫氧化四乙銨，氫氧化四丙銨，和氫氧化四丁銨組成的組中的至少一種。
4.根據權利要求I所述的清洗組合物，其中所述的由以上分子式I表示的乙二醇醚基有機溶劑包括選自由乙二醇單甲醚，二乙二醇單甲醚，二乙二醇單乙醚，乙二醇單乙醚，三乙二醇單乙醚，三乙二醇單甲醚，二丙二醇單乙醚，丙二醇單甲醚組成的組中的至少一種。
5.一種制造用于液晶顯示器的陣列基板的方法，包含使用權利要求I至4中的任意一種所述清洗組合物清洗基板的步驟。
全文摘要
本發明公開了一種能賦予基板的表面親水性的清洗組合物，包括基于組合物的總量，0.0001～5wt％的選自由聚乙烯醇，聚乙二醇(PEG)，纖維素，聚丙烯酸(PAA)，聚乙基噁唑啉和聚乙烯吡咯烷酮組成的組中的至少一種水溶性高分子化合物；0.01～5wt％的多元醇化合物；0.05～10wt％的氫氧化季銨；0.05～40wt％的由以下分子式表示的乙二醇醚基有機溶劑；和剩余的水。
文檔編號C11D7/32GK102965214SQ201110270579
公開日2013年3月13日 申請日期2011年8月31日 優先權日2011年8月31日
發明者尹嚆重, 洪憲杓, 房淳洪, 金炳默 申請人:東友Fine-Chem股份有限公司