清洗裝置制造方法
【專利摘要】本發明公開了一種清洗裝置，包括：清洗液輸送管體及與清洗液輸送管體相連接的滴頭。滴頭包括中空的滴頭殼體，滴頭殼體的頂部開設有進液口，滴頭殼體的底部開設有出液口，滴頭殼體內填充有海綿狀填充物，滴頭殼體的開設有進液口的一側安裝在清洗液輸送管體的一端。本發明通過在滴頭殼體內填充海綿狀填充物，當使用該清洗裝置清洗晶圓表面的邊緣和晶圓的側面時，從海綿狀填充物中滲出的清洗液液柱能夠保持很好的連續性，從而使得晶圓表面的邊緣和側面能夠得到有效的清洗。
【專利說明】

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【技術領域】
[0001]本發明涉及一種清洗裝置，尤其涉及一種可清洗晶圓邊緣的清洗裝置。

【背景技術】
[0002]晶圓清洗是半導體器件制造過程中最重要和最頻繁的步驟，隨著半導體技術的快速發展、集成度的不斷提高以及線寬的不斷縮小，對晶圓的質量要求越來越高。在半導體器件制造過程中，幾乎每道工序都伴隨著晶圓清洗問題，晶圓清洗的好壞對器件性能有重要的影響，處理不當，可能會使全部晶圓報廢，或者制造出來的器件性能低劣，穩定性和可靠性都比較差。常見的晶圓清洗方法有濕法清洗、干法清洗、兆聲清洗、擦洗法及高壓噴射法等，在工藝過程中，可以根據不同的工藝需求選擇合適的清洗方法。
[0003]目前的清洗方法和裝置對于晶圓表面的中間區域的清洗效果較佳，而對于晶圓表面的邊緣區域和晶圓的側面的清洗效果不是太理想，甚至無法清洗晶圓表面的邊緣區域和晶圓的側面。
[0004]例如，現在較為常用的一種晶圓清洗裝置是利用噴嘴噴射化學液體到晶圓表面的邊緣區域，化學液體與晶圓邊緣的污染物發生化學反應，從而將晶圓邊緣的污染物去除。清洗時，晶圓固定在晶圓夾盤上，晶圓夾盤帶動晶圓旋轉。此時，如果噴嘴中的化學液體流速過快，化學液體噴射至晶圓表面的邊緣時容易向外飛濺，從而無法清洗晶圓的側面，同時，噴嘴中的化學液體流速過快還會造成化學液體向晶圓的中間區域流動，損傷晶圓中間區域的圖形。如果想降低噴嘴中的化學液體的流速，則對流量控制單元的精度提出了較高的要求，一旦流量控制單元的精度出現偏差，導致噴嘴噴射的化學液體斷斷續續，將會大大降低晶圓邊緣的清洗效果。


【發明內容】

[0005]本發明的目的在于提供一種清洗裝置，該清洗裝置結構簡單且能夠有效去除晶圓表面的邊緣和晶圓側面上的污染物。
[0006]為實現上述目的，本發明提出的清洗裝置，包括:清洗液輸送管體及與清洗液輸送管體相連接的滴頭。滴頭包括中空的滴頭殼體，滴頭殼體的頂部開設有進液口，滴頭殼體的底部開設有出液口，滴頭殼體內填充有海綿狀填充物，滴頭殼體的開設有進液口的一側安裝在清洗液輸送管體的一端。
[0007]在一個實施例中，清洗液輸送管體包括管套和設置于管套內的導管，其中導管插設于滴頭殼體的進液口內。
[0008]在一個實施例中，滴頭殼體的進液口處設置有連接件，滴頭殼體借助該連接件可拆卸的安裝在清洗液輸送管體的管套的一端。
[0009]在一個實施例中，海綿狀填充物封堵滴頭殼體的出液口，或者海綿狀填充物充滿滴頭殼體的內部。
[0010]在一個實施例中，清洗裝置還進一步包括保濕槽，保濕槽存儲有保濕液，當清洗裝置處于空閑狀態時，滴頭放置于保濕槽中，以使滴頭殼體內的海綿狀填充物保持濕潤狀態。保濕液為清洗液或去離子水。保濕槽開設有供液口和排液口。保濕槽的供液口正對著滴頭殼體的出液口。
[0011 ] 在一個實施例中，滴頭進一步包括過濾膜，過濾膜包覆滴頭殼體的出液口。
[0012]在一個實施例中，滴頭進一步包括噴嘴，噴嘴安裝在滴頭殼體的出液口處。
[0013]綜上所述，本發明通過在滴頭殼體內填充海綿狀填充物，當使用該清洗裝置清洗晶圓表面的邊緣和晶圓的側面時，從海綿狀填充物中滲出的清洗液液柱能夠保持很好的連續性，從而使得晶圓表面的邊緣和側面能夠得到有效的清洗。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]圖1揭示了根據本發明的清洗裝置的結構示意圖。
[0015]圖2揭示了根據本發明的清洗裝置的剖面結構示意圖。
[0016]圖3揭示了根據本發明的清洗裝置的滴頭的剖面結構示意圖。
[0017]圖4揭示了根據本發明的清洗裝置處于空閑狀態時的剖面結構示意圖。
[0018]圖5揭示了根據本發明的第二實施例的滴頭的剖面結構示意圖。
[0019]圖6揭示了根據本發明的第三實施例的滴頭的剖面結構示意圖。

【具體實施方式】
[0020]為詳細說明本發明的技術內容、構造特征、所達成目的及功效，下面將結合實施例并配合圖式予以詳細說明。
[0021]參閱圖1和圖2，揭示了根據本發明的清洗裝置的結構示意圖以及剖面結構示意圖。該清洗裝置包括清洗液輸送管體110及與清洗液輸送管體110相連接的且可拆卸的滴頭120。如圖2所示，清洗液輸送管體110可以進一步包括可移動的管套111，管套111內設置有用于輸送清洗液的導管112。
[0022]結合圖3，滴頭120包括中空的滴頭殼體121，滴頭殼體121的頂部開設有進液口122，滴頭殼體121的底部開設有圓形的出液口，滴頭殼體121內填充有海綿狀填充物123，海綿狀填充物123封堵滴頭殼體121的出液口。較佳的，滴頭殼體121內充滿海綿狀填充物123，海綿狀填充物123的形狀與滴頭殼體121的內腔形狀一致。配合清洗液130的不同種類，可選用相應材質的海綿狀填充物123，如聚乙烯醇(PVA)。滴頭殼體121的進液口 122處可以進一步設置連接件124，如螺絲。滴頭殼體121借助該連接件124可拆卸的安裝在清洗液輸送管體110的管套111的一端，管套111內設置的導管112插設于滴頭殼體121的進液口 122內，以向滴頭殼體121內輸送清洗液130。
[0023]使用該清洗裝置清洗晶圓140表面的邊緣和晶圓140的側面時，先將晶圓140放置在可旋轉的基座150上，優選的，該基座150可真空吸附晶圓140。基座150帶動晶圓140以一定的轉速轉動，基座150的轉速可以為100-700rpm。然后，將與清洗液輸送管體110相連接的滴頭120移至晶圓140表面的邊緣上方，清洗液130通過導管112輸送至滴頭殼體121內，由于海綿狀填充物123的汲取和緩沖作用，起初，清洗液130儲存在海綿狀填充物123中，當海綿狀填充物123中的清洗液130達到一定量時，清洗液130從海綿狀填充物123的底部的最低點位置滲出并供應至晶圓140表面的邊緣和晶圓140的側面，以清洗晶圓140表面的邊緣和晶圓140的側面。因為海綿狀填充物123的儲存作用，從海綿狀填充物123中滲出的清洗液130形成穩定、均勻、連續的液柱，即使導管112內清洗液130的流量偶爾不穩定，從海綿狀填充物123中滲出的清洗液130液柱仍能保持很好的連續性，從而使得晶圓140表面的邊緣和側面能夠得到有效的清洗。
[0024]參閱圖4，本發明的清洗裝置還包括保濕槽160，保濕槽160儲存有保濕液，該保濕液可以為清洗液或去離子水。保濕槽160的底部可開設有供液口 161和排液口 162，通過該供液口 161和排液口 162，可以向保濕槽160補充保濕液或將保濕槽160內的保濕液排出。當清洗裝置處于空閑狀態時，可以將滴頭120放置于保濕槽160中，以使滴頭殼體121內的海綿狀填充物123保持濕潤狀態，從而延長海綿狀填充物123的使用壽命。在使用時，優選使保濕槽160的供液口正對著滴頭殼體121的出液口。為了使滴頭殼體121內的海綿狀填充物123保持濕潤狀態，還可以通過清洗液輸送管體110的導管112向海綿狀填充物123供應清洗液或去離子水。
[0025]參閱圖5，揭示了根據本發明的第二實施例的滴頭的剖面結構示意圖。滴頭220包括中空的滴頭殼體221，滴頭殼體221的頂部開設有進液口 222，滴頭殼體221的底部開設有出液口，滴頭殼體221內填充有海綿狀填充物223，滴頭殼體221的進液口 222處設置有連接件224。與滴頭120相比，本實施例的滴頭220還包括過濾膜225，過濾膜225包覆滴頭殼體221的出液口，目的是過濾掉海綿狀填充物223中的污染物，阻止海綿狀填充物223中的污染物隨清洗液流出而污染晶圓。
[0026]參閱圖6，揭示了根據本發明的第三實施例的滴頭的剖面結構示意圖。滴頭320包括中空的滴頭殼體321，滴頭殼體321的頂部開設有進液口 322，滴頭殼體321的底部開設有出液口，滴頭殼體321內填充有海綿狀填充物323，滴頭殼體321的進液口 322處設置有連接件324，過濾膜325包覆滴頭殼體321的出液口。與滴頭220相比，本實施例的滴頭320還包括噴嘴326，噴嘴326安裝在滴頭殼體321的出液口處。根據不同的工藝需求，可以選擇不同尺寸的噴嘴326。為了防止清洗液流向晶圓的中心區域，可以選擇小尺寸的噴嘴326。
[0027]綜上所述，本發明通過上述實施方式及相關圖式說明，己具體、詳實的揭露了相關技術，使本領域的技術人員可以據以實施。而以上所述實施例只是用來說明本發明，而不是用來限制本發明的，本發明的權利范圍，應由本發明的權利要求來界定。至于本文中所述元件數目的改變或等效元件的代替等仍都應屬于本發明的權利范圍。
【權利要求】
1.一種清洗裝置，其特征在于，包括:清洗液輸送管體及與所述清洗液輸送管體相連接的滴頭，其中， 所述滴頭包括中空的滴頭殼體，滴頭殼體的頂部開設有進液口，滴頭殼體的底部開設有出液口，滴頭殼體內填充有海綿狀填充物，所述滴頭殼體的開設有進液口的一側安裝在清洗液輸送管體的一端。
2.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗液輸送管體包括管套和設置于管套內的導管，其中所述導管插設于所述滴頭殼體的進液口內。
3.根據權利要求2所述的清洗裝置，其特征在于，所述滴頭殼體的進液口處設置有連接件，滴頭殼體借助該連接件可拆卸的安裝在清洗液輸送管體的管套的一端。
4.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述海綿狀填充物封堵滴頭殼體的出液口，或者所述海綿狀填充物充滿所述滴頭殼體的內部。
5.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，還進一步包括保濕槽，所述保濕槽存儲有保濕液，當所述清洗裝置處于空閑狀態時，所述滴頭放置于保濕槽中，以使滴頭殼體內的海綿狀填充物保持濕潤狀態。
6.根據權利要求5所述的清洗裝置，其特征在于，所述保濕液為清洗液或去離子水。
7.根據權利要求5所述的清洗裝置，其特征在于，所述保濕槽開設有供液口和排液口。
8.根據權利要求7所述的清洗裝置，其特征在于，所述保濕槽的供液口正對著滴頭殼體的出液口。
9.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述滴頭進一步包括過濾膜，所述過濾膜包覆滴頭殼體的出液口。
10.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述滴頭進一步包括噴嘴，所述噴嘴安裝在滴頭殼體的出液口處。
【文檔編號】B08B13/00GK104338706SQ201310335864
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2013年8月2日 優先權日:2013年8月2日
【發明者】王堅, 賈照偉, 何增華, 王暉 申請人:盛美半導體設備（上海）有限公司