一種釹鐵硼磁體表面潔凈度的處理裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種釹鐵硼磁體表面潔凈度的處理裝置，包括馬座、支架、螺桿、氣缸、超聲波槽，馬座安裝在超聲波槽頂端，氣缸安裝在超聲波槽上，螺桿一端與氣缸的氣缸活塞桿鉸接，螺桿另一端與馬座活動連接，支架活動安裝在馬座上，所述支架包括支架板、支架桿I、支架桿II、支架桿III、支架框、搖桿，支架桿I、支架桿II、支架桿III的一端都固定在支架板上，支架桿I、支架桿II、支架桿III的另一端都架設在馬座上，搖桿固定安裝在支架板的底部，支架框固定安裝在搖桿上。本實用新型的有益效果是：克服了磁體在清洗過程中存在死角無法清洗的缺陷，使磁體的清洗更深層，提高了電鍍質量。
【專利說明】一種釹鐵硼磁體表面潔凈度的處理裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種釹鐵硼磁體表面潔凈度的處理裝置。
【背景技術】
[0002]釹鐵硼磁體內有多種金屬元素，有的金屬元素活性大，磁體在經過加工處理后，表面會存在一層厚厚的氧化層，為了保證磁體的電鍍質量，需要用酸將這層氧化層去除，酸洗后磁體表面存在一層黑色浮灰，這層浮灰需要用超聲波將其去除，同時配合磁體的橫向或上下的線性移動以及轉圈運動，有的還會配有水循環(huán)，效果才會好，這種固定運行的方式有缺陷，磁體表面會存在死角，有的地方會積浮灰，無法將磁體整體表面的浮灰除干凈，這就為電鍍質量留下了隱患。
實用新型內容
[0003]本實用新型所要解決的技術問題是提供一種釹鐵硼磁體表面潔凈度的處理裝置，解決了磁體在清洗過程中存在死角的缺陷，為電鍍質量提供了保證。
[0004]本實用新型解決上述技術問題的技術方案如下:一種釹鐵硼磁體表面潔凈度的處理裝置，包括馬座、支架、螺桿、氣缸、超聲波槽，所述馬座安裝在所述超聲波槽頂端，所述氣缸安裝在所述超聲波槽上，所述螺桿一端與所述氣缸的氣缸活塞桿鉸接，所述螺桿另一端與所述馬座活動連接，所述支架活動安裝在所述馬座上。
[0005]進一步，所述支架包括支架板、支架桿1、支架桿I1、支架桿II1、支架框、搖桿，所述支架桿1、所述支架桿I1、所述支架桿III的一端都固定在所述支架板上，所述支架桿1、所述支架桿I1、所述支架桿III的另一端都架設在所述馬座上，所述搖桿固定安裝在所述支架板的底部，所述支架框固定安裝在所述搖桿上。
[0006]進一步，所述支架框上設有多個不銹鋼小框。
[0007]進一步，所述支架桿I遠離所述支架板的一端位于所述螺桿上方且與所述螺桿接觸。
[0008]本實用新型的有益效果是:克服了磁體在清洗過程中存在死角無法清洗的缺陷，使磁體的清洗更深層，提高了電鍍質量。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為本實用新型的釹鐵硼磁體表面潔凈度的處理裝置的主視圖；
[0010]圖2為本實用新型的釹鐵硼磁體表面潔凈度的處理裝置的俯視圖。
[0011]附圖中，各標號所代表的部件列表如下:
[0012]1、馬座，2、螺桿，3、氣缸，4、超聲波槽，5、支架，6、支架桿I，7、支架板，8、搖桿，9、支架框，10、支架桿II，11、支架桿III。
【具體實施方式】[0013]以下結合附圖對本實用新型的原理和特征進行描述，所舉實例只用于解釋本實用新型，并非用于限定本實用新型的范圍。
[0014]如圖1所示，本實用新型的釹鐵硼磁體表面潔凈度的處理裝置包括馬座1、支架5、螺桿2、氣缸3、超聲波槽4，所述馬座I固定安裝在超聲波槽4頂端上，支架5架設在馬座I上，支架5可以在馬座I上晃動，氣缸3固定安裝在超聲波槽4上，螺桿2的一端與氣缸3上的氣缸活塞桿鉸接，螺桿2的另一端與馬座I活動連接。
[0015]如圖1、圖2所示，支架5包括支架桿16、支架桿1110、支架桿11111、支架板7、搖桿8、支架框9,所述支架桿16、支架桿II10、支架桿IIIll的一端都固定在支架板3上,支架桿16、支架桿II10、支架桿IIIll的另一端都架設在馬座I上，3根支架桿的支架桿16遠離支架板7的一端位于螺桿2上方且與螺桿2接觸，氣缸3帶動螺桿2運動時，螺桿2促使與其接觸的支架桿16運動，支架桿16帶動整個支架5運動，支架框9位于支架板7下方的超聲波槽4內，支架框9與搖桿8固定連接,搖桿8固定安裝在支架板7的底部位于超聲波槽4內，支架桿16帶動支架板7運動,支架板7帶動搖桿8做圓弧擺動,支架框9跟著搖桿8擺動，用于放置磁體的支架框9上設有多個不銹鋼小框，磁體安放在小框內，支架板7可以防止支架框9在擺動過程中將清洗液飛濺到超聲波槽4外。
[0016]其工作過程為:超聲波槽4內的清洗液在超聲波的作用下運動，同時，氣缸3推動螺桿2向上運動，與螺桿2接觸的支架桿16以支架桿IIlO為軸心隨著螺桿2運動而向上方運動，支架桿16帶動支架板7運動，支架板7帶動支架板7下方的搖桿8運動，與搖桿8固定連接的支架框9也就隨著運動，支架框9內的磁體也隨著向上方做圓弧擺動，當氣缸3運行到頭后急速回收，安放在支架框9內的磁體在重力作用下急速下落，磁體與超聲波槽4內的清洗液產生沖擊，對釹鐵硼磁體表面進行清洗，氣缸3這樣反復運行，支架框9內的磁體也反復與超聲波槽4內的清洗液反復沖擊，直到完成對磁體表面的清洗。
[0017]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。
【權利要求】
1.一種釹鐵硼磁體表面潔凈度的處理裝置，其特征在于，包括馬座(I)、支架(5)、螺桿(2)、氣缸(3)、超聲波槽(4)，所述馬座(I)安裝在所述超聲波槽(4)頂端，所述氣缸(3)安裝在所述超聲波槽(4)上，所述螺桿(2) —端與所述氣缸(3)的氣缸活塞桿鉸接，所述螺桿(2)另一端與所述馬座(I)活動連接，所述支架(5)活動安裝在所述馬座(I)上，所述支架(5)包括支架板(7)、支架桿I (6)、支架桿II (10)、支架桿III (11 )、支架框(9)、搖桿(8)，所述支架桿I (6)、所述支架桿II (10)、所述支架桿III (11)的一端都固定在所述支架板(7)上，所述支架桿I (6)、所述支架桿II (10)、所述支架桿III (11)的另一端都架設在所述馬座(I)上，所述搖桿(8)固定安裝在所述支架板(7)的底部，所述支架框(9)固定安裝在所述搖桿(8)上。
2.根據權利要求1所述的一種釹鐵硼磁體表面潔凈度的處理裝置，其特征在于，所述支架框(9)上設有多個不銹鋼小框。
3.根據權利要求1或2所述的一種釹鐵硼磁體表面潔凈度的處理裝置，其特征在于，所述支架桿1(6)遠離所述支架板(7)的一端位于所述螺桿(2)上方且與所述螺桿(2)接觸。
【文檔編號】B08B3/12GK203648913SQ201320793316
【公開日】2014年6月18日 申請日期:2013年12月4日 優(yōu)先權日:2013年12月4日
【發(fā)明者】衣學勇, 閆坤, 李磊, 辛毅, 彭步莊 申請人:煙臺正海磁性材料股份有限公司