專利名稱：一種抗菌無紡布的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及無紡布技術(shù)領(lǐng)域，具體地說是一種抗菌無紡布的制備方法。
背景技術(shù)：
近年來隨著人們生活水平的不斷提高和產(chǎn)業(yè)用紡織品向日常生活領(lǐng)域的拓展，無紡布事業(yè)發(fā)展迅速，廣泛應(yīng)用于服裝及鞋、家庭日用、醫(yī)療及衛(wèi)生、土木建筑、汽車工業(yè)、農(nóng)業(yè)、園藝等行業(yè)。但是由于現(xiàn)有的無紡布一般采用普通纖維制成，缺乏良好的抗菌性能，不能滿足使用需求。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，設(shè)計(jì)一種抗菌無紡布的制備方法。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下處理步驟(I)通過紫外光輻照處理、過硫酸鹽處理、低溫等離子體處理中的一種或幾種方法對(duì)無紡布進(jìn)行表面活化處理，在無紡布表面引入羥基、氨基、環(huán)氧活性官能團(tuán)，(2)將經(jīng)過上述步驟處理的無紡布浸潰在含有殼聚糖的醋酸溶液中，得到抗菌無紡布，其中醋酸溶液中醋酸的濃度為O. 004g/ml，殼聚糖的濃度為O. 002 0. 004g/ml，殼聚糖的重均分子量為7(Γ90萬。
無紡布為聚乙烯纖維或聚丙烯纖維，其重均分子量為20萬 100萬。
無紡布中有至少60%的殼聚糖與活性官能團(tuán)之間成鍵。
紫外光輻照處理的紫外光波長為300nm以下，輻射光源的功率為10W 3000W，輻照時(shí)間為IOs 18 00s。
過硫酸鹽為過硫酸鉀、過硫酸鈉、過一硫酸氫鉀復(fù)合鹽、過硫酸銨中的一種或幾種；過硫酸鹽的濃度為O. 0l"O. 8g/mL·
低溫等離子體處理的介質(zhì)阻擋放電的能量密度為O. 2mJ/cnT0. 5mJ/cm2,處理功率 50W 150W，處理時(shí)間為15s 100s，處理環(huán)境為空氣環(huán)境，處理氣壓為IOPa 20Pa。
低溫等離子體使用的低溫等離子設(shè)備名稱為常壓準(zhǔn)輝光通道等離子體設(shè)備。
本發(fā)明同現(xiàn)有技術(shù)相比，通過紫外光輻照處理、過硫酸鹽處理、低溫等離子體處理中的一種或幾種方法對(duì)無紡布進(jìn)行了表面活性處理后，將其浸潰在含有殼聚糖的醋酸溶液中，使無紡布具有優(yōu)異的抗菌性，可滿足多種需求。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明用如下處理步驟(I)通過紫外光輻照處理、過硫酸鹽處理、低溫等離子體處理中的一種或幾種方法對(duì)無紡布進(jìn)行表面活化處理，在無紡布表面引入羥基、氨基、環(huán)氧活性官能團(tuán)，(2)將經(jīng)過上述步驟處理的無紡布浸潰在含有殼聚糖的醋酸溶液中，得到抗菌無紡布，其中醋酸溶液中醋酸的濃度為O. 004g/ml，殼聚糖的濃度為O. 002、. 004g/ml，殼聚糖的重均分子量為7(Γ90萬。
無紡布為聚乙烯纖維或聚丙烯纖維，其重均分子量為20萬 100萬。
無紡布中有至少60%的殼聚糖與活性官能團(tuán)之間成鍵。
紫外光輻照處理的紫外光波長為300nm以下，輻射光源的功率為10W 3000W，輻照時(shí)間為IOs 1800s。
過硫酸鹽為過硫酸鉀、過硫酸鈉、過一硫酸氫鉀復(fù)合鹽、過硫酸銨中的一種或幾種，過硫酸鹽的濃度為O. 0l"O. 8g/mL·
低溫等離子體使用的低溫等離子設(shè)備名稱為常壓準(zhǔn)輝光通道等離子體設(shè)備，低溫等離子體處理的介質(zhì)阻擋放電的能量密度為O. 2mJ/cnT0. 5mJ/cm2，處理功率50W 150W，處理時(shí)間為15s 100s，處理環(huán)境為空氣環(huán)境，處理氣壓為10Pa 20Pa。
實(shí)施例一采用紫外光對(duì)無紡布進(jìn)行紫外光輻照處理后，將無紡布浸潰在含殼聚糖的醋酸溶液中；其中殼聚糖的濃度為O. 004g/ml，紫外光波長280nm，輻射光源功率2000W，輻照時(shí)間 1800s，浸潰時(shí)間30分鐘。
實(shí)施例二將無紡布浸潰在濃度為O. 5g/ml的過硫酸鹽中后，放入無氧設(shè)備中加熱，再將處理后的無紡布浸潰在殼聚糖濃度為O. 004g/ml的醋酸溶液中，其中加熱時(shí)間30分鐘，加熱溫度 80°C，浸潰時(shí)間30分鐘。
實(shí)施例三采用常壓準(zhǔn)輝光通道等離子體設(shè)備對(duì)無紡布進(jìn)行低溫等離子處理后，再將處理后的無紡布浸潰在殼聚糖濃度為O. 004g/ml的醋酸溶液中，其中等離子體處理的介質(zhì)阻擋放電的能量密度為O. 5mJ/cm2，處理功率100W，處理時(shí)間為60s，處理環(huán)境為空氣環(huán)境，處理氣壓為 IOPa0
本發(fā)明通過紫外光輻照處理、過硫酸鹽處理、低溫等離子體處理中的一種或幾種方法對(duì)無紡布進(jìn)行了表面活性處理后，將其浸潰在含有殼聚糖的醋酸溶液中，使無紡布具有優(yōu)異的抗菌性，可滿足多種需求。
權(quán)利要求
1.一種抗菌無紡布的制備方法，其特征在于采用如下處理步驟(1)通過紫外光輻照處理、過硫酸鹽處理、低溫等離子體處理中的一種或幾種方法對(duì)無紡布進(jìn)行表面活化處理，在無紡布表面引入羥基、氨基、環(huán)氧活性官能團(tuán)，(2)將經(jīng)過上述步驟處理的無紡布浸潰在含有殼聚糖的醋酸溶液中，得到抗菌無紡布，其中醋酸溶液中醋酸的濃度為0. 004g/ml,殼聚糖的濃度為0. 002 0. 004g/ml，殼聚糖的重均分子量為70 90萬。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種抗菌無紡布的制備方法，其特征在于所述的無紡布為聚乙烯纖維或聚丙烯纖維，其重均分子量為20萬 100萬。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種抗菌無紡布的制備方法，其特征在于所述的無紡布中有至少60%的殼聚糖與活性官能團(tuán)之間成鍵。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種抗菌無紡布的制備方法，其特征在于所述的紫外光輻照處理的紫外光波長為300nm以下，輻射光源的功率為lOWlOOOW，輻照時(shí)間為IOs 1800so
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種抗菌無紡布的制備方法，其特征在于所述的過硫酸鹽為過硫酸鉀、過硫酸鈉、過一硫酸氫鉀復(fù)合鹽、過硫酸銨中的一種或幾種；過硫酸鹽的濃度為 0. OTO. 8g/ml。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種抗菌無紡布的制備方法，其特征在于所述的低溫等離子體處理的介質(zhì)阻擋放電的能量密度為0. 2mJ/cnT0. 5mJ/cm2,處理功率50W 150W，處理時(shí)間為15s 100s，處理環(huán)境為空氣環(huán)境，處理氣壓為10Pa 20Pa。
7.根據(jù)權(quán)利要求I或6所述的一種抗菌無紡布的制備方法，其特征在于所述的低溫等離子處理體使用的低溫等離子設(shè)備名稱為常壓準(zhǔn)輝光通道等離子體設(shè)備。
全文摘要
本發(fā)明涉及無紡布技術(shù)領(lǐng)域，具體地說是一種抗菌無紡布的制備方法，其特征在于采用如下處理步驟(1)通過紫外光輻照處理、過硫酸鹽處理、低溫等離子體處理中的一種或幾種方法對(duì)無紡布進(jìn)行表面活化處理，在無紡布表面引入羥基、氨基、環(huán)氧活性官能團(tuán)；(2)將經(jīng)過上述步驟處理的無紡布浸漬在含有殼聚糖的醋酸溶液中，得到抗菌無紡布。本發(fā)明同現(xiàn)有技術(shù)相比，通過紫外光輻照處理、過硫酸鹽處理、低溫等離子體處理中的一種或幾種方法對(duì)無紡布進(jìn)行了表面活性處理后，將其浸漬在含有殼聚糖的醋酸溶液中，使無紡布具有優(yōu)異的抗菌性，可滿足多種需求。
文檔編號(hào)D06M13/188GK102978898SQ20121055338
公開日2013年3月20日 申請(qǐng)日期2012年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月19日
發(fā)明者李德良, 張大翼 申請(qǐng)人:上海匯泉實(shí)業(yè)有限公司