玻璃蝕刻液再生方法及玻璃蝕刻方法
【專利摘要】一種玻璃蝕刻液再生方法，利用鉀離子化合物與老化的玻璃蝕刻液進(jìn)行攪拌反應(yīng)，通過過濾去除老化液中的可溶性玻璃渣。對(duì)老化液進(jìn)行離子交換處理，金屬離子。此外，在老化液中加入適量的氫氟酸，進(jìn)而再生出符合玻璃蝕刻要求的玻璃蝕刻液。本發(fā)明的還提供一種玻璃蝕刻方法，在玻璃蝕刻過程中使用鉀離子化合物去除玻璃蝕刻液中的可溶性玻璃渣。本發(fā)明可提高玻璃蝕刻的蝕刻率。
【專利說明】玻璃蝕刻液再生方法及玻璃蝕刻方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種玻璃蝕刻液再生方法及玻璃蝕刻方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 玻璃蝕刻減薄的原理是利用氨氣酸跟玻璃（Si化）進(jìn)行反應(yīng)，并在反應(yīng)過程中生成 老化物質(zhì)氣娃酸（HsSiFe)及玻璃渣與娃酸(水玻璃)。隨著氨氣酸逐漸消耗W及老化物質(zhì)濃 度的持續(xù)增加，會(huì)導(dǎo)致玻璃蝕刻槽的槽液老化，蝕刻率下降W及蝕刻不良率上升。此外，蝕 刻槽液老化至一定程度后，老化物質(zhì)濃度過高會(huì)造成槽液不穩(wěn)定，從而影像產(chǎn)品的品質(zhì)。傳 統(tǒng)的解決上述問題的方法是將老化的槽液作廢酸處理排放并重新建浴調(diào)配蝕刻液。然而， 廢酸的處理W及重新建浴均需要較高的成本，且廢酸中大多都還存在較高濃度的氨氣酸 (HF),若直接對(duì)老化蝕刻液做廢酸排放處理，還會(huì)導(dǎo)致原料的浪費(fèi)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 鑒于上述，有必要提出一種玻璃蝕刻液再生方法及玻璃蝕刻方法，可W有效降低 對(duì)老化蝕刻液做廢酸處理W及重新建浴液的成本。
[0004] 所述玻璃蝕刻液再生方法，包括W下步驟： (a) 在含有老化物質(zhì)氣娃酸W及可溶性玻璃渣的玻璃蝕刻液中加入鐘離子化合物并進(jìn) 行攬拌反應(yīng)，使該玻璃蝕刻液中的可溶性玻璃渣濃度降至一預(yù)定范圍內(nèi)； (b) 對(duì)攬拌反應(yīng)之后的玻璃蝕刻液進(jìn)行過濾處理，去除沉淀； (C)對(duì)過濾處理之后的玻璃蝕刻液進(jìn)行離子交換處理，去除玻璃蝕刻液液中的金屬離 子，使得玻璃蝕刻液中的金屬離子濃度低于一預(yù)定值；及 (d)檢測(cè)離子交換處理后的玻璃蝕刻液中的氨氣酸濃度，并根據(jù)該氨氣酸濃度在該離 子交換處理后的玻璃蝕刻液中加入氨氣酸，使氨氣酸的濃度達(dá)到一預(yù)定濃度。
[0005] 所述玻璃蝕刻方法，包括W下步驟： 將裝有玻璃蝕刻液W及被蝕刻玻璃的蝕刻槽通過第一管道與一過濾機(jī)的入口連通，將 過濾機(jī)的輸出口通過一第二管道與蝕刻槽連通，并將裝有鐘離子化合物溶液的化合物容器 通過一第H管道與第一管道靠近蝕刻槽的一端連通； 持續(xù)取樣檢測(cè)蝕刻槽中可溶性玻璃渣濃度W及氨氣酸濃度； 當(dāng)檢測(cè)到蝕刻槽中的可溶性玻璃渣濃度高于第一預(yù)定口檻值時(shí)，將蝕刻槽中的玻璃蝕 刻液和化合物容器中的鐘離子化合物溶液逐步輸出至第一管道進(jìn)行反應(yīng)； 將第一管道中反應(yīng)后的玻璃蝕刻液經(jīng)過過濾機(jī)進(jìn)行過濾，去除沉淀；及 將經(jīng)過濾之后的玻璃蝕刻液經(jīng)第二管道輸入蝕刻槽中對(duì)玻璃進(jìn)行蝕刻。
[0006] 相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的玻璃蝕刻液再生方法可對(duì)老化液進(jìn)行處理再生出能用 于蝕刻玻璃的玻璃蝕刻液，而無需對(duì)老化液進(jìn)行廢棄處理，從而減少了對(duì)老化液進(jìn)行廢棄 處理的成本，并避免了氨氣酸的浪費(fèi)。同時(shí)，本發(fā)明提供的玻璃蝕刻方法，在蝕刻玻璃的同 時(shí)使用鐘離子化合物與玻璃蝕刻液進(jìn)行反應(yīng)，可使可溶性玻璃渣維持在一個(gè)較低的水平， 并有效去除老化物質(zhì)氣娃酸，從而保證蝕刻率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0007] 圖1是本發(fā)明的玻璃蝕刻液再生方法的流程圖。
[0008] 圖2是實(shí)驗(yàn)中分別加入四種鐘離子化合物時(shí)，可溶性玻璃渣濃度的變化示意圖。
[0009] 圖3是實(shí)驗(yàn)中分別加入上述四種化合物時(shí)，老化液中總氨濃度(酸度）的變化示意 圖。
[0010] 圖4是實(shí)驗(yàn)中新調(diào)制的玻璃蝕刻液、老化液處理后再生的玻璃蝕刻液W及未經(jīng)處 理的老化液分別用于玻璃蝕刻時(shí)的蝕刻率（ER)比對(duì)圖。
[0011] 圖5是用于玻璃蝕刻過程的設(shè)備示意圖。
[0012] 圖6為本發(fā)明較佳實(shí)施例中的玻璃蝕刻方法的流程圖。
[0013] 圖7為實(shí)驗(yàn)中在圖5的第一管道中排入玻璃蝕刻液和化合物溶液W及未對(duì)玻璃蝕 刻液做任何處理兩種情況下可溶性玻璃渣（TDS )濃度變化的對(duì)比圖。
[0014] 主要元件符號(hào)說明

【權(quán)利要求】
1. 一種玻璃蝕刻液再生方法，其特征在于，該方法包括以下步驟： (a) 在含有老化物質(zhì)氟硅酸以及可溶性玻璃渣的玻璃蝕刻液中加入鉀離子化合物并進(jìn) 行攪拌反應(yīng)，使該玻璃蝕刻液中的可溶性玻璃渣濃度降至一預(yù)定范圍內(nèi)； (b) 對(duì)攪拌反應(yīng)之后的玻璃蝕刻液進(jìn)行過濾處理，去除沉淀； (c) 對(duì)過濾處理之后的玻璃蝕刻液進(jìn)行離子交換處理，去除玻璃蝕刻液液中的金屬離 子，使得玻璃蝕刻液中的金屬離子濃度低于一預(yù)定值；及 (d) 檢測(cè)離子交換處理后的玻璃蝕刻液中的氫氟酸濃度，并根據(jù)該氫氟酸濃度在該離 子交換處理后的玻璃蝕刻液中加入氫氟酸，使氫氟酸的濃度達(dá)到一預(yù)定濃度。
2. 如權(quán)利要求1所述的玻璃蝕刻液再生方法，其特征在于，該方法在步驟（a)之前還包 括： 對(duì)玻璃蝕刻液中所含的可溶性玻璃渣濃度進(jìn)行檢測(cè)，當(dāng)該可溶性玻璃渣濃度小于或等 于一閾值時(shí)，再進(jìn)入步驟（a)。
3. 如權(quán)利要求2所述的玻璃蝕刻液再生方法，其特征在于，所述閾值為30%。
4. 如權(quán)利要求1所述的玻璃蝕刻液再生方法，其特征在于，所述鉀離子化合物為KOH、 KF、KCL以及KN03中的其中之一。
5. 如權(quán)利要求1所述的玻璃蝕刻液再生方法，其特征在于，所述預(yù)定值為1%，所述預(yù)定 濃度大于8%。
6. -種玻璃蝕刻方法，其特征在于，該方法包括以下步驟： 將裝有玻璃蝕刻液以及被蝕刻玻璃的蝕刻槽通過第一管道與一過濾機(jī)的入口連通，將 過濾機(jī)的輸出口通過一第二管道與蝕刻槽連通，并將裝有鉀離子化合物溶液的化合物容器 通過一第三管道與第一管道靠近蝕刻槽的一端連通； 持續(xù)取樣檢測(cè)蝕刻槽中可溶性玻璃渣濃度； 當(dāng)檢測(cè)到蝕刻槽中的可溶性玻璃渣濃度高于第一預(yù)定門檻值時(shí)，將蝕刻槽中的玻璃蝕 刻液和化合物容器中的鉀離子化合物溶液逐步輸出至第一管道進(jìn)行反應(yīng)； 將第一管道中反應(yīng)后的玻璃蝕刻液經(jīng)過過濾機(jī)進(jìn)行過濾，去除沉淀； 將經(jīng)過濾之后的玻璃蝕刻液經(jīng)第二管道輸入蝕刻槽中對(duì)玻璃進(jìn)行蝕刻。
7. 如權(quán)利要求6所述的玻璃蝕刻方法，其特征在于，該方法還包括： 對(duì)蝕刻槽中的玻璃蝕刻液進(jìn)行升溫，使蝕刻槽中的玻璃蝕刻液維持在一預(yù)定溫度下。
8. 如權(quán)利要求7所述的玻璃蝕刻方法，其特征在于，所述預(yù)定溫度為35°C。
9. 如權(quán)利要求6所述的玻璃蝕刻方法，其特征在于，所述第一預(yù)定門檻值為3%。
10. 如權(quán)利要求6所述的玻璃蝕刻方法，其特征在于，該方法還包括： 持續(xù)取樣檢測(cè)蝕刻槽中的氫氟酸濃度；及 當(dāng)檢測(cè)到蝕刻槽中的氫氟酸濃度低于一第二預(yù)定門檻值時(shí)，向蝕刻槽中逐步加入氫氟 酸溶液，使蝕刻槽中的氫氟酸濃度達(dá)到一預(yù)定濃度范圍。
11. 如權(quán)利要求10所述的玻璃蝕刻方法，其特征在于，所述第二預(yù)定門檻值為8%，所述 預(yù)定濃度范圍為8%-20%。
【文檔編號(hào)】C03C15/00GK104341111SQ201310318446
【公開日】2015年2月11日 申請(qǐng)日期:2013年7月26日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月26日
【發(fā)明者】張欣華, 黃慧清, 李沅達(dá), 陳泓邑, 黃兆暢, 林瑞欽, 葉容凱, 張世群, 羅中育, 陳欽典, 簡(jiǎn)文鴻 申請(qǐng)人:睿志達(dá)光電(深圳)有限公司, 正達(dá)國(guó)際光電股份有限公司