一種拋釉磚模具的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種拋釉磚模具，其包括模底，圍在所述模底周圍并和所述模底形成模腔的模框，與所述模腔匹配的壓頭，其中所述模底或壓頭的邊緣處設有凸起。使用此種模具制備的拋釉磚坯體層邊緣有對應的凹槽，在高溫燒結時，坯體層邊緣的凹槽能吸收坯體層和釉面層膨脹收縮的應力，減少磚體變形，提高平整度，進而降低拋光時漏拋和過拋的缺陷，提高優等品率。
【專利說明】一種拋釉磚模具
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及沖壓成型的模具，尤其涉及一種拋釉磚模具。
【背景技術】
[0002]拋釉磚是近年流行的一種陶瓷墻地磚，其是在磚坯上印花后，再施以一層透明釉，經高溫燒成后，再對釉面進行全拋或半拋而制成的一種陶瓷墻地磚。因表面釉層的保護，印花層圖案不會被磨損，使用壽命長，品質好，是人們室內裝修首選的建材產品。但在實際生產中，此類產品品質控制困難，優等品率較低，因此其售價較高，而且廢品資源浪費嚴重。造成以上問題的原因是拋釉磚表面的釉層較薄，多不超過Imm(較厚的釉層會影響印花層圖案的呈現)，而因坯體層和釉層在燒成時膨脹收縮不一致，制品會有一定的翹曲缺陷，在拋光時，容易出現漏拋和過拋的缺陷。漏拋會使表面光澤度不一致，影響裝飾效果；過拋則會透底，甚至破壞印花圖案。因此急需解決以上問題，提高拋釉磚優等品率。

【發明內容】

[0003]本實用新型的目的在于提出一種拋釉磚模具，其模底或壓頭邊緣具有凸起，使用此種模具制備的拋釉磚坯體層邊緣有對應的凹槽，在高溫燒結時，坯體層邊緣的凹槽能吸收坯體層和釉面層膨脹收縮的應力，減少磚體變形，提高平整度，進而降低拋光時漏拋和過拋的缺陷，提高優等品率。優選地，可以先進行磨邊，去掉邊緣有凹槽部分，再進行拋磨。
[0004]為達此目的，本實用新型采用以下技術方案:一種拋釉磚模具，其包括模底，圍在所述模底周圍并和所述模底形成模腔的模框，與所述模腔匹配的壓頭，其中所述模底或壓頭的邊緣處設有凸起。
[0005]為了不影響磚坯成型后的性能，優選地，所述凸起呈條狀，其長度為0.5?5mm、寬度為0.2?1.5臟、高度為0.2?1.5臟。
[0006]進一步優選,所述凸起的長度為I?3mm、寬度為0.5?1mm、高度為0.5?1mm。
[0007]為了能較好的緩解在燒成時坯體層和釉面層之間的應力差，所述凸起分布均勻，且呈指向中心的放射狀。
[0008]使用本模具沖壓成型的拋釉磚磚坯，磚坯表面邊緣具有與模具凸起對應的凹槽，凹槽能吸收燒成時坯體層與釉層收縮產生的應力，調節應力差，使拉伸變形控制在可接受范圍內，提高平整度，進而降低拋光時漏拋和過拋的缺陷，提高產品的優等品率，降低生產成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1是本實用新型實施例1提供的拋釉磚模具的橫截面結構示意圖。
[0010]圖2是本實用新型實施例1提供的拋釉磚模具中模腔結構的俯視圖。
[0011]圖3是本實用新型實施例2提供的拋釉磚模具的橫截面結構示意圖。
[0012]圖4是實施例2提供的拋釉磚模具中壓頭結構的仰視圖。[0013]附圖標號說明:1 一模底；2—模框；3—壓頭；4一模腔；11 一凸起。
【具體實施方式】
[0014]下面結合附圖并通過【具體實施方式】來進一步說明本實用新型的技術方案。應當說明附圖僅為說明本方案，其并未嚴格按照比例繪制，其中為說明方便會有局部的放大或縮小，而且還會有一些公知的缺省。
[0015]實施例1
[0016]參照附圖1和附圖2，本實用新型提供一種拋釉磚模具，其包括模底1，圍在所述模底I周圍并和所述模底I形成模腔4的模框2，與所述模腔4匹配的壓頭3，其中所述模底I邊緣處設有凸起11。
[0017]在本實施例中 凸起11呈條狀，其長度為0.5~5mm、寬度為0.2~1.5mm、高度為
0.2~1.5mm ;且分布均勻，呈指向中心的放射狀。
[0018]通過測試驗證,在凸起11的長度為I~3mm、寬度為0.5~1mm、高度為0.5~Imm時，對于800 X 800mm或1000 X 1000mm規格的拋釉磚制品最為適用，使用其作為磚坯的成型模具，優等品率可以達到90%以上，因翹曲變形造成的過拋漏拋缺陷率≤8%。
[0019]實施例2
[0020]參照附圖3和附圖4，本實用新型提供一種拋釉磚模具，其包括模底1，圍在所述模底I周圍并和所述模底I形成模腔4的模框2，與所述模腔4匹配的壓頭3，其中所述壓頭3的邊緣處設有凸起11。
[0021 ] 在本實施例中凸起11呈條狀，其長度為I~3mm，寬度為0.5~1mm，高度為0.5~Imm,且分布均勻，呈指向中心的放射狀。
[0022]當然，以上僅給出了兩個優選實施例，在實際使用中，凸起形狀可以為環狀、梯形狀等不規則形狀。
[0023]且其分布也可以是隨機在模底I或壓頭3的邊緣分布，只是效果不如實施例1和2所介紹的效果。
[0024]使用以上模具成型的磚坯，在邊緣具有與凸起對應的凹槽，在施釉后，凹槽處的釉較厚，因此在燒成時應力主要集中在凹槽處，調節應力差，將應力由集中的向內的縱向拉伸改變為沿凹槽兩側的橫向拉伸，使拉伸變形控制在可接受范圍內，提高平整度，進而降低拋光時漏拋和過拋的缺陷，提高產品的優等品率，降低生產成本。
[0025]以上結合具體實施例描述了本實用新型的技術原理。這些描述只是為了解釋本實用新型的原理，而不能以任何方式解釋為對本實用新型保護范圍的限制。基于此處的解釋，本領域的技術人員不需要付出創造性的勞動即可聯想到本實用新型的其它【具體實施方式】，這些方式都將落入本實用新型的保護范圍之內。
【權利要求】
1.一種拋釉磚模具，其包括模底，圍在所述模底周圍并和所述模底形成模腔的模框，與所述模腔匹配的壓頭，其中所述模底或壓頭的邊緣處設有凸起。
2.如權利要求1所述的一種拋釉磚模具，其特征在于，所述凸起呈條狀，其長度為0.5?5臟、寬度為0.2?1.5臟、高度為0.2?1.5臟。
3.如權利要求2所述的一種拋釉磚模具，其特征在于，所述凸起的長度為I?3mm、寬度為0.5?1mm、高度為0.5?1mm。
4.如權利要求1-3中任意一項所述的一種拋釉磚模具，其特征在于，所述凸起分布均勻，且呈指向中心的放射狀。
【文檔編號】B28B3/02GK203485281SQ201320594066
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年9月26日 優先權日:2013年9月26日
【發明者】史亮亮, 鐘思聰, 廖波 申請人:廣東金牌陶瓷有限公司