本發明涉及氧化鋯陶瓷生產設備技術領域,具體為一種氧化鋯陶瓷成型裝置。
背景技術:
氧化鋯陶瓷具有熔點和沸點高、硬度大、常溫下為絕緣體、而高溫下則具有導電性等優良性質,因此被廣泛應用于結構陶瓷領域,氧化鋯陶瓷的制造工藝流程由多道工序組成,其中陶瓷成型是陶瓷制造的重要工序之一,氧化鋯陶瓷的成型有干壓成型、等靜壓成型、注漿成型、熱壓鑄成型、流延成型、注射成型、塑性擠壓成型、膠態凝固成型等。
現有的氧化鋯陶瓷成型裝置需要人工向模具內添加原料,勞動強度大,同時只有一個成型模具,且成型速度慢,導致工作效率低。
技術實現要素:
本發明的目的在于提供一種氧化鋯陶瓷成型裝置,以解決上述背景技術中提出的現有的氧化鋯陶瓷成型裝置勞動強度大,同時成型速度慢,工作效率低問題。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:一種氧化鋯陶瓷成型裝置,包括電動機、成型裝置、擠壓盤和進料裝置,所述電動機通過主軸與轉動盤相連接,且轉動盤上固定安裝有下模具,所述下模具上設置有成型腔,所述成型裝置內部包括有升降液壓缸,且成型裝置上設置有控制器,所述升降液壓缸下方設置有上模具,所述擠壓盤上方固定安裝有上模具,且擠壓盤底部固定設置有電熱裝置,所述進料裝置上方設置有投料口,且進料裝置內部固定安裝有螺旋出料器,所述螺旋出料器左側的下方設置有出料口,且出料口與進料裝置相連通。
優選的,所述下模具的個數為四個,且之間的夾角均相等。
優選的,所述下模具為可拆卸安裝裝置。
優選的,所述下模具、上模具和擠壓盤橫切面均為圓形,且上模具的徑長與成型腔的徑長相等。
優選的,所述擠壓盤的徑長與下模具的徑長相等。
與現有技術相比,本發明的有益效果是:該氧化鋯陶瓷成型裝置設置有四個下模具,可以同時進行多個成型作業,大大提高工作效率,且成型過程中,通過電熱裝置可以對下模具內的陶瓷原料進行烘干,加快其成型速度,同時烘干過后便于人們將成型后的胚體取出,整個成型過程中通過螺旋出料器進行加料,無需人工加料,大大減低人們的勞動強度,下模具可自由拆裝,便于人們將成型后的胚體取出,同時也便于人們進行更換不同的模具,使用效果好。
附圖說明
圖1為本發明結構示意圖;
圖2為本發明轉動盤結構俯視示意圖。
圖中:1、電動機,2、主軸,3、轉動盤,4、下模具,5、成型腔,6、成型裝置,7、升降液壓缸,8、上模具,9、控制器,10、擠壓盤,11、電熱裝置,12、進料裝置,13、投料口,14、螺旋出料器,15、出料口。
具體實施方式
下面將結合本發明實施例中的附圖,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發明保護的范圍。
請參閱圖1-2,本發明提供一種技術方案:一種氧化鋯陶瓷成型裝置,包括電動機1、成型裝置6、擠壓盤10和進料裝置12,電動機1通過主軸2與轉動盤3相連接,且轉動盤3上固定安裝有下模具4,下模具4的個數為四個,且之間的夾角均相等,從而可以一邊通過成型裝置6進行成型作業,一邊通過進料裝置12進行加料,免去了加料的時間,可以提高工作效率,下模具4為可拆卸安裝裝置,下模具4、上模具8和擠壓盤10橫切面均為圓形,且上模具8的徑長與成型腔5的徑長相等,從而上模具8就可以將下模具4內的陶瓷原料壓制成型,下模具4上設置有成型腔5,成型裝置6內部包括有升降液壓缸7,且成型裝置6上設置有控制器9,升降液壓缸7下方設置有上模具8,擠壓盤10上方固定安裝有上模具8,且擠壓盤10底部固定設置有電熱裝置11,擠壓盤10的徑長與下模具4的徑長相等,擠壓盤10可以對下模具4底部均勻的加熱,提高烘干效果,加快烘干速度,進料裝置12上方設置有投料口13,且進料裝置12內部固定安裝有螺旋出料器14,螺旋出料器14左側的下方設置有出料口15,且出料口15與進料裝置12相連通。
工作原理:在使用該氧化鋯陶瓷成型裝置時,先檢查設備有無異常,再接通電源,在控制器9上設定好該設備的運行參數,電動機1通過主軸2帶動轉動盤3旋轉,從而帶動下模具4旋轉,通過投料口13可以向螺旋出料器14中投入陶瓷原料,當下模具4旋轉至出料口15下方時,螺旋出料器14將陶瓷原料推入至出料口15處,陶瓷原料通過出料口15落入到下模具4上的成型腔5中,當下模具4旋轉至成型裝置6內時,升降液壓缸7分別帶動上模具8和擠壓盤10移動,并對下模具4內的陶瓷原料進行擠壓,并壓制成型,同時電熱裝置11產生熱量并傳遞給擠壓盤10,從而可以對下模具4內的陶瓷原料進行烘干,成型完成后,人們可以將下模具4從轉動盤3上取出,使用工具將成型后的胚體從下模具4內取出。
盡管參照前述實施例對本發明進行了詳細的說明,對于本領域的技術人員來說,其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改,或者對其中部分技術特征進行等同替換,凡在本發明的精神和原則之內,所作的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本發明的保護范圍之內。