本實用新型涉及屋頂綠化領域，更具體地，涉及一種帶回字形凹槽的草坪磚。

背景技術：

現有技術在對屋頂進行綠化時一般是將草類植物直接種植在屋頂的土壤中的。由于草類植物的生長過程中是需要施加肥料和水分的，肥料及水分長時間與屋頂接觸會對木質或混凝土質的屋頂造成腐蝕，從而損壞屋頂的結構。

技術實現要素：

本實用新型為解決以上現有技術的缺陷，提供了一種帶回字形凹槽的草坪磚，該草坪磚的頂面上開設有若干條橫向剖面呈回字形的凹槽用于種植草類植物，應用該草坪磚，能夠隔離植物種植的土壤和屋頂，避免施加的肥料和水分長時間與屋頂接觸而對屋頂造成損壞。

為實現以上實用新型目的，采用的技術方案是：

一種帶回字形凹槽的草坪磚，包括磚體，所述磚體的頂面沿其中心向邊沿發展的方向依次開設有若干條橫向剖面呈回字形的凹槽。

優選地，所述開設的橫向剖面呈回字形的凹槽的數量不少于2條。

優選地，所述若干條橫向剖面呈回字形的凹槽的中心與磚體頂面的中心重合。

優選地，所述磚體頂面的中心處開設有一橫向剖面呈矩狀的凹槽。

優選地，所述橫向剖面呈矩狀的凹槽與橫向剖面呈回字形的凹槽間或橫向剖面呈回字形的凹槽與鄰近的橫向剖面呈回字形凹槽間的間距等于一固定值。

優選地，所述磚體上開設有兩條橫向剖面呈呈回字形的凹槽，分別為第一凹槽、第二凹槽，其中第一凹槽開設在第二凹槽環繞的磚體內，橫向剖面呈矩狀的凹槽開設于第一凹槽環繞的磚體內，且橫向剖面呈矩狀的凹槽的開設位置位于磚體頂面的中心處。

優選地，所述開設在磚體上的所有的凹槽的開設深度為一固定值。

優選地，所述磚體的長為30.00cm，寬為15.00cm，高為4.00cm。

優選地，所述橫向剖面呈回字形的凹槽其左右兩側的槽寬為2.00cm，上下兩側的槽寬為1.30cm。

優選地，所述橫向剖面呈矩狀的凹槽的長為10.00cm，寬為2.00cm。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：

本實用新型提供的草坪磚的頂面上開設有若干條橫向剖面呈回字形的凹槽用于種植草類植物，應用該草坪磚，能夠隔離植物種植的土壤和屋頂，避免施加的肥料和水分長時間與屋頂接觸而對屋頂造成損壞。

附圖說明

圖1為草坪磚的結構示意圖。

具體實施方式

附圖僅用于示例性說明，不能理解為對本專利的限制；

以下結合附圖和實施例對本實用新型做進一步的闡述。

實施例1

如圖1所示，帶回字形凹槽的草坪磚包括磚體1，所述磚體的頂面沿其中心向邊沿發展的方向依次開設有若干條橫向剖面呈回字形的凹槽11。橫向剖面呈回字形的凹槽11用于種植草類植物比如綿竹草等。

其中，如圖1所示，磚體1的長為30.00cm，寬為15.00cm，高為4.00cm；橫向剖面呈回字形的凹槽11其左右兩側的槽寬為2.00cm，上下兩側的槽寬為1.30cm。

實施例2

本實施例的草坪磚的結構與實施例1的結構類似，唯一不同的地方在于，如圖1所示，磚體1頂面的中心處開設有一橫向剖面呈矩狀的凹槽12。而磚體上開設有兩條橫向剖面呈回字形的凹槽11，分別為第一凹槽101、第二凹槽102，其中第一凹槽101開設在第二凹槽102環繞的磚體1內，橫向剖面呈矩狀的凹槽12開設于第一凹槽101環繞的磚體1內。其中，第一凹槽101、第二凹槽102的中心與磚體1頂面的中心重合。橫向剖面呈矩狀的凹槽12與第一凹槽101之間，或第一凹槽101與第一凹槽102之間的間距等于一固定值。

如圖1所示，開設在磚體1上的所有的凹槽的開設深度為一固定值。

如圖1所示，所述橫向剖面呈矩狀的凹槽12的長為10.00cm，寬為2.00cm。

顯然，本實用新型的上述實施例僅僅是為清楚地說明本實用新型所作的舉例，而并非是對本實用新型的實施方式的限定。對于所屬領域的普通技術人員來說，在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。凡在本實用新型的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型權利要求的保護范圍之內。