本發明涉及陶瓷行業的瓷磚生產制造領域，尤其涉及一種防止瓷磚坯底粘釉漿的裝置及其控制方法。

背景技術：

現有技術中，在陶瓷磚生產過程中，施釉是生產過程中的一個重要的工藝環節之一。目前行業中施釉方式使用得較多的是鐘罩淋釉和直線淋釉，即把淋釉器安裝在生產釉線上方，利用釉線皮帶把瓷磚坯體托送運輸經過淋釉器下方，使釉料覆蓋到瓷磚坯體表面。為保障生產的穩定性，淋釉器為連續工作不間斷地流下釉料，而瓷磚坯體則是間斷式通過淋釉器，因此在沒有磚坯經過淋釉器的時間里，從淋釉器流下來的釉料就會經過釉線皮帶掉到釉料回收盤里，在此過程中無法避免地會有一部分釉料流到釉線皮帶上，造成皮帶污染。現行業內普遍的做法是在皮帶末端放一大塊濕海綿，通過濕海綿擦拭釉線皮帶上的釉料，但是時間稍長海綿上就會積攢較多的釉料，如果海綿清洗或更換不及時就會擦不干凈，這樣釉線皮帶上的釉料就會粘在瓷磚底部，瓷磚燒結的過程中瓷磚底部的釉料又會粘在窯爐輥棒上，影響輥棒的使用壽命。同時，濕海綿經過長時間的摩擦磨損后會有海綿碎屑粘在釉線皮帶上，進而進入到回收的釉料中，影響回收釉料的質量。

在現有技術中，專利cn201620012363.1公開了一種節釉淋釉裝置，包括第一輸送裝置、第二輸送裝置和淋釉器，淋釉器位于第一輸送裝置和第二輸送裝置的上方，第二輸送裝置的進料端與第一輸送裝置的出料端對應，第一輸送裝置和第二輸送裝置之間留有可讓釉料通過的間隙，釉料可通過間隙而不會流到第一輸送裝置和第二輸送裝置的表面，保持輸送裝置的清潔且釉料可回收再利用。但是由于地磚磚坯強度比較低，具有一定的彈性，盡管第一輸送裝置和第二輸送裝置配備的動力相同，但是不能保障兩個輸送裝置運行速度一致，兩個輸送裝置速度不匹配，磚坯從第一輸送裝置運行到第二輸送裝置時會有小震動，從而出現磚坯暗裂甚至裂磚現象，因此此裝置較適用于經過素燒后沒有彈性的墻磚素坯淋釉。專利cn201510034943.0公開了一種節釉裝置，對輸送皮帶進行了凹陷處理，并在凹陷區內安裝釉料回收裝置，可以解決釉料浪費在輸送皮帶上的問題。此裝置解決了凹陷區兩頭皮帶同步性問題，但是也盡局限于兩頭皮帶在相同負重的情況下，加上釉漿流下覆蓋在磚坯表面上，對磚坯有向下的沖擊力，所以磚坯經過凹陷區的時候也存在震動現象，仍可能會造成磚坯暗裂。

技術實現要素：

針對現有技術的不足，本發明的目的在于提供一種防止瓷磚坯底粘釉漿的裝置及其控制方法，通過對現有淋釉生產線進行改造，安裝擋釉裝置，使淋釉時釉漿不會流到釉線皮帶上，而是通過擋釉裝置直接回到接釉盤內。

為實現上述目的，本發明采用如下技術方案：

一種防止瓷磚坯底粘釉漿的裝置，包括釉線裝置、淋釉裝置和擋釉裝置，所述釉線裝置位于所述淋釉裝置的下方，所述擋釉裝置位于所述淋釉裝置的淋釉位置的下方。

所述釉線裝置包括皮帶輪、釉線皮帶、皮帶托槽、支撐桿、釉線支架，所述皮帶輪帶動所述釉線皮帶運行，所述釉線皮帶鑲嵌在所述皮帶托槽內，所述皮帶托槽通過所述支撐桿固定在所述釉線支架上。

所述擋釉裝置包括擋釉槽、擋釉板固定桿，傳動機構，所述擋釉槽通過所述擋釉板固定桿與所述傳動機構連接，所述擋釉槽傾斜設置在所述釉線皮帶的上方。

其中，所述傳動機構包括傳動連桿、支撐傳動桿和活動關節。

所述傳動連桿包括第一傳動連桿和第二傳動連桿，所述支撐傳動桿包括第一支撐桿和第二支撐桿，所述活動關節包括兩個第一活動關節和兩個第二活動關節。

所述擋釉板固定桿與所述第一傳動連桿固定連接，所述第一支撐傳動桿一端與所述第一傳動連桿通過其中一個所述第一活動關節連接，另一端與所述第二傳動連桿通過其中一個所述第二活動關節連接，所述第二支撐傳動桿一端與所述第一傳動連桿通過另一個所述第一活動關節連接，另一端與所述第二傳動連桿通過另一個所述第二活動關節連接。

所述支撐傳動桿上設有活動軸，所述支撐傳動桿能夠圍繞所述活動軸轉動。

其中，所述傳動機構還包括控制電柜、氣缸、第三傳動連桿，所述控制電柜與所述氣缸連接，所述氣缸通過所述第三傳動連桿與所述第二傳動連桿連接。

其中，所述傳動機構還包括第一電眼傳感器和第二電眼傳感器，其中所述第一電眼傳感器安裝在瓷磚坯進入所述淋釉裝置的下方位置，所述第二電眼傳感器安裝在瓷磚坯離開所述淋釉裝置的下方位置。

所述淋釉裝置包括穩壓罐、鐘罩和擋釉布，所述穩壓罐位于所述鐘罩的上方，所述擋釉布設置在所述鐘罩的內側邊緣。

沿著所述傾斜的擋釉槽釉漿下落的位置設有接釉盤。

為實現上述目的，本發明還采用如下技術方案：

一種防止瓷磚坯底粘釉漿裝置的控制方法，包括以下步驟：

識別判斷釉線裝置的釉線皮帶上的瓷磚坯是否位于淋釉裝置的下方位置。

根據所述瓷磚坯位于所述淋釉裝置的下方位置時，推動擋釉裝置使擋釉裝置不擋著所述釉線裝置的釉線皮帶，讓釉漿從淋釉裝置流落覆蓋到瓷磚坯表面；否則拉回所述擋釉裝置使擋釉裝置擋著所述釉線裝置的釉線皮帶，讓釉漿從淋釉裝置流落在所述擋釉裝置的傾斜設置的擋釉槽上。

其中，所述步驟“識別判斷釉線裝置的釉線皮帶上的瓷磚坯是否位于淋釉裝置的下方位置”中，具體步驟包括：

利用第一電眼傳感器安裝在瓷磚坯進入所述淋釉裝置的下方位置來識別判斷釉線裝置的釉線皮帶上的瓷磚坯是否進入所述淋釉裝置的下方位置。

利用第二電眼傳感器安裝在瓷磚坯離開所述淋釉裝置的下方位置來識別判斷釉線裝置的釉線皮帶上的陶瓷磚坯是否離開所述淋釉裝置的下方位置。

所述擋釉裝置包括擋釉槽、擋釉板固定桿，傳動機構，所述擋釉槽通過所述擋釉板固定桿與所述傳動機構連接，所述擋釉槽傾斜設置在所述釉線皮帶的上方位置。

所述傳動機構包括傳動連桿、支撐傳動桿和活動關節。

所述傳動連桿包括第一傳動連桿和第二傳動連桿，所述支撐傳動桿包括第一支撐桿和第二支撐桿，所述活動關節包括兩個第一活動關節和兩個第二活動關節。

所述擋釉板固定桿與所述第一傳動連桿固定連接，所述第一支撐傳動桿一端與所述第一傳動連桿通過其中一個所述第一活動關節連接，另一端與所述第二傳動連桿通過其中一個所述第二活動關節連接，所述第二支撐傳動桿一端與所述第一傳動連桿通過另一個所述第一活動關節連接，另一端與所述第二傳動連桿通過另一個所述第二活動關節連接。

其中，所述步驟“根據所述瓷磚坯位于所述淋釉裝置的下方位置時，推動擋釉裝置使擋釉裝置不擋著所述釉線裝置的釉線皮帶，讓釉漿從淋釉裝置流落覆蓋到瓷磚坯表面”，具體的步驟包括：

根據所述瓷磚坯位于所述淋釉裝置的下方位置時。

推動所述第二傳動連桿向右運動，帶動所述支撐傳動桿以所述活動軸為軸點逆時針轉動，同時所述第一傳動連桿向左下方做圓弧移動，所述第一傳動連桿同時帶動所述擋釉槽向下移動。

當所述擋釉槽往下移動至所述擋釉槽的槽頂與所述皮帶托槽頂點一樣高時停止運動，所述瓷磚坯剛好運行到所述擋釉槽上方位置。

其中，所述步驟“否則拉回所述擋釉裝置使擋釉裝置擋著所述釉線裝置的釉線皮帶，讓釉漿從淋釉裝置流落在所述擋釉裝置的傾斜設置的擋釉槽上”，具體的步驟包括：

根據所述瓷磚坯不位于所述淋釉裝置的下方位置時。

拉回所述第二傳動連桿向左運動，帶動所述支撐傳動桿以所述活動軸為軸點順時針轉動，同時所述第一傳動連桿向右上方做圓弧移動，所述第一傳動連桿同時帶動所述擋釉槽向上移動。

當所述擋釉槽沿往上移動至所述擋釉槽的槽頂位于所述釉線皮帶正上方時停止運動。

本發明所闡述的一種防止瓷磚坯底粘釉漿的裝置，其有益效果在于：

1、與現有技術相比，本發明的擋釉裝置包括擋釉槽、擋釉板固定桿，傳動機構，所述擋釉槽通過所述擋釉板固定桿與所述傳動機構連接，所述擋釉槽傾斜設置在所述釉線皮帶的上方，當所述釉線皮帶上的瓷磚坯進入到所述淋釉裝置的下方時，傾斜的擋釉槽往下移動，使得所述擋釉槽的槽頂與所述皮帶托槽頂點一樣高時，所述陶瓷磚坯剛好運行到所述擋釉槽上方，此時釉漿從鐘罩上流下覆蓋到所述瓷磚坯上表面；

當所述釉線皮帶上的瓷磚坯離開所述淋釉裝置的下方時，傾斜的擋釉槽往上移動，當所述擋釉槽沿往上移動至所述擋釉槽的槽頂位于所述釉線皮帶正上方時停止運動時，此時釉漿從鐘罩上流下到所述擋料槽里回到接釉盤，而不會讓釉漿落到釉線皮帶上，這樣也就保證運動在釉線皮帶上的瓷磚坯的底部不會粘著釉漿。

2、由于流下的釉料并未受到污染，釉料可回收再次利用，不會造成浪費和污染環境。

3、與現有技術相比，本發明的擋釉裝置的所述擋釉裝置包括擋釉槽、擋釉板固定桿，傳動機構，所述傳動機構包括傳動連桿、支撐傳動桿和活動關節，所述擋釉板固定桿與所述第一傳動連桿固定連接，通過所述第二傳動連桿的左右來回的運動，轉化為所述擋釉槽的上下來回運動，設計獨特，在實際中有很大的優勢。

4、與現有技術相比，本發明的擋釉裝置的傳動機構還包括控制電柜、氣缸、第三傳動連桿，所述控制電柜與所述氣缸連接，所述氣缸通過所述第三傳動連桿與所述第二傳動連桿連接，使得傳動機構能夠自動的左右來回運動。

5、與現有技術相比，本發明的擋釉裝置的傳動機構還包括第一電眼傳感器和第二電眼傳感器，使傳動機構的運動的速度與位移與釉線裝置的所述釉線皮帶的速度一起配合，實現更加智能化的運作。

6、與現有技術相比，本發明防止瓷磚坯底粘釉漿裝置的淋釉裝置包括穩壓罐、鐘罩和擋釉布，所述穩壓罐位于所述鐘罩的上方，所述擋釉布設置在所述鐘罩的內側邊緣，所述擋釉布能夠引導釉漿流到指定的位置。

附圖說明

圖1是本發明實施例的一種防止瓷磚坯底粘釉漿裝置的側視示意圖。

圖2是本發明實施例的一種防止瓷磚坯底粘釉漿裝置的主視示意圖。

附圖標記說明：

1、釉線裝置，11、皮帶輪，12、釉線皮帶，13、皮帶托槽，14、支撐桿，15、釉線支架，2、淋釉裝置，21、穩壓罐，22、鐘罩，23擋釉布，24、接釉盤，3、擋釉裝置，31、擋釉槽，32、擋釉板固定桿，33、傳動機構，331、第一傳動連桿，332、第二傳動連桿，333、第一支撐傳動桿，3331、第一活動軸，334、第二支撐傳動桿，3341、第二活動軸，3342固定桿，3351、左第一活動關節，3352、右第一活動關節，3361、左第二活動關節，3362、右第二活動關節，337、控制電柜，338、氣缸，339、第三傳動連桿，340第一電眼傳感器，341、第二電眼傳感器。

具體實施方式

下面結合附圖與具體實施例來對本發明作進一步描述。

參照圖1所示，為實現上述目的，本發明實施例的防止瓷磚坯底粘釉漿的裝置采用如下技術方案：所述防止瓷磚坯底粘釉漿的裝置包括釉線裝置1、淋釉裝置2和擋釉裝置3，所述釉線裝置1位于所述淋釉裝置2的下方，所述擋釉裝置3位于所述淋釉裝置2的淋釉位置的下方；

所述釉線裝置1包括皮帶輪11、釉線皮帶12、皮帶托槽13、支撐桿14、釉線支架15，所述皮帶輪11帶動所述釉線皮帶12運行，所述釉線皮帶12鑲嵌在所述皮帶托槽13內，所述皮帶托槽13通過所述支撐桿14固定在所述釉線支架15上；

所述擋釉裝置3包括擋釉槽31、擋釉板固定桿32，傳動機構33，所述擋釉槽31通過所述擋釉板固定桿32與所述傳動機構33連接，所述擋釉槽31傾斜設置在所述釉線皮帶12的上方位置。

其中，所述傳動機構33包括第一傳動連桿331、第二傳動連桿332、第一支撐傳動桿333、第二支撐傳動桿334，第一活動關節，第二活動關節；

第一活動關節包括，其中左邊的為左第一活動關節3351，右邊的為右第一活動關節3352。

第二活動關節包括，其中左邊的為左第二活動關節3361，右邊的為右第一活動關節3362。

所述擋釉板固定桿32與所述第一傳動連桿331固定連接，所述第一支撐傳動桿333一端與所述第一傳動連桿331通過左第一活動關節3351連接，另一端與所述第二傳動連桿332通過左第二活動關節3361連接，所述第二支撐傳動桿334一端與所述第一傳動連桿331通過右第一活動關節3352連接，另一端與所述第二傳動連桿332通過右第二活動關節3362連接；

所述一支撐傳動桿333、第二支撐傳動桿334上分別設有第一活動軸3331、第二活動軸3341，所述第一支撐傳動桿333能夠圍繞所述第一活動軸3331轉動，第二支撐傳動桿334能夠圍繞所述第二活動軸3341轉動，所述第一活動軸3331通過固定桿(圖中沒標出)固定在釉線支架15上，第二活動軸3341通過固定桿3342固定在釉線支架15上。

作為優選，所述傳動機構33還包括控制電柜337、氣缸338、第三傳動連桿339，所述控制電柜337與所述氣缸338連接，所述氣缸338通過所述第三傳動連桿339與所述第二傳動連桿332連接。

作為優選，所述傳動機構33還包括第一電眼傳感器340和第二電眼傳感器341，其中所述第一電眼傳感器340安裝在進入所述淋釉裝置2的下方位置，所述第二電眼傳感器341安裝在離開所述淋釉裝置2的下方位置。

其中，所述淋釉裝置2包括穩壓罐21、鐘罩22和擋釉布23，所述穩壓罐21位于所述鐘罩22的上方，所述擋釉布23設置在所述鐘罩22的內側邊緣。

其中，沿所述傾斜的擋釉槽31下落的位置設有接釉盤24。

為實現上述目的，本發明還采用如下技術方案：

一種防止瓷磚坯底粘釉漿裝置的控制方法，包括以下步驟：

識別判斷釉線裝置1的釉線皮帶12上的陶瓷磚坯是否位于淋釉裝置2的下方；

根據所述陶瓷磚坯位于所述淋釉裝置2的下方時，推動擋釉裝置3使擋釉裝置3不擋著所述釉線裝置1的釉線皮帶12，讓釉漿從淋釉裝置2流落覆蓋到陶瓷磚坯表面；否則拉回所述擋釉裝置3使擋釉裝置3擋著所述釉線裝置1的釉線皮帶12，讓釉漿從淋釉裝置2流落在所述擋釉裝置3的傾斜設置的擋釉槽31上。

其中，所述步驟“識別判斷釉線裝置1的釉線皮帶12上的陶瓷磚坯是否位于淋釉裝置2的下方”中，具體步驟包括：

利用第一電眼傳感器340安裝在進入所述淋釉裝置2的下方位置來識別判斷釉線裝置1的釉線皮帶12上的陶瓷磚坯是否進入所述淋釉裝置2的下方；

利用第二電眼傳感器341安裝在離開所述淋釉裝置2的下方位置來識別判斷釉線裝置1的釉線皮帶12上的陶瓷磚坯是否離開所述淋釉裝置2的下方。

其中，所述擋釉裝置3包括擋釉槽31、擋釉板固定桿32，傳動機構33，所述擋釉槽31通過所述擋釉板固定桿32與所述傳動機構33連接，所述擋釉槽31傾斜設置在所述釉線皮帶12的上方；

其中步驟“根據所述陶瓷磚坯位于所述淋釉裝置2的下方時，推動擋釉裝置3使擋釉裝置3不擋著所述釉線裝置1的釉線皮帶12，讓釉漿從淋釉裝置2流落覆蓋到陶瓷磚坯表面”中，具體的步驟包括：

根據所述陶瓷磚坯位于所述淋釉裝置2的下方時；

推動所述第二傳動連桿332向右運動，帶動所述一支撐傳動桿333、第二支撐傳動桿334分別以所述第一活動軸3331和第二活動軸3341為軸點逆時針轉動，同時與所述一支撐傳動桿333和第二支撐傳動桿334通過所述左第一活動關節3351、右第一活動關節3352連接的第一傳動連桿331向左下方做圓弧移動，所述第一傳動連桿331同時帶動所述擋釉槽31向下移動；

當所述擋釉槽31沿往下移動至所述擋釉槽31的槽頂與所述皮帶托槽13頂點一樣高時停止運動，所述陶瓷磚坯剛好運行到所述擋釉槽31上方。

其中，所述其中步驟“否則拉回所述擋釉裝置3使擋釉裝置3擋著所述釉線裝置1的釉線皮帶12，讓釉漿從淋釉裝置2流落在所述擋釉裝置3的傾斜設置的擋油槽31上”中，具體的步驟包括：

根據所述陶瓷磚坯不位于所述淋釉裝置2的下方時；

拉回所述第二傳動連桿332向左運動，帶動所述一支撐傳動桿333和第二支撐傳動桿334分別以所述第一活動軸3331和第二活動軸3341為軸點順時針轉動，同時與所述一支撐傳動桿333和第二支撐傳動桿334通過所述左第一活動關節3351、右第一活動關節3352連接的第一傳動連桿331向右上方做圓弧移動，所述第一傳動連桿331同時帶動所述擋釉槽31向上移動；

當所述擋釉槽31沿往上移動至所述擋釉槽31的槽頂位于所述釉線皮帶12正上方時停止運動，從鐘罩22上流下的釉漿則流到擋料槽31里回到接釉盤22，而從鐘罩22上流下在擋料槽31之間的釉漿則直接流到接釉盤22上，如此往復。

以上所述，僅是本發明較佳實施例而已，并非對本發明的技術范圍作任何限制，故凡是依據本發明的技術實質對以上實施例所作的任何細微修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發明技術方案的范圍內。