本發明涉及電烤架裝置。

更具體地，本發明涉及通過熱傳導和熱輻射兩者來烹飪肉和其他食材的專業電烤架裝置，在以下僅通過示例的方式進行描述并且這不意味著任何通用性的損失。

背景技術：

眾所周知，如今專業電烤架裝置基本上包括：大致平行六面體形狀的外部呈箱狀的殼體，該殼體通常構造成用于擱置在通用的操作臺上；大致矩形或正方形形狀的通常呈板狀的烤架結構，該烤架結構水平地布置在殼體的頂部上形成的互補形狀的開口內；盤管狀電阻器，該電阻器在殼體內側烤架結構的緊鄰下方水平地延伸，并且能夠加熱烤架結構和烤架結構上擱置的食材；大致平行六面體形狀的匯集桶，該匯集桶可以填充有水，該匯集桶在殼體內側與烤架結構豎向地對準并且位于盤管狀電阻器下方，從而收集在烹飪期間從烤架結構滴下的任何液體；以及控制單元，該控制單元位于箱狀殼體的內側并且能夠選擇性地給盤管狀電阻器供電。

通常，所提到的電烤架裝置還包括多個直的熱反射縱向構件，所述多個直的熱反射縱向構件平行于覆蓋在上方的盤管狀電阻器的直部段延伸，并且設置成均勻地分布在位于盤管狀電阻器下方的同一水平基準平面上，從而使由電阻器發出的朝向匯集桶底部的熱輻射向后變向為朝向烤架結構，由此改善烹飪效率。

該類型的烤架裝置的主要缺點是：在烹飪期間，盤管狀電阻器的溫度大致在400℃以上并且通常從烤架結構滴下的脂肪滴有時會與盤管狀電阻器接觸并且立即燃燒，以及由此引發的所有問題(例如，煙、惡劣氣味等)。當脂肪滴觸及位于電阻器下方的直的熱反射縱向構件中的任意一者時還可能發生脂肪的突然燃燒。

為了解決該問題，DE4306845A1公開了一種電烤架裝置，其中，盤管狀電阻器的各個直部段是平行的并且與覆蓋在上方的烤架結構的相應的直的縱向構件豎向對準，烤架結構的每個縱向構件大致呈脊瓦狀，以遮蔽定位在下方的盤管狀電阻器的直部段。類似地，每個熱反射縱向構件與盤管狀電阻器的相應的直部段豎向對準。DE4306845A1還示出了定位在熱反射縱向構件下方的匯集桶，該匯集桶可以填充有水以收集并且冷卻在烹飪期間從烤架滴下的液體。

遺憾的是，電阻器和熱反射縱向構件的這種特別布置導致熱在烤架結構上非常不規則的分布，從而可能導致肉或其他食材不均勻的烹飪以及由此引發的所有問題。

此外，引用的現有技術具有下述問題：在太多水被填充至匯集桶中的情況下，水會覆蓋熱反射縱向構件和/或電阻器，這樣會對熱反射縱向構件和/或電阻器的功能和性能產生消極的影響。液體和可能的食物塊從烤架掉落至桶中會導致水位上升的事實更加重了這一問題。

技術實現要素：

因此，本發明的目標是提供具有改進的性能的電烤架裝置。

為此，本發明的目的是提供使熱在烤架結構的頂部上均勻分布的電烤架裝置，從而執行對肉和其他食材的最佳的炙烤。

本發明的另一目的是提供具有改進效率的電烤架裝置。

本發明的另一目的是提供一種電烤架裝置，該電烤架裝置能夠消除容納在匯集桶中的水對電阻器以及熱反射構件——如果存在的話——的性能產生消極影響的風險。

按照上述目標，根據本發明提供了一種電烤架裝置，包括：烤架結構，該烤架結構大致水平地布置以支承待被烹飪的食材；加熱單元，該加熱單元在烤架結構的下方延伸并且用于加熱烤架結構和擱置在烤架結構上的食材；以及熱反射結構，該熱反射結構在加熱單元下方與該加熱單元間隔開地延伸并且用于使由加熱單元發出的熱輻射變向為朝向覆蓋在上方的烤架結構。烤架結構包括多個(即兩個或更多個)主縱向構件，所述主縱向構件以彼此大致平行、并列且橫向間隔開(或橫向地分離、橫向地不接觸、橫向地間隔)的方式布置；加熱單元包括多個橢圓形加熱元件，所述橢圓形加熱元件以彼此大致平行、并列且橫向間隔開(或橫向地分離、橫向地不接觸、橫向地間隔)的方式布置在所述烤架結構的主縱向構架的下方并且大致平行于所述烤架結構的主縱向構件。熱反射結構包括多個熱反射縱向構件，所述熱反射縱向構件以彼此大致平行、并列且橫向間隔開(或橫向地分離、橫向地不接觸、橫向地間隔)的方式布置在所述橢圓形加熱元件的下方并且大致平行于所述橢圓形加熱元件。加熱單元的至少兩個水平相鄰的橢圓形加熱元件在烤架結構的兩個對應的主縱向構件的緊鄰下方并且分別平行于所述兩個對應的縱向構件延伸，所述兩個對應的主縱向構件中的每一者呈大致脊瓦狀并且同時布置成遮蔽下面的橢圓形加熱元件的上側和兩個相反的橫向側。所述至少兩個水平相鄰的橢圓形加熱元件在單個熱反射縱向構件的上方豎向地對準該單個熱反射縱向構件，所述單個熱反射縱向構件構造成使來自覆蓋在上方的至少兩個水平相鄰的橢圓形加熱元件的熱輻射的至少一部分變向為朝向縱向狹槽，所述縱向狹槽由烤架結構的在所述至少兩個水平相鄰的橢圓形加熱元件的緊鄰上方布置的兩個主縱向構件橫向定界。

已經觀察到的是，通過提供上述單個熱反射縱向構件、兩個或更多個水平相鄰的橢圓形加熱元件，由熱反射縱向構件朝向放置在烤架結構上的食物反射的總熱量高于現有技術方案——其中，每個熱反射縱向構件定位在單個橢圓形加熱元件的下方——從而使得所要求保護的發明提高了電烤架裝置的總體的加熱效率。

優選地但非必須地，置于所述至少兩個水平相鄰的橢圓形加熱元件的緊鄰上方的主縱向構件各自具有大致U形截面，其中，凹面面向加熱單元以限定縱向的腔或凹槽，其中，所述至少兩個水平相鄰的橢圓形加熱元件中的每一者在對應的縱向構件的縱向腔或凹槽的內側延伸。

優選地但非必須地，烤架結構包括至少一個橫置的橫檔，所述橫檔將主縱向構件彼此剛性地連接。

優選地但非必須地，所述烤架結構的主縱向構件大致均勻地分布成使得兩個相鄰的主縱向構件之間的間距在5mm與25mm之間。

優選地但非必須地，由所述烤架結構的兩個相鄰的主縱向構件的側壁橫向定界的縱向狹槽的最小寬度在1mm與15mm之間，并且優選地等于大約5mm。

優選地但非必須地，所述烤架結構的主縱向構件的最小寬度大于由兩個相鄰的主縱向構件橫向定界的縱向狹槽的寬度的兩倍。

優選地但非必須地，所述至少兩個水平相鄰的橢圓形加熱元件中的每一者在所述烤架結構的對應的主縱向構件的縱向腔或凹槽的內側延伸，同時保持與主縱向構件的內表面的最小距離大于0.5mm并且優選地等于或大于1.4mm。

優選地但非必須地，加熱單元包括至少一個盤管狀電阻器，所述至少一個盤管狀電阻器設置有多個相互平行的直部段；所述至少兩個水平相鄰的橢圓形加熱元件中的每一者是所述盤管狀電阻器的相應的直部段。

優選地但非必須地，所述熱反射縱向構件與所述至少兩個水平相鄰的橢圓形加熱元件的鋪設平面之間的最小距離在10mm與200mm之間，并且優選地為大約25mm。

優選地但非必須地，所述熱反射縱向構件具有大致V形截面，其中，所述大致V形截面的縱向彎曲部或脊線面向所述至少兩個水平相鄰的橢圓形加熱元件。

優選地但非必須地，所述大致V形熱反射縱向構件的兩側翼/翻板之間的坡口角度在30°與120°之間，并且優選地為大約95°。

優選地但非必須地，熱反射縱向構件的寬度是所述烤架結構的兩個相鄰的主縱向構件之間的間距的至少三倍大。

優選地但非必須地，電烤架裝置還包括匯集桶，該匯集桶布置在熱反射結構的下方并且與烤架結構大致豎向對準，從而收集在烹飪期間從烤架結構滴下的液體，并且該匯集桶被布置為至少部分地填充有水。

優選地但非必須地，所述匯集桶設計/定尺寸成容置烤架結構、加熱單元和熱反射結構。

優選地但非必須地，所述電烤架裝置還包括溢出配件，該溢出配件能夠將積聚在匯集桶中的并且超過預定最大水位的液體排出所述匯集桶。

有利地，預定的最大水位是加熱單元下方的水位。溢出配件避免了匯集桶中包含的水覆蓋加熱單元并且對加熱單元的性能產生消極影響的可能性，并且因此確保電烤架裝置的高性能。

更優選地，預定的最大水位是在熱反射結構的在下方的水位；在該情況下，溢出配件避免了容納在匯集桶中的水覆蓋熱反射結構并且對熱反射結構的性能產生消極影響的可能性，并且因此確保電烤架裝置的高性能。

優選地但非必須地，所述溢出配件能夠攔住具有相關的尺寸的任何固體塊。

優選地但非必須地，所述溢出配件包括管狀延伸部，該管狀延伸部在匯集桶的內側或旁側大致豎向地延伸，并且此外在匯集桶的底部的給定高度的上方處與所述匯集桶的內側連通，使得僅在所述管狀延伸部的上口上方的液體被允許落入所述管狀延伸部中。

在另一有利的實施方式中，管狀延伸部的管狀壁優選地在靠近上邊沿處具有一個或更多個橫向的貫通孔，所述貫通孔優選地彼此大致共面，并且更優選地圍繞管狀延伸部的縱向軸線A均勻地分布。因此，在貫通孔上方的液體能夠落入管狀部段。因此，在該情況下，預定的最大水位對應于孔的低點相對于匯集桶的底部的高度。

優選地但非必須地，所述管狀延伸部以貫通的方式接合所述匯集桶的底壁，并且在所述匯集桶的內側向上延伸從而使其上邊沿布置在距匯集桶的底部上方給定高度處。

優選地但非必須地，管狀延伸部的上口相對于所述匯集桶的底部的高度在10mm與60mm之間。

優選地但非必須地，所述移除配件還包括排泄槽，該排泄槽位于管狀延伸部的基部處以接收管狀延伸部內側的向下流動的液體。

優選地但非必須地，所述排泄槽位于所述匯集桶的底壁上。

優選地但非必須地，所述溢出配件還包括可移除的過濾器元件，該可移除的過濾器元件能夠攔住任何相關的固體塊同時允許液體自由地穿過。

優選地但非必須地，所述可移除的過濾器元件以可移除的方式配裝至所述溢出配件的所述管狀延伸部。

此外，根據本發明還提供了一種電烤架裝置，包括：烤架結構，該烤架結構大致水平地布置以支承待被烹飪的食材；加熱單元，該加熱單元在烤架結構的下方延伸并且用于加熱烤架結構和擱置在烤架結構上的食材；以及匯集桶，該匯集桶布置在加熱單元下方并且與烤架結構大致豎向地對準，以收集在烹飪期間從烤架結構滴下的液體，所述桶設置成至少部分地填充有水；所述電烤架裝置的特征在于還包括溢出配件，該溢出配件能夠將積聚在匯集桶中的并且超過預定最大水位的液體排出所述匯集桶。

有利地，預定最大水位是在加熱單元下方的水位。

有利地，溢出配件避免了容納在匯集桶中的水覆蓋加熱單元并且對加熱單元的性能產生消極影響的可能性，因此確保電烤架裝置的高性能。

優選地，電烤架裝置包括熱反射結構，該熱反射結構在加熱單元下方與該加熱單元間隔開地延伸，并且用于使由加熱單元發出的熱輻射變向為朝向覆蓋在上方的烤架結構；優選地，在該情況下，預定的最大水位是在所述熱反射結構下方的水位。在該情況下，溢出配件避免了容納在匯集桶中的水覆蓋熱反射結構并且對熱反射結構的性能產生消極影響的可能性，并且因此確保電烤架裝置的高性能。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述溢出配件包括管狀延伸部，該管狀延伸部在匯集桶的內側或旁側大致豎向地延伸并且還在所述匯集桶的底部上方的給定高度處與所述匯集桶的內側連通，使得僅在所述管狀延伸部的上口上方的液體能夠落入所述管狀延伸部。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置特征在于，所述管狀延伸部以貫穿的方式接合所述匯集桶的底壁并且在所述匯集桶的內側向上延伸，從而使其上邊沿布置在匯集桶的底部上方的給定高度處。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置特征在于，所述溢出配件還包括排泄槽，該排泄槽位于所述管狀延伸部的基部處以接收管狀延伸部內側的向下流動的液體。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述排泄槽位于所述匯集桶的底壁上。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述管狀延伸部的上口相對于所述匯集桶的底部的高度在10mm與60mm之間。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述溢出配件還能夠攔住具有相關的尺寸的任何固體塊。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述溢出配件還包括可移除的過濾器元件，該可移除的過濾器元件能夠攔住任何相關的固體塊同時允許液體自由地穿過。

優選地但非必須地，所述可移除的過濾器元件以可移除的方式配裝至所述溢出配件的所述管狀延伸部中。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述過濾器元件以可移除的方式配裝至所述管狀延伸部中。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述烤架結構包括多個主縱向構件，所述多個主縱向構件以彼此大致平行、并列且橫向地間隔開(或橫向地分離、橫向地不接觸、橫向地間隔的)的方式布置；并且，所述加熱單元包括多個橢圓形加熱元件，所述多個橢圓形加熱元件以彼此大致平行、并列且橫向間隔開(或橫向地分離、橫向地不接觸、橫向地間隔的)的方式布置在所述烤架結構的主縱向構件的下方并且大致平行于所述烤架結構的主縱向構件。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，還包括熱反射結構，該熱反射結構在所述匯集桶的底部的上方并且在加熱單元下方與該加熱單元間隔開地延伸，并且用于使由加熱單元發出的熱輻射變向為朝向覆蓋在上方的烤架結構。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述熱反射結構包括多個熱反射縱向構件，所述多個熱反射縱向構件以彼此大致平行、并列且橫向地間隔開(或橫向地分離、橫向地不接觸、橫向地間隔)的方式布置在所述主縱向構件的所述橢圓形加熱元件的下方并且大致平行于所述主縱向構件的所示橢圓形加熱元件。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述匯集桶設計/設定尺寸成至少容置烤架結構和加熱單元。

此外，根據本發明還提供了一種電烤架裝置，包括：烤架結構，該烤架結構大致水平地布置以支承待被烹飪的食材；加熱單元，該加熱單元在烤架結構的下方延伸并且用于加熱烤架結構和擱置在烤架結構上的食材；以及匯集桶，該匯集桶在加熱單元下方布置成與烤架結構大致豎向地對準，以收集在烹飪期間從烤架結構滴下的液體，所述桶設置成至少部分地填充有水；所述電烤架裝置的特征在于還包括排放管路和過濾裝置，所述排放管路能夠將積聚在匯集桶中的液體排出匯集桶，該過濾裝置沿著排放管路定位并且能夠攔住具有相關尺寸的任何固體塊同時允許液體沿著排放管路自由地流動。

有利地，所述過濾元件包括過濾器元件。

優選地，過濾器元件還具有用于選擇性地將所述匯集桶與排泄槽流體地分離的止擋件的功能；有利地，在該情況下，過濾器元件構造成能定位在關閉位置或打開位置中，在關閉位置中，該過濾器元件防止液體從匯集桶流至排泄槽，在打開位置中，該過濾器元件允許積聚在匯集桶中的液體自由流出同時將具有預定尺寸的任何固體塊攔在桶內。

在另一有利實施方式中，設置有用于選擇性地將桶與排泄槽流體分離的專用止擋件，在該情況下，過濾器元件僅具有過濾功能而不具有止擋功能；該止擋件能夠有利地在關閉位置或打開位置中定位，在關閉位置中，該止擋件防止液體從匯集桶流至排泄槽，在該打開位置中，該止擋件允許積聚在匯集桶中的液體自由流出；在該情況下，過濾器布置成使得在止擋件的打開位置中，通過該過濾器捕獲從匯集桶中流出的液體流中所包含的具有預定尺寸的任何固體塊。

過濾裝置的存在確保排放管路不會被來自烤架結構的食物的固體塊堵塞，從而改進電烤架裝置的排放性能，并且此外該過濾裝置確保這些食物的固體塊未被排出至環境中。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述過濾裝置包括可移除的過濾器元件，該可移除的過濾器元件優選地配裝至位于匯集桶的底部上的排泄槽中；所述過濾器元件有利地設計成允許積聚在匯集桶中的液體自由流出，同時攔住具有相關尺寸的任何固體塊。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述過濾器元件以可手動移除的方式配裝至排泄槽中。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，排泄槽包括杯狀本體，該杯狀本體在匯集桶的外側下方牢固地附接至匯集桶的底壁，其中，杯狀本體的上邊沿以防水的方式配裝至形成在所述匯集桶的底壁上的互補形狀的貫通開口中。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置特征在于，所述過濾器元件包括并且更優選地由大致呈盆狀的盤形篩構成，該大致呈盆狀的盤形篩與所述杯狀本體的上邊沿大致形狀互補，并且以可手動移除的方式配裝至所述上邊沿。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述烤架結構包括多個主縱向構件，所述多個主縱向構件以彼此大致平行、并列且橫向的方式布置；并且其特征在于，所述加熱單元包括多個橢圓形加熱元件，所述多個橢圓形加熱元件以彼此大致平行、并列且橫向間隔開(或橫向地分離、橫向地不接觸、橫向地間隔)的方式布置在所述烤架結構的主縱向構件下方并大致平行于所述烤架結構的主縱向構件。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，還包括熱反射結構，該熱反射結構在所述匯集桶的底部的上方并且在加熱單元的下方與加熱單元間隔開地延伸，并且能夠使由加熱單元發出的熱輻射變向為朝向覆蓋在上方的烤架結構。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述熱反射結構包括多個熱反射縱向構件，所述多個熱反射縱向構件以彼此大致平行、并列且橫向間隔開(或橫向地分離、橫向地不接觸、橫向地間隔)的方式布置在所述橢圓形加熱元件和所述主縱向構件的下方，并且大致平行于所述橢圓形加熱元件和所述主縱向構件。

優選地但非必須地，此外，所述電烤架裝置的特征在于，所述匯集桶設計/設定尺寸成至少容置烤架結構和加熱單元。

附圖說明

現在參照附圖通過示例方式對本發明的非限制性實施方式進行描述，其中：

-圖1和圖2是根據本發明的教示的電烤架裝置的立體圖，其中，為了清楚起見移除了一些部分；

-圖3是圖1中所示的電烤架裝置的部分分解立體圖，其中，為了清楚起見移除了一些部分；

-圖4是圖1、圖2和圖3中所示的電烤架裝置的剖面正視圖并帶有放大細節圖，其中，為了清楚起見移除了一些部分；

-圖5是圖4的電烤架裝置的一部分的部分分解放大圖，其中，為了清楚起見移除了一些部分；

-圖6是圖1至圖5中所示的電烤架裝置的替代性實施方式的一部分的剖面正視圖。

具體實施方式

在附圖1、2、3、4和5中，附圖標記1總體上指示了適于炙烤肉和其他食材的電烤架裝置。

電烤架裝置1基本上包括：優選地大致呈正方形或矩形形狀的烤架組件2，該烤架組件2由金屬材料制成并且優選地大致水平地延伸從而直接支承待烹飪的食材；以及加熱裝置3，該加熱裝置3在烤架組件2的緊鄰下方并優選地局部大致平行于烤架組件2的鋪設平面延伸，并且優選地在該烤架組件2的大致整個范圍上延伸，并且加熱裝置3能夠加熱烤架組件2以及擱置在烤架組件2上的任何食材。

電烤架裝置1優選地包括優選地大致平行六面體形狀的外箱狀殼體4，該外箱狀殼體4優選地由金屬材料制成，該外箱狀殼體4優選地構造成用于擱置在通用操作臺上并且優選地設計成容置烤架組件2和加熱裝置3兩者。

烤架組件2優選地大致水平地布置于上部開口5內，該上部開口5優選地形成在殼體4的頂壁6的大致中間并且優選地呈與烤架組件2大致互補的形狀。進而，加熱裝置3優選地在烤架組件2的緊鄰下方容置在殼體4內側。

優選地，電烤架裝置1還包括可手動操作的控制裝置(例如一個或更多個旋鈕、和/或按鈕、和/或開關、和/或觸屏)，該控制裝置優選地至少部分地容置于殼體4中并且能夠選擇性地啟動加熱裝置3同時還優選地控制朝向覆蓋在上面的烤架組件2的熱輸出。

烤架組件2，優選地但非必須地，包括兩個獨立的且水平相鄰的烤架結構7，所述烤架結構7由金屬材料制成并且優選地彼此共面。

每個烤架結構7優選地以可手動移除的方式優選地配裝在頂壁6的上部開口5的對應部分中，并且每個烤架結構7基本上包括：一系列大致直的主縱向構件8(也簡稱為“縱向構件”)，所述主縱向構件8優選地大致呈脊瓦狀并且在大致沿水平方向的共同鋪設平面P上以彼此局部平行、并列且橫向間隔開(或橫向地分離、橫向地不接觸、橫向地間隔)的方式延伸，其中有利地，所述主縱向構件8的凹面朝下、即面向定位在下方的加熱裝置3；以及優選地，至少一個橫置的橫檔9，該橫檔9位于縱向構件8的旁側、面向縱向構件8的軸向端部并且將縱向構件8的軸向端部彼此剛性地連接。

在所示的有利的示例中，每個烤架結構7優選地包括一對相互平行的橫置的橫檔9，所述橫檔9有利地位于縱向構件8的相反兩側上，局部地面向縱向構件8的軸向端部，并且所述橫檔9分別地將縱向構件8的軸向端部剛性地連接。

有利地，兩個橫檔9優選地與縱向構件8大致共面，并且兩個橫檔9優選地分別剛性地接合至所有相鄰縱向構件8的軸向端部從而與縱向構件8一起形成大致整體式的剛性框架。優選至少一個連接橫檔9、更優選兩個連接橫檔9構造成/設計成擱置成在上部開口5的對應側邊緣處抵接在頂壁6上。

有利地，每個縱向構件8包括并且優選地由直的型材構成，所述型材具有優選地U形截面，并且其縱向槽面朝下，即直接面向定位在下方的加熱裝置3。

優選地，每個縱向結構8的長度、即每個U形型材8的長度范圍在400mm與600mm(毫米)之間。

優選地，每個U形型材8由不銹鋼制成，比如例如AISI/SAE 304鋼或AISI/SAE 441鋼。

類似地，兩個橫置的橫檔9優選地都由不銹鋼制成，比如例如AISI/SAE 304鋼或AISI/SAE 441鋼。優選地，橫置的橫檔9通過優選地焊接或螺栓連接來直接地連接至相鄰的U形型材8的軸向端部。

除了上述之外，烤架組件2的縱向構件8優選地大致均勻地分布成使得優選地兩個相鄰縱向構件8之間的間距“s₀”在5mm與25mm(毫米)之間。在該情況下間距s₀定義為兩個相鄰的縱向構件8的兩個對應的點(例如，假設兩個對應的點相對于兩者之間的豎向對稱面是豎向對稱的)之間的距離。

優選地，烤架組件2的縱向構件8的形狀和尺寸還設定成使得由兩個相鄰的縱向構件8的側壁橫向定界的縱向狹槽10的最小寬度“w”優選地在1mm與15mm(毫米)之間。因此，對于每一對相鄰的主縱向構件8而言，最小寬度“w”對應于其最小距離。

在所示示例中，每個縱向狹槽10的最小寬度w優選地等于大約5mm(毫米)，然而每個主縱向構件8的最大寬度“w₀”優選地大于縱向狹槽10的寬度w的兩倍。

有利地，加熱裝置3優選地包括兩個獨立的且水平相鄰的加熱單元11，所述加熱單元11優選地彼此共面并且其中的每一者優選地設置在對應的烤架組件2的烤架結構7的緊鄰下方。因此，每個加熱單元11與相應的烤架結構8豎向地對準，并且能夠加熱覆蓋在上方的烤架結構7以及擱置在烤架結構7上的任何食材。

加熱單元11基本上包括一系列大致直的橢圓形加熱元件12，所述橢圓形加熱元件12在優選地大致沿水平方向的共同鋪設平面上以彼此局部平行、并列且橫向間隔開(或橫向地分離、橫向地不接觸、橫向地間隔)的方式延伸，并且這一系列橢圓形加熱元件還大致平行于覆蓋在上方的烤架組件2的縱向構件8。

每個橢圓形加熱元件12有利地與相應的烤架組件2的縱向構件8豎向地對準，并且每個橢圓形加熱元件12優選地于對應的縱向構件8的緊鄰下方、在該縱向構件8的縱向腔或凹槽的內側并優選地在大致整個長度上延伸，從而優選地大致脊瓦形的縱向構件8可以遮蔽相應的橢圓形加熱元件12。

優選地，每個橢圓形加熱元件12在縱向構件8的縱向腔或凹槽的內側延伸，同時距縱向構件8的內表面的最小距離保持大于0.5mm(毫米)，更優選地大于1mm(毫米)。

優選地，每個橢圓形加熱元件12凹入/容置在對應的縱向構件8的縱向腔中，即凹入/容置在U形縱向構件8的縱向凹槽中，使得覆蓋在上方的縱向構件8能夠同時遮蔽定位在下方的橢圓形加熱元件12的上側以及兩個相反的橫向側。

因此，有利地，加熱單元11的橢圓形加熱元件12至少部分地與烤架結構7的縱向構件8局部大致共面。

換句話說，加熱裝置3的橢圓形加熱元件12優選地大致均勻地分布在鋪設平面P上。

此外，每個橢圓形加熱元件12的長度優選地在300mm與600mm(毫米)之間。

加熱裝置3的每個加熱單元11優選地包括數量與覆蓋在上方的烤架結構7的縱向結構8的數量相等的橢圓形加熱元件12，使得烤架結構7的每個縱向結構8容置加熱單元11的相應的橢圓形加熱元件12。

換句話說，烤架組件2的每個縱向構件8優選地容置加熱裝置3的相應的橢圓形加熱元件12。在另一有利的實施方式中，一個或更多個縱向構件8可以是空的，或換句話說一個或更多個縱向構件8不具有相對應的橢圓形加熱元件12。

在優選實施方式中，加熱單元11的每個橢圓形加熱元件12優選具有大致圓形截面，并且優選地在對應的所覆蓋的縱向構件8的腔的內側延伸，或換句話說，沿著大致U形直的縱向構件8的縱向凹槽延伸，優選地以此方式一直保持在距縱向構件8的內表面最小距離處，其中該最小距離優選地等于或大于1.4mm(毫米)。

有利地，加熱裝置3的加熱單元11優選包括單個盤管狀電阻器13，該單個盤管狀電阻器13設置成優選地與烤架組件2的縱向構件8大致共面。

優選地，加熱單元11構造成達到范圍在400℃與500℃之間的工作溫度。

優選地，盤管狀電阻器13設置有多個相互平行的直部段12，所述相互平行的直部段12在優選地在鋪設平面P上延伸且大致均勻地分布，并且所述相互平行的直部段12優選地分別容置在烤架組件2的相應的縱向構件8的縱向腔或凹槽中。

換句話說，加熱單元11的每個橢圓形加熱元件12優選地包括并更優選地由盤管狀電阻器13的以與覆蓋在上方的烤架結構7的縱向結構8大致共面的方式延伸的相應直部段構成。

優選地，每個直部段12的長度為500mm(毫米)左右。

優選地，電烤架裝置1的可手動操作的控制裝置包括：供電單元14以及優選地可手動操作的控制面板15，該供電單元14優選地位于殼體4內側并且優選地用于為加熱單元11供電，優選地，該供電單元14還同時控制在盤管狀電阻器13/每個盤管狀電阻器13內通流的電流的強度/安培數，該可手動操作的控制面板15優選地位于殼體4的前壁上并且優選地控制供電單元14。

優選地，電烤架裝置1還包括：熱反射組件16，該熱反射組件16在殼體4的內側于加熱裝置3下方延伸并且與該加熱裝置3間隔開，并且該熱反射組件16適當地構造成使由加熱裝置3發出的沿與烤架組件2相反的方向的熱輻射變向為朝向覆蓋在上方的烤架組件2；以及優選地還包括匯集桶17，該匯集桶17設置在殼體4內側、大致與烤架組件2豎向地對準并且位于熱反射組件16的下方，以收集在烹飪期間從烤架組件2滴下的任何液體。匯集桶17設置成例如通過未示出的連接至總水管的一體的插口而以水填充，使得在烹飪期間從烤架結構滴下的任何液體落入水中并被冷卻。

因此，殼體4被設計/設定尺寸成容置烤架組件2、加熱裝置3、熱反射組件16以及匯集桶17。

熱反射組件16優選地由金屬材料制成，并且優選地在加熱裝置3的下方延伸并且優選在加熱裝置3的和/或烤架組件2的大致整個范圍上延伸，該熱反射組件16優選地同時保持局部大致平行于橢圓形加熱元件12的鋪設平面P。

此外，熱反射組件16適當地構造成使由橢圓形加熱元件12發出的沿與烤架組件2相反的方向的熱輻射變向為朝向覆蓋在上方的烤架組件2。

匯集桶17優選地由金屬材料制成并且優選地大致復制烤架組件2的外周的形狀和/或頂壁6的上部開口5的形狀，以便收集在烹飪期間從烤架組件2滴下的任何液體。

熱反射組件16優選地包括兩個獨立的且水平相鄰的熱反射結構18，所述兩個熱反射結構18優選地彼此共面，并且所述兩個熱反射結構18中的每一者優選地與相應的加熱裝置3的加熱單元11豎向地對準且處于該加熱單元11的下方，并與該加熱單元11沿豎向間隔開。每個熱反射結構18構造成使由覆蓋在上方的加熱單元11的橢圓形加熱元件12發出的沿與烤架結構7相反的方向的熱輻射變向為朝向覆蓋在上方的烤架結構7。

每個熱反射結構18優選地構造/設計成以抵接在匯集桶17的底部上的方式擱置。

在另一有利的實施方式中，可以設置單個熱反射結構18。

熱反射結構18優選地基本上包括：一系列優選地大致直的熱反射縱向機構19，所述熱反射縱向機構19大致平行于覆蓋在上方的加熱元件3的橢圓形加熱元件12延伸，所述熱反射縱向機構19優選地在匯集桶17的上方與匯集桶17間隔開，并且優選地在大致水平方向的共同鋪設平面上以局部平行、并列且彼此橫向間隔開(或橫向地分離、橫向地不接觸、橫向地間隔)的方式布置，所述共同鋪設平面局部平行于覆蓋在上方的加熱裝置3的橢圓形加熱元件12的鋪設平面P。

優選地，熱反射結構18包括一對相互平行的橫置的連接橫檔20，所述連接橫檔20位于熱反射縱向構件19的相反兩側并且面向所述熱反射縱向構件19的軸向端部，并且所述連接橫檔20將熱反射縱向構件19剛性地連接至彼此。

兩個連接橫檔20優選地構造/設計成以直接抵接在匯集桶17的底部上的方式擱置。

兩個連接橫檔20優選地剛性地接合至相鄰的熱反射縱向構件19的軸向端部，從而與所述熱反射縱向構件19共同形成大致整體的剛性橋形框架。

每個熱反射縱向構件19有利地與覆蓋在上方的加熱裝置3的至少一對、優選多個(例如兩個或更多個)水平相鄰的橢圓形加熱元件12豎向對準，并且每個熱反射縱向構件19構造/設計成使來自所述覆蓋在上方的成對的或多個水平相鄰的橢圓形加熱元件12的熱輻射的至少一部分變向為直接朝向縱向狹槽/多個縱向狹槽10，使得所述熱輻射能夠直接到達擱置在烤架組件2上的食材，其中該縱向狹槽/多個縱向狹槽10由烤架組件2的用于遮蔽加熱裝置3的所述水平相鄰的加熱元件12的兩個相鄰縱向構件8橫向定界。

每個熱反射縱向構件19優選地包括并且更優選地由直的型材構成，該直的型材優選地具有大致V形截面并且在殼體4的內側延伸，其中，每個熱反射縱向構件19的縱向彎曲部或脊線面向加熱裝置3的覆蓋在上方的且水平相鄰的橢圓形加熱元件12，并且每個熱反射縱向構件19的縱向凹槽面向匯集桶17的底部。

優選地，縱向構件19的外表面是鏡面拋光的。

優選地，V形縱向構件19的兩側翼/翻板之間的坡口角度α優選在30°與120°之間，并且優選地但非必須地為95°左右。

優選地，縱向構件19由不銹鋼制成，比如例如AISI/SAE 430鋼或AISI/SAE 304鋼。

類似地，連接橫檔20優選地由不銹鋼制成，比如例如AISI/SAE 430鋼或AISI/SAE 304304鋼，并且優選地直接焊接至相鄰的縱向構件19的軸向端部。

熱反射結構18的熱反射縱向構件19優選地大致均勻地分布，并且優選地設置在加熱裝置3的橢圓形加熱元件12的下方，使得每個熱反射縱向構件19與覆蓋在正上方的橢圓形加熱元件12的鋪設平面P之間的最小距離d優選地在10mm與200mm(毫米)之間。

熱反射組件16的每個V形縱向構件19的直線形的上部彎曲部或脊部與加熱裝置3的橢圓形加熱元件12的鋪設平面P之間的距離d優選地為25mm(毫米)左右。

熱反射結構18的熱反射縱向構件19優選地大致均勻地分布成使得相鄰的熱反射縱向構件19之間的間距“s₁”是覆蓋在上方的烤架組件2的縱向構件8的間距s₀的四倍大。間距s₁在該情況下被定義為兩個相鄰的熱反射縱向構件19的兩個對應點(例如圖5的示例中截面的左邊界的點)之間的距離。

優選地，熱反射組件16的熱反射縱向構件19的形狀和尺寸設定成使得每個熱反射縱向構件19的最大寬度w₁優選地是覆蓋在上方的烤架組件2的縱向構件8的間距s₀的至少三倍大。

有利地，匯集桶17優選地設計成/設定尺寸成容置烤架組件2、加熱裝置3和熱反射組件16。

匯集桶17適當地尺寸設定成基本上復制頂壁6的上部開口5的形狀，并且該匯集桶17優選地通過將上邊沿在上部開口5處抵接在頂壁6上而布置在殼體4的內側，以容置烤架組件2、加熱裝置3和熱反射組件16，并且從而收集在烹飪期間從烤架組件2滴下的任何液體。

匯集桶17優選地由不銹鋼制成，比如例如AISI/SAE 430鋼或AISI/SAE 304鋼，并且優選適當地設計/設定尺寸成同時容置烤架組件2、加熱裝置3和熱反射組件16。

電烤架裝置1優選地包括排放管路，該排放管路能夠將在正常烹飪期間積聚在所述匯集桶17中的液體(通常是水和油以及脂肪的混合物)排出匯集桶17并且優選地朝向通用的下水道或廢物槽(未示出)排出。所述排放管路有利地包括溢出配件23，該溢出配件23能夠將正常烹飪期間積聚在匯集桶17中的超過預定最大水位的液體排出匯集桶17，并且優選地同時還攔住具有相關尺寸的任何固體塊。

有利地，預定最大水位是在加熱單元11的下方的水位。

更優選地，預定最大水位是在熱反射結構16的下方的水位。

溢出配件23優選地位于匯集桶17的底部，并且能夠將在烹飪期間積聚在匯集桶17中的并且超過匯集桶17中的預定最大水位的液體量排出匯集桶17并且優選地朝向通用下水道或廢物槽(未示出)排出，優選地同時還攔住具有相關尺寸的任何固體塊。

溢出配件23優選地基本上包括大致直的管狀延伸部24，該延伸部24優選地由金屬材料制成，并且在匯集桶17中大致豎向地延伸以將其上口布置在匯集桶17底部上方的給定高度處。

優選地但非必須地，管狀延伸部24的管狀壁優選地在靠近上邊沿處具有多個橫置的貫通孔29，所述多個橫置的貫通孔29優選地彼此大致共面，并且更優選地圍繞管狀延伸部24的縱向軸線A均勻地分布。因此，貫通孔29的上方的液體能夠落入管狀部段24中。因此，在該情況下，預定最大水位對應于孔29的低點相對于匯集桶17的底部的高度。

在另一有利的實施方式中，未設置有孔29，在該情況下，僅在管狀延伸部24的上口上方的液體能夠落入所述管狀延伸部24中。因此，在該情況下，預定的最大水位與管狀延伸部24的上口的高度相對應。

管狀延伸部24的下口優選地經由通用軟管(未示出)優選地與通用下水道或廢物槽(未示出)連通。

溢出配件23優選地包括大致直的管狀延伸部24，該管狀延伸部24以貫穿的方式接合匯集桶17的底壁25，并且在匯集桶17的內側懸臂式地向上延伸，從而使其上邊沿布置在匯集桶17的底部的上方的給定高度處，使得僅所述上邊沿上方的液體能夠落入所述管狀延伸部24中。

溢出配件23優選地包括排泄槽26，該排泄槽26位于管狀延伸部24的基部處，以接納在管狀延伸部24的內側向下流動的液體，并且排泄槽26優選地經由通用軟管(未示出)優選地與所述通用下水道或廢物槽(未示出)連通。

優選地，此外，直立的管狀延伸部24在匯集桶17內側向上延伸到達匯集桶17的底部上方的給定高度，該給定高度優選地但非必須地在10mm至60mm(毫米)之間。

此外，直立的管狀延伸部24優選地具有大致圓形截面。

明顯地，在替代性實施方式中，管狀延伸部24可至少部分地結合至匯集桶17的側壁中。

排泄槽26可以優選地由金屬材料制成，并且在管狀延伸部24的基部處優選地位于或凹入匯集桶17的底壁25中。

溢出配件23優選地包括過濾器元件27。

過濾器元件27優選地由金屬材料制成。

過濾器元件27優選地以可手動分離的方式配裝至管狀延伸部24中，以攔住任何相關固體塊同時允許液體自由地穿過并且優選地到達排泄槽26。通過手動地取出過濾器元件27，可以清洗被該過濾器元件27攔住的任何相關的固體塊，并且然后可以將該過濾器元件重新定位在管狀延伸部24中。

排泄槽26優選地包括并且更優選地由優選大致呈圓形的杯狀本體26構成。

杯狀本體26優選地由不銹鋼制成，比如例如AISI/SAE 303鋼或AISI/SAE 304鋼。

杯狀本體26優選地在匯集桶17的外側下方牢固地附接/聯接至匯集桶17的底壁25，其中，杯狀本體26的上邊沿豎向地對準形成在匯集桶17的底壁25上的具有互補形狀的貫通開口28并且優選地還以防水的方式配裝至該貫通開口28中。

管狀延伸部24優選包括并且更優選地由直的管狀部段24構成，該直的管狀部段24優選地由不銹鋼制成，比如例如AISI/SAE 303鋼或AISI/SAE 304鋼，并且優選地具有圓形截面。

管狀部段24的下邊沿優選地與底壁25上的貫通開口28的形狀互補，并且優選地以防水的方式配裝至貫通開口28和杯狀本體26的上邊沿兩者中，以在匯集桶17內側懸臂式地向上延伸，優選地同時保持大致豎直并且局部地大致垂直于匯集桶17的底壁25。

優選地，直的管狀部段24在匯集桶17內側向上延伸到達匯集桶17底部上方的給定高度處，該給定高度優選地在40mm(毫米)左右。

優選地，過濾器元件27包括并且更優選地由優選大致呈盆狀盤形篩構成。優選地，過濾器元件27由不銹鋼制成，比如例如AISI/SAE430鋼或AISI/SAE 304鋼。

優選地，過濾器元件27大致與杯狀本體26的上邊沿的形狀互補，以便以可手動移除的方式配裝至管狀部段24中直至到達杯狀本體26的上邊沿。

過濾器元件27的尺寸優選地設定成使過濾器元件27以在所述杯狀本體26的上邊沿處抵接在形成在杯狀本體26中的環狀臺階部上的方式穩定地擱置。

優選地，過濾器單元27的尺寸設定成攔住具有優選地大于3mm(毫米)的粒徑的任何塊狀物。

通過以上描述可以容易地推斷電烤架裝置1的大體操作，因此不需要進一步闡述。

由覆蓋在上方的烤架組件2的縱向構件8、加熱裝置3的橢圓形加熱元件12、以及熱反射組件16的熱反射縱向構件19的新布局帶來的優點非常明顯。

實驗結果顯示，與覆蓋在上方的加熱裝置3的兩個或更多個水平相鄰的橢圓形加熱元件12——所述橢圓形加熱元件12進而容置在烤架組件2的相應的縱向構件8的縱向凹槽中——豎向地對準的每個熱反射縱向構件19允許實現熱在覆蓋在上方的烤架組件2上的非常規則的分布，并且具有烹飪中所必需的所有有利條件。

此外，存在于匯集桶17的底部上的溢出配件23避免了在密集的專業烹飪期間使用者反復地停止烹飪然后手動地將正常積聚在匯集桶17中的水、油和脂肪的混合物從桶17中清空。

然而，顯然，在不脫離本發明的范圍的情況下可以對電烤架裝置1進行修改。

例如，烤架組件2可包括單個烤架結構7。

加熱裝置3可包括單個盤管狀電阻器13。熱反射組件16可包括單個熱反射結構18，該單個熱反射結構18包括多個相互平行的熱反射縱向構件19，所述熱反射縱向構件19平行于加熱裝置3的橢圓形加熱元件12并且在大致沿水平方向的共同鋪設平面上彼此并列且橫向地間隔開(或橫向地分離、橫向地不接觸、橫向地間隔)，其中該共同鋪設平面局部平行于覆蓋在上方的加熱裝置3的橢圓形加熱元件12的鋪設平面P。

根據另一未示出的有利的實施方式，溢出配件23可結合至匯集桶17的側壁。

換句話說，管狀延伸部24可大致豎向地設置在匯集桶17的外側和旁側，并且管狀延伸部24的上口可以在集收桶17的底部的上方的給定高度處經由形成在匯集桶17的側壁上的開口與集收桶17的內側而連通。

此外，根據另一有利的實施方式，并非烤架組件2的所有縱向構件8都容置有加熱裝置3的各個橢圓形加熱元件12，即盤管狀電阻器13的直部段12。在這種情況下，熱反射縱向構件19可以分別與一對或多個水平相鄰的橢圓形加熱元件12豎向地對準，并且分別構造/設計成使來自覆蓋在上方的成對的或多個水平相鄰的橢圓形加熱元件12的熱輻射的至少一部分變向為直接地朝向縱向狹槽10，其中該縱向狹槽10由與所述熱反射縱向構件19豎向對準的全部縱向構件8橫向定界。

最后，通過具體參照圖6，根據另一有利的實施方式，電烤架裝置1的排放管路包括取代溢出配件23的過濾構件，該過濾構件沿著排放管路定位并且能夠攔住具有相關尺寸的任何固體塊同時允許液體沿著排放管路自由地流動。

在該情況下，電烤架裝置1有利地包括過濾器元件30，該過濾器元件30配裝至排泄槽31中，該排泄槽31位于匯集桶17的底部上并且經由通用軟管(未示出)優選地與通用下水道或廢物槽(未示出)連通。在該情況下，過濾器元件30優選地還具有用于將桶17與排泄槽31選擇性地流體分離的止擋件的功能；因此，過濾器元件30構造成定位在關閉位置或打開位置中，在關閉位置中，過濾器元件30防止液體從桶17流至排泄槽31，在打開位置中，過濾器元件30允許積聚匯集桶17中的液體自由的流出同時將具有相關尺寸的任何固體塊攔在桶17內。

在未示出的另一有利的實施方式中，設置有用于選擇性地將桶與排泄槽流體地分離的專用的止擋件，在該情況下，過濾器元件30僅具有過濾功能而不具有止擋功能；該專用的止擋件可以有利地在關閉位置和打開位置中定位，在關閉位置中，該專用的止擋件防止液體從匯集桶流動至排泄槽，在打開位置中，該專用的止擋件允許積聚在匯集桶中的液體自由地流出；在該情況下，過濾器布置成使得在止擋件的打開位置中，通過該過濾器捕獲從匯集桶流出的液體流中包含的具有前述尺寸的任何固體塊。

在圖6中所示示例中，排泄槽31優選地包括并且更優選地由優選地大致呈圓形的杯狀本體31構成，該杯狀本體31優選地由不銹鋼制成，比如例如AISI/SAE 303鋼或AISI/SAE304鋼，并且該杯狀本體31在匯集桶17的外側下方通過其上邊沿以防水的方式配裝至形成匯集桶17的底壁25上的具有互補形狀的貫通開口32中，從而牢固地附接/連接至匯集桶17的底壁25。

過濾器元件30優選地由金屬材料制成，并且優選地以可手動移除的方式配裝在排泄槽31的上口中，或更佳地，配裝至杯狀本體31的上邊沿中，從而在打開位置中將任何相關固體塊攔在緊鄰排泄槽31的上游同時允許液體自由地流過。

過濾器元件30優選地包括并且更優選地由優選大致呈盆狀的盤形篩構成，該大致呈盆狀的盤形篩優選地由不銹鋼制成，比如例如AISI/SAE 430鋼或AISI/SAE 304鋼，并且其大致與杯狀本體31的上邊沿的形狀互補，從而在所述杯狀本體31的上邊沿處以可手動移除的方式配裝至杯狀本體31的上邊沿中并且優選地抵接在形成于杯狀本體31中的環狀臺階部上。

優選地，此外，盤形篩30的尺寸設定為攔住具有優選地大于3mm(毫米)的粒徑的任何塊狀物。