本公開總體上涉及一種用于清潔表面的表面清潔器。

背景技術：

1、存在許多類型的表面清潔器，其中一些可采用抽吸和/或流體來清潔表面。一類表面清潔器被稱為立式清潔器。包括一些立式清潔器在內的一些表面清潔器可以是抽取式清潔器，該抽取式清潔器使用從表面抽吸碎屑和/或流體的真空系統以及流體輸送系統從表面抽取污物。

技術實現思路

1、本文公開了一種具有多種改進的表面清潔器。該表面清潔器可以是但不限于立式抽取式清潔器。該表面清潔器可以配備成在特定模式下將攪拌器提升遠離待清潔表面。在示例中，表面清潔器可以包括基座，該基座被構造用于在待清潔表面上移動?；梢园ㄏ薅〝嚢杵魇业幕鶜んw、容納在攪拌器室中的攪拌器組件以及攪拌器升降桿，該攪拌器升降桿被支撐在基座殼體上并且可相對于基座殼體在前向位置與后向位置之間平移。表面清潔器可以包括脊式組件，該脊式組件用于在待清潔表面上引導基座。脊式組件可以可樞轉地連接到基座并且可相對于基座圍繞樞轉軸線在第一位置與第二位置之間樞轉。攪拌器組件可以包括攪拌器支撐框架和可旋轉地支撐在攪拌器支撐框架上的可旋轉攪拌器。脊式組件可以被構造為操作性地接合攪拌器升降桿并且當脊式組件從第二位置樞轉到第一位置時將攪拌器升降桿從前向位置平移到后向位置。接合機構可以固定到攪拌器支撐框架并且定位成當攪拌器升降桿平移到后向位置時通過攪拌器升降桿樞轉，樞轉的接合機構將攪拌器支撐框架和固定到攪拌器支撐框架的攪拌器從降低位置提升到升高位置，攪拌器在升高位置比在降低位置更遠離待清潔表面。

2、本公開范圍內的表面清潔器可以被配備成防止當攪拌器提升時傳動帶松弛。例如，表面清潔器可以包括基座，該基座被構造用于在待清潔表面上移動，基座可以包括限定攪拌器室的基座殼體以及容納在攪拌器室中的攪拌器組件。表面清潔器可以包括脊式組件，該脊式組件用于在待清潔表面上引導基座。脊式組件可以可樞轉地連接到基座并且可相對于基座圍繞樞轉軸線在第一位置與第二位置之間樞轉。第一位置可以相對于基座相對直立，并且第二位置可以相對于基座相對傾斜。攪拌器組件可以包括攪拌器支撐框架、可旋轉地支撐在攪拌器支撐框架上的可旋轉攪拌器以及被支撐用于與可旋轉攪拌器一起圍繞攪拌器軸線旋轉的鏈輪。當脊式組件從第二位置樞轉到第一位置時，攪拌器支撐框架和支撐在攪拌器支撐框架上的可旋轉攪拌器可以從降低位置提升到升高位置，其中，可旋轉攪拌器在升高位置比在降低位置更遠離待清潔表面。表面清潔器可以包括驅動組件，該驅動組件包括馬達驅動軸和帶，該帶與馬達驅動軸和鏈輪兩者接合，用于使攪拌器圍繞攪拌器軸線旋轉。突出部可以在攪拌器室中從基座殼體延伸并且可以具有帶接合表面。當攪拌器組件處于降低位置時，帶可以與帶接合表面間隔開，并且當攪拌器組件處于升高位置時，帶可以設置成抵靠帶接合表面。在一些示例中，突出部可以使帶的路徑在降低位置和升高位置兩者中具有相同的長度，使得在帶中的張力保持不變的同時防止松弛。

3、本公開范圍內的表面清潔器可以具有釋放按鈕和卡位機構，該釋放按鈕和該卡位機構具有緊湊的設計并且被構造為保護基座殼體的內部室免受外部碎屑和液體的影響，同時將脊式組件可釋放地保持在豎立位置。例如，一種表面清潔器可以包括：基座，該基座被構造用于在待清潔表面上移動，基座包括基座殼體；以及脊式組件，該脊式組件用于在待清潔表面上引導基座。脊式組件可以可樞轉地連接到基座并且可相對于基座圍繞樞轉軸線在第一位置與第二位置之間樞轉。第一位置可以相對于基座相對直立，并且第二位置可以相對于基座相對傾斜。卡位機構可以被構造為選擇性地將脊式組件保持在第一位置。卡位機構可以包括：卡爪，該卡爪操作性地固定到脊式組件的下殼；樞轉臂，該樞轉臂可樞轉地固定到基座殼體；以及彈簧，當脊式組件處于第一位置時，彈簧使樞轉臂抵靠卡爪偏置?？ㄎ粰C構還可以包括釋放按鈕，該釋放按鈕可以安裝到基座殼體并且可壓靠樞轉臂以使樞轉臂遠離卡爪并抵靠彈簧樞轉，由此使樞轉臂從卡爪釋放，從而允許脊式組件樞轉到第二位置。利用此構造，樞轉臂可以完全被容納在基座殼體內，并且用于釋放按鈕的開口可以在基座殼體上具有較小的占用面積。

4、本公開范圍內的表面清潔器可以具有馬達驅動組件，該馬達驅動組件的尺寸緊湊，但仍然管理載荷并且允許接近帶，這可能是例如更換帶所必需的。表面清潔器可以包括：基座，該基座具有限定攪拌器室的基座殼體，以及攪拌器組件，該攪拌器組件由基座殼體支撐在攪拌器室中并且包括可旋轉攪拌器。表面清潔器可以包括驅動組件，該驅動組件可操作用于使可旋轉攪拌器圍繞攪拌器軸線旋轉。驅動組件可以包括：馬達，該馬達具有限定馬達軸線的馬達軸；中間軸，該中間軸設置在攪拌器與馬達軸之間，并且限定平行于攪拌器軸線和馬達軸線的中間軸線。第一軸承組件和第二軸承組件可以安裝到基座殼體并且可以可旋轉地支撐中間軸。第一帶可以在第一軸承組件與第二軸承組件之間與中間軸操作性地接合，并且第一帶還可以與馬達軸操作性地接合。第二帶可以在中間軸的端部處與中間軸操作性地接合，其中第一軸承組件位于第二帶與第一帶之間，并且第二帶與攪拌器操作性地接合。在此構造中，在第一帶設置在兩個軸承組件之間的情況下，避免了當兩個軸承組件都在帶的一側上時存在的懸臂加載效應，這可以允許減小驅動組件的總長度。

5、在驅動組件的實施方式中，為了允許接近第一帶和供第一帶安裝在其上并且在軸承組件之間的帶輪，第一軸承組件可以包括具有狹槽的環形安裝的軸承支撐件，其被構造為提供這種接近性。例如，第一帶輪可以設置在第一軸承組件與第二軸承組件之間的中間軸上，其中第一帶與第一帶輪接合。第一軸承組件可以包括軸承殼體，該軸承殼體固定到基座殼體并且圍繞中間軸。軸承殼體可以包括通孔，中間軸延伸穿過該通孔。環形安裝的軸承保持件可以在該通孔處由軸承殼體支撐在軸承殼體的第一壁中，并且可以可相對于軸承殼體旋轉。環形安裝的軸承保持件可以具有狹槽，并且軸承殼體可以具有延伸到該通孔的窗口。在環形安裝的軸承保持件的旋轉的一部分期間，狹槽可以與窗口連通。狹槽和窗口的尺寸可以設計成允許第一帶圍繞第一帶輪排布并且與第一帶輪接合。

6、本公開范圍內的表面清潔器可包括自吸式離心泵(self-priming?centrifugalpump)，該自吸式離心泵避免需要外部部件來起動泵，從而最小化表面清潔器內的封裝空間。表面清潔器可以包括：基座，該基座被構造用于在待清潔表面上移動，該基座包括基座殼體。表面清潔器可以包括流體分配系統，該流體分配系統可操作用于將流體輸送到待清潔表面。流體分配系統可以包括安裝在基座殼體中的離心泵。該離心泵可以包括：外殼，該外殼具有通過其抽吸流體的入口以及通過其排出流體的出口。外殼還可以包括與入口流體連通的蝸殼式渦旋件、與出口連通的膨脹室、將蝸殼式渦旋件與膨脹室流體連接的喉狀部以及將膨脹室與蝸殼式渦旋件流體連接的滲出孔。離心泵可以包括泵輪，該泵輪被構造為在蝸殼式渦旋件中旋轉，以通過喉狀部和膨脹室將流體從入口泵送到出口，其中膨脹室中的流體與膨脹室中的空氣分離并且通過滲出孔返回到蝸殼式渦旋件，從而起動離心泵。在一些實施方式中，喉狀部的截面面積與出口的截面面積的比率可以為約1.35至1.55。在相同的實施方式中或在不同的實施方式中，蝸殼式渦旋件的體積與出口的截面面積的比率可以為約175至195。利用這些特定比率，離心泵可以操作以在出口處提供足夠的壓力，同時在蝸殼式渦旋件處保持自吸流。在一些實施方式中，離心泵可以在本文所討論的馬達驅動組件的中間軸上被驅動。

7、本公開范圍內的表面清潔器可以包括流體分配系統，該流體分配系統能夠通過利用電控的離心泵和被構造為在預定流體壓力下打開的壓力閥來選擇低流量操作狀態或高流量操作狀態。例如，表面清潔器可以包括流體分配系統，該流體分配系統可操作用于將流體輸送到待清潔表面。流體分配系統可以包括流體供應部、電動馬達和離心泵，該離心泵被構造為由電動馬達驅動并且具有入口和出口。該入口可以與流體供應部流體連通。泵控制開關可以操作性地連接到離心泵。泵控制開關可以具有接通狀態和斷開狀態。當泵控制開關處于斷開狀態時，離心泵可以關閉，并且當泵控制開關處于接通狀態時，離心泵可以開啟。流體分配系統可以包括與出口流體連通的壓力閥。該壓力閥可以在處于小于預定流體壓力的流體壓力下具有第一流動面積，并且在處于大于或等于預定流體壓力的流體壓力下具有大于第一流動面積的第二流動面積。當離心泵關閉時，壓力閥處的流體壓力小于預定流體壓力，并且當離心泵開啟時，壓力閥處的流體壓力大于或等于預定流體壓力。當泵控制開關處于斷開狀態時，來自流體供應部的流體通過離心泵排出以到達壓力閥。

8、與本公開范圍內的表面清潔器一起使用的清洗系統可以包括托盤，清潔器的基座可以停靠在托盤中以清洗攪拌器，諸如刷輥。托盤可以被構造為易于使用，這使清潔流體的溢出或飛濺最小化。例如，一種用于清洗表面清潔器的攪拌器組件的清洗系統可以包括?？客斜P，該停靠托盤限定儲存器和填充槽，其中?？客斜P的壁將儲存器與填充槽分開。停靠托盤可以被構造為支撐表面清潔器的基座，其中包括在基座中的攪拌器組件設置在儲存器處。?？客斜P可以限定延伸穿過壁并將儲存器與填充槽連接的通道。?？客斜P可以被構造為使得注入填充槽中的流體通過通道流入儲存器中。因此，當基座?？吭谕斜P中時，使用者可以通過將清潔流體注入填充槽中來填充主儲存器。

9、在本公開范圍內的表面清潔器可以包括：基座，該基座被構造用于在待清潔表面上移動；以及脊式組件，該脊式組件操作性地連接到基座，用于在待清潔表面上引導基座；其中，脊式組件包括具有孔口的框架。表面清潔器還可以包括回收罐，該回收罐用于收集從基座中產生的混合空氣和液體流接收的液體。回收罐可以具有底壁以及從底壁向上延伸的多個側壁，底壁和多個側壁限定具有頂部開口的罐室。表面清潔器還可以包括蓋、手柄和彈簧偏置機構。回收罐、蓋、手柄和彈簧偏置機構可以被稱為回收罐組件。蓋可以能固定到回收罐以在頂部開口上方延伸。蓋可以具有帶有頂部窗口的頂壁和帶有側部窗口的側壁。手柄可以可樞轉地連接到蓋并且可在降低位置與提升位置之間樞轉。彈簧偏置安裝機構可以可操作以選擇性地將蓋固定到框架。彈簧偏置安裝機構可以包括主體，該主體具有向上延伸穿過頂部窗口并偏置到延伸位置的頂部突出部，以及側向延伸穿過側部窗口的側臂?；厥展蘅梢员粯嬙鞛楫斒直幱谔嵘恢脮r裝配到框架，其中蓋固定到回收罐，并且頂部突出部在框架的孔口中延伸。手柄可以在樞轉到降低位置時與側臂干涉，從而使側臂在側部窗口中向下移動，并且同時使頂部突出部向下移動穿過頂部窗口，以將頂部突出部從孔口抽出并且允許回收罐從框架移除。

10、在本公開范圍內的表面清潔器可以包括：基座，該基座被構造用于在待清潔表面上移動；以及用于分離工作空氣/液體流中的液體和空氣的空氣/液體分離系統。空氣/液體分離系統可以包括回收罐，該回收罐用于收集從在基座中產生的混合空氣和液體流中接收的液體?；厥展蘅梢跃哂械妆?、從底壁向上延伸的多個側壁，并限定具有頂部開口的罐室。空氣/液體分離系統還可以包括：蓋，該蓋可固定到回收罐以在頂部開口上方延伸；多個豎直壁，這些豎直壁設置在罐室內并且限定入口棧和出口棧；以及浮子，該浮子設置在罐室內，并且操作性地附接到蓋并且可相對于蓋豎直平移。底壁可以具有在入口棧的底部處的入口開口和在出口棧的底部處的出口開口，混合空氣和液體流通過該入口開口被引入，分離的空氣通過該出口開口從回收罐排出。蓋可以包括頂壁和底壁，頂壁與底壁之間具有蓋室。底壁可以具有第一蓋室開口和第二蓋室開口，第一蓋室開口與罐室選擇性地流體連通并且用作罐室空氣出口，第二蓋室開口在出口棧的入口處。浮子可以被構造為當罐室內的液體達到預定液位時關閉第一蓋室開口。蓋和所附接的浮子可作為一個單元從回收罐移除，當蓋和所附接的浮子被移除時，限定入口棧和出口棧的多個豎直壁保留在罐室中。

11、在本公開范圍內的表面清潔器可以包括基座，該基座被構造用于在待清潔表面上移動，并且可以包括流體分配系統，該流體分配系統可操作用于將流體輸送到待清潔表面。流體分配系統可以包括加熱器，該加熱器可操作用于產生蒸汽并且具有蒸汽出口。流體分配系統還可以包括：分配器，該分配器具有分配器出口，蒸汽通過該分配器出口分配到待清潔表面；以及導管路徑，蒸汽通過該導管路徑從蒸汽出口行進到分配器。導管路徑可以具有在加熱器的蒸汽出口處的導管入口和在分配器處的導管出口。當基座在使用位置擱置在待清潔表面上時，導管入口可以比導管出口設置在待清潔表面上方更遠。在這種構造中，例如，當加熱器和/或清潔器關閉時，蒸汽將不會在導管路徑內冷卻和匯集。