專(zhuān)利名稱(chēng)：防水膜的形成方法、防水膜、噴墨頭的噴嘴板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及形成防水膜的方法，尤其是涉及形成能夠適當(dāng)?shù)卦O(shè)置在噴墨頭的噴嘴板上的防水膜的方法。
背景技術(shù)：
在用于噴墨記錄裝置的噴墨頭中，當(dāng)油墨附著于噴嘴板表面時(shí)，從噴嘴噴射出的墨滴受到影響并且墨滴的噴射方向可能發(fā)生變化。當(dāng)油墨以這種方式附著吋，難以使墨滴沉積在記錄介質(zhì)上的預(yù)定位置處，這引起圖像質(zhì)量的劣化。因此，為了通過(guò)防止油墨附著于噴嘴板表面以改善噴射性能以及改善維護(hù)特性， 已經(jīng)提出了各種用于在噴嘴板表面上形成防水膜的方法。一種在噴嘴板表面上提供防水處理的方法是使用氟樹(shù)脂或含氟單分子膜的方法。 然而，如果使用單分子膜，則難以形成完全覆蓋噴嘴表面的膜，這是由于制造噴墨頭期間粒子變得與表面附著而導(dǎo)致的影響。另外，含氟單分子膜具有高電負(fù)性，因此難以高密度地排列相鄰的分子。換句話(huà)說(shuō)，單分子膜僅能以低密度形成并且難以實(shí)現(xiàn)充分的防水性能。另外，噴墨頭中的防水膜可由于維護(hù)(例如用橡膠刀片擦拭等)而剝落，這可能導(dǎo)致墨滴噴射方向的變化。因此，需要更牢固的防水膜。除了噴墨記錄裝置之外，在觸摸面板領(lǐng)域，(例如)使用與噴墨頭的膜基本上相同的膜作為防止因指印等引起的污損的膜。然而，在該領(lǐng)域中，對(duì)于總是在相同位置被觸摸的目標(biāo)設(shè)備(如自動(dòng)售票機(jī))，存在防污膜剝落并且防污特性下降的可能性。應(yīng)對(duì)于這類(lèi)問(wèn)題，日本專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)No. 2005-246707和日本專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi) No. 2010-30142描述了這樣ー種技木，其涉及涂布等離子聚合物硅氧烷膜(其是通過(guò)對(duì)諸如八甲基三硅氧烷等分子進(jìn)行熱蒸發(fā)，并且引入到等離子體中而進(jìn)行聚合)，所述膜被UV 或等離子體能量等活化以產(chǎn)生OH基，并且向該膜施加硅烷偶聯(lián)型氟材料以產(chǎn)生牢固的硅烷偶聯(lián)鍵。然而，日本專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)No. 2005-M6707和日本專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)No. 2010-30142中所述的具有熱蒸發(fā)器的等離子聚合裝置確實(shí)非常昂貴，因此可能存在下述情況在制造噴墨頭上的防水膜等時(shí)所涉及的成本變得太高。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于這些情況而提出本發(fā)明，其目的是提供ー種形成防水膜的方法，由該方法能夠廉價(jià)地制造防水膜，而不需要包括昂貴熱蒸發(fā)器的等離子聚合裝置。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的ー個(gè)方面涉及形成防水膜的方法，該方法包括薄膜形成步驟，其中使用在常溫和大氣壓下為氣體的原材料在基礎(chǔ)部件上形成薄膜，該薄膜主要具有Si-O鍵并且具有直接與硅結(jié)合的疏水性取代基；照射步驟，其中用激發(fā)光照射在所述薄膜形成步驟中獲得的薄膜，從而使得所述疏水性取代基保留并且所述薄膜中存在OH 基；以及施加步驟，其中將硅烷偶聯(lián)劑施加到所述照射步驟中獲得的薄膜上。如果使用在常溫和大氣壓下為氣體的原材料，有利的是，通過(guò)催化性CVD(cat-CVD)或通過(guò)等離子體CVD 進(jìn)行薄膜形成步驟。另外，為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的另ー個(gè)方面涉及形成防水膜的方法，該方法包括薄膜形成步驟，其中通過(guò)將薄膜施加到基礎(chǔ)部件上隨后進(jìn)行煅燒而在基礎(chǔ)部件上形成薄膜，所述薄膜主要具有Si-O鍵并且具有直接與硅結(jié)合的疏水性取代基；照射步驟，其中用激發(fā)光照射在所述薄膜形成步驟中獲得的所述薄膜，從而使得所述疏水性取代基保留并且薄膜中存在OH基；以及施加步驟，其中將硅烷偶聯(lián)劑施加到所述照射步驟中獲得的所述薄膜上。通過(guò)上述的形成防水膜的方法，可以提供這樣的形成防水膜的方法，由該方法能夠廉價(jià)地制造防水膜，而不需要包括昂貴熱蒸發(fā)器的等離子聚合裝置。由于借助熱蒸發(fā)器進(jìn)行熱蒸發(fā)的速度不穩(wěn)定，因此不需要熱蒸發(fā)的本發(fā)明的多個(gè)方面在膜形成的重復(fù)性方面也是有利的。另外，在這種防水膜中，OH基與硅烷偶聯(lián)性防水材料產(chǎn)生牢固的鍵，這歸因于保留有疏水性取代基的下面的硅氧烷膜，并且由于這些疏水性取代基賦予了耐油墨特性，因此與常規(guī)S^2材料相比也可以賦予耐油墨性。有利地，疏水性取代基是甲基。該基團(tuán)可以是具有苯環(huán)的疏水基團(tuán)，如烷基或苯基，但是如果該基團(tuán)是CH3,則可以容易且廉價(jià)地實(shí)施薄膜形成步驟。另外，有利地，用于形成上述薄膜的基礎(chǔ)部件的物質(zhì)(材料)是硅、玻璃、金屬、陶瓷和聚合物膜中的任一者。可以基于硅、玻璃、金屬、陶瓷和聚合物膜中的任一者來(lái)形成牢固并具有良好重復(fù)性的廉價(jià)防水膜。另外，激發(fā)光可以紫外光或等離子體。當(dāng)紫外光或等離子體作為激發(fā)光照射含有 Si-O鍵的薄膜時(shí)，產(chǎn)生Si-OH基。另外，上文所形成的防水膜可以適當(dāng)?shù)卦O(shè)置在噴墨頭的噴嘴板上。由于所述防水膜不會(huì)剝落并且可以防止油墨附著于噴嘴板表面，因此可以改善噴射性能。根據(jù)本發(fā)明的形成防水膜的方法、防水膜以及噴墨頭的噴嘴板，可以實(shí)現(xiàn)廉價(jià)的制造，而不需要具有昂貴熱蒸發(fā)器的等離子聚合裝置。


以下將參照附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案以及其他目的和優(yōu)點(diǎn)進(jìn)行解釋?zhuān)渲性谡麄€(gè)附圖中相似的參考符號(hào)表示相同或相似的部分，其中圖1是示出噴墨記錄裝置的全視圖的總體示意圖。圖2A和2B是示出噴墨頭的結(jié)構(gòu)的例子的平面透視圖；圖3是沿著圖2A中的線(xiàn)III-III的剖面圖；并且圖4是構(gòu)成涉及本發(fā)明實(shí)施方案的防水膜的分子化學(xué)結(jié)構(gòu)的示意圖。
具體實(shí)施例方式噴墨記錄裝置的總體組成首先，將噴嘴板和包括噴嘴板的噴墨記錄裝置作為防水膜的應(yīng)用例子進(jìn)行描述， 其中所述防水膜是由根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的制造防水膜的方法制造的。
圖1是噴墨記錄裝置的示意圖。該噴墨記錄裝置100是利用壓カ滾筒直接成像法的噴墨記錄裝置，其中所述的壓カ滾筒直接成像法通過(guò)從噴墨頭172M、172K、172C和172Y 將多種顏色的墨滴噴射到保持在成像単元116的壓カ滾筒(成像滾筒170)上的記錄介質(zhì) 124(為方便起見(jiàn)下文也稱(chēng)作“紙張”)上以形成期望的彩色圖像。噴墨記錄裝置100是使用雙液體反應(yīng)(凝集)方法的按需(on-demand)型圖像形成裝置，其中通過(guò)下列步驟在記錄介質(zhì)IM上形成圖像將處理液(此處為凝集處理液)沉積在記錄介質(zhì)IM上，隨后噴射墨滴并且使得處理液與油墨液一起反應(yīng)。如圖1中所示，該噴墨記錄裝置100主要包括供紙單元112、處理液沉積單元114、 成像単元116、干燥単元118、定影單元120和紙輸出單元122。供紙單元供紙單元112是用于將記錄介質(zhì)124供應(yīng)到處理液沉積單元114的機(jī)構(gòu)，并且記錄介質(zhì)124(其為裁切的平板紙)堆疊在供紙單元112中。供紙托盤(pán)150與供紙單元112 設(shè)置在一起，記錄介質(zhì)1 毎次一張從供紙托盤(pán)150供應(yīng)到處理液沉積單元114。處理液沉積單元處理液沉積單元114是使處理液沉積到記錄介質(zhì)IM的記錄表面上的機(jī)構(gòu)。處理液包含使得由成像単元116所沉積的油墨中的著色材料(在本實(shí)施方案中為顏料)凝集的著色材料凝集劑，并且由于處理液與油墨相互接觸從而促進(jìn)油墨中的著色材料與溶劑分如圖1中所示，處理液沉積單元114包括供紙滾筒152、處理液滾筒巧4和處理液施加裝置156。處理液滾筒巧4為支持記錄介質(zhì)IM并輸送該介質(zhì)從而轉(zhuǎn)動(dòng)的滾筒。處理液滾筒巧4包括設(shè)置在其外圓周面上的鉤形夾持裝置(夾具)155，并且被設(shè)計(jì)為使得可以通過(guò)在夾持裝置155的鉤與處理液滾筒巧4的圓周面之間夾持記錄介質(zhì)IM從而保持記錄介質(zhì)124的前端。處理液施加裝置156相對(duì)于處理液滾筒154的圓周面而設(shè)置在該滾筒的外部。處理液施加裝置156包括處理液容器，其貯存處理液；網(wǎng)紋輥，其部分地浸沒(méi)于處理液容器中的處理液內(nèi)；以及橡膠輥，其通過(guò)壓靠網(wǎng)紋輥和處理液滾筒巧4上的記錄介質(zhì)1 從而將定量的處理液轉(zhuǎn)移到記錄介質(zhì)124。根據(jù)該處理液施加裝置156，可以在對(duì)處理液定量的條件下將處理液施加到記錄介質(zhì)1 上。其上已經(jīng)通過(guò)處理液沉積單元114而沉積有處理液的記錄介質(zhì)IM通過(guò)中間傳送単元1 從處理液滾筒巧4轉(zhuǎn)移至成像単元116的成像滾筒170。成像單元成像単元116包括成像滾筒170 (第二傳送部件)、壓紙輥174和噴墨頭172M、 172K、172C和172Y。與處理液滾筒巧4類(lèi)似，成像滾筒170在該滾筒的外圓周面上也包括鉤形夾持裝置(夾具)171。保持在成像滾筒170上的記錄介質(zhì)IM在其記錄表面朝外側(cè)的情況下被傳送，并且油墨從噴墨頭172M、172K、172C和172Y沉積到該記錄表面上。有利地是，噴墨頭172M、172K、172C和172Y為其長(zhǎng)度與記錄介質(zhì)IM上成像區(qū)最大寬度對(duì)應(yīng)的整行型噴墨記錄頭(噴墨頭)。在每個(gè)噴墨頭的油墨噴射面中形成了貫穿成像區(qū)整個(gè)寬度而排列的噴射油墨用噴嘴的噴嘴列。噴墨頭172M、172K、172C和172Y均被設(shè)置為沿著與記錄介質(zhì)1 傳送方向(成像滾筒170的旋轉(zhuǎn)方向)垂直的方向延伸。
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當(dāng)相應(yīng)的著色油墨的液滴從噴墨頭172M、172K、172C和172Y向牢固地保持在成像滾筒170上的記錄介質(zhì)124的記錄表面上噴射吋，油墨與已經(jīng)通過(guò)處理液沉積單元114而事先沉積在該記錄表面上的處理液接觸，分散于油墨中的著色材料(顏料)發(fā)生凝集，由此形成著色材料凝集物。通過(guò)這種手段，防止了著色材料等在記錄介質(zhì)1 上的流動(dòng)，并且在記錄介質(zhì)124的記錄表面上形成圖像。其上已經(jīng)通過(guò)成像単元116而形成有圖像的記錄介質(zhì)IM借助中間傳送単元1 從成像滾筒170轉(zhuǎn)移到干燥単元118的干燥滾筒176。干燥單元干燥単元118為這樣一種機(jī)構(gòu)，其對(duì)因著色材料凝集作用而分離出的溶劑中所含的水量進(jìn)行干燥，并且如圖1中所示，其包括干燥滾筒176和溶劑干燥裝置178。與處理液滾筒巧4類(lèi)似，干燥滾筒176也包括設(shè)置在該滾筒外圓周面上的鉤形夾持裝置(夾具)177，其設(shè)置方式為使得記錄介質(zhì)124的前端能夠被夾持裝置177夾持。溶劑干燥裝置178設(shè)置在與干燥滾筒176的外圓周面相對(duì)的位置處，并且包括多個(gè)鹵素加熱器180和分別設(shè)置在鹵素加熱器180之間的熱空氣噴嘴182。其上已經(jīng)通過(guò)干燥単元118而實(shí)施了干燥過(guò)程的記錄介質(zhì)IM借助中間傳送単元 130從干燥滾筒176轉(zhuǎn)移到定影單元120的定影滾筒184。定影單元定影單元120包括定影滾筒184、鹵素加熱器186、定影輥188和在線(xiàn)傳感器190。 與處理液滾筒巧4類(lèi)似，定影滾筒184也包括設(shè)置在該滾筒外圓周面上的鉤形夾持裝置 (夾具)185，使得記錄介質(zhì)124的前端能夠被夾持裝置185夾持。通過(guò)定影滾筒184的轉(zhuǎn)動(dòng)，記錄介質(zhì)IM在其記錄表面朝外側(cè)的情況下被傳送，并且對(duì)于該記錄表面實(shí)施由鹵素加熱器186進(jìn)行的預(yù)加熱、由定影輥188進(jìn)行的定影過(guò)程和由在線(xiàn)傳感器190進(jìn)行的檢查。根據(jù)定影単元120，由干燥単元118所形成的薄圖像層中的熱塑性樹(shù)脂微粒被定影輥188加熱、加壓和熔融，因此可以將圖像層定影到記錄介質(zhì)124。另外，通過(guò)將定影滾筒 184的表面溫度設(shè)定為不低于50°C，通過(guò)從背面來(lái)加熱保持在定影滾筒184的外圓周面上的記錄介質(zhì)124以促進(jìn)干燥，從而可以防止圖像在定影期間破裂，另外，可以因圖像的升溫效應(yīng)而提高圖像的強(qiáng)度。另外，在油墨中包含紫外光固化性単體的情況下，當(dāng)水已經(jīng)在干燥単元中被充分蒸發(fā)掉之后，通過(guò)包括紫外照射燈的定影單元而用紫外光照射該圖像，從而將紫外光固化性単體固化并聚合，并且可以改善圖像的強(qiáng)度。紙輸出單元如圖1中所示，紙輸出単元122設(shè)置在定影單元120之后。紙輸出単元122包括輸出托盤(pán)192，并且在輸出托盤(pán)192和定影單元120的定影滾筒184之間設(shè)置轉(zhuǎn)移滾筒194、 傳送帶196和張緊輥198，使它們相対。記錄介質(zhì)IM借助于轉(zhuǎn)移滾筒194被送至傳送帶 196并且輸出到輸出托盤(pán)192。另外，雖然在圖1中未顯示，但是除了上述的組成之外，本實(shí)施方案的噴墨記錄裝置100還包括將油墨供應(yīng)到噴墨頭172M、172K、172C和172Y的油墨貯存和加載單元以及將處理液供應(yīng)到處理液沉積單元114的裝置，并且包括對(duì)噴墨頭172M、172K、172C和172Y實(shí)施清潔(噴嘴表面擦洗、沖洗、噴嘴抽吸等)的噴墨頭維護(hù)單元、確定記錄介質(zhì)1 在紙傳送路徑中的位置的位置確定傳感器、測(cè)定裝置各単元的溫度的溫度傳感器等。在圖1中描述了基于滾筒傳送系統(tǒng)的噴墨記錄裝置，但是本發(fā)明不限于此，還可以用于基于帶傳送系統(tǒng)的噴墨記錄裝置等中。噴墨頭的結(jié)構(gòu)接著描述噴墨頭172M、172K、172C和172Y的結(jié)構(gòu)。此處，各噴墨頭172M、172K、172C 和172Y具有相同的結(jié)構(gòu)，并且在下文中參考符號(hào)250表示任意的噴墨頭。圖2A是示出噴墨頭250的結(jié)構(gòu)例子的平面透視圖，并且圖2B是示出噴墨頭250 結(jié)構(gòu)的另ー個(gè)例子的平面透視圖。圖3是示出油墨槽單元的組成的剖面圖(沿著圖2A中線(xiàn)III-III的剖面圖)。為了在記錄紙表面上形成高密度的點(diǎn)距，需要在噴墨頭250中實(shí)現(xiàn)高密度的噴嘴間距。如圖2A所示，本實(shí)施方案的噴墨頭250具有這樣的結(jié)構(gòu)，其中多個(gè)油墨槽單元253 以交錯(cuò)矩陣格局(ニ維格局)排列，每個(gè)油墨槽單元253由作為墨滴噴射孔的噴嘴251和與噴嘴251對(duì)應(yīng)的壓カ槽252等構(gòu)成。因此，以被投影到噴墨頭長(zhǎng)度方向(與紙張傳送方向垂直的主要掃描方向)的排列上的有效噴嘴間距(即，投影噴嘴間距)來(lái)實(shí)現(xiàn)高密度。構(gòu)成ー個(gè)或多個(gè)噴嘴列的實(shí)施方案并不限于本實(shí)施例，其中所述的噴嘴列以與紙張傳送方向基本上垂直的方向覆蓋與記錄介質(zhì)124的完整寬度相對(duì)應(yīng)的長(zhǎng)度。例如，作為圖2A中的組成的替代形式，如圖2B中所示，可以通過(guò)以交錯(cuò)矩陣方式排列和組合短噴墨頭塊(噴墨頭芯片)250’來(lái)形成長(zhǎng)度與記錄介質(zhì)124的整個(gè)寬度相對(duì)應(yīng)的噴嘴列的線(xiàn)狀噴墨頭，其中所述的短噴墨頭塊均具有以ニ維方式排列的多個(gè)噴嘴251。另外，雖然在圖中未顯示，也可以通過(guò)使短噴墨頭排列成行而形成線(xiàn)狀噴墨頭。如圖3中所示，噴嘴251形成在噴嘴板沈0(其構(gòu)成噴墨頭250的油墨噴射表面 250a)中。噴嘴板260可以由硅材料(如Si、Si02、SiN或石英玻璃)、金屬材料(如Al、Fe、 NiXu或這些金屬材料的合金)、氧化物材料(如，氧化鋁或氧化鐵)、含碳材料(如碳黑或石墨)或樹(shù)脂材料(如聚酰亞胺)制成。針對(duì)油墨具有防水特性的防水膜沈2形成在噴嘴板260的表面(噴墨側(cè)表面)上， 從而防止油墨的附著。以基本上正方的平面形狀形成分別與噴嘴251對(duì)應(yīng)的壓カ槽252，并且在該平面形狀的對(duì)角線(xiàn)上相應(yīng)的角落部分設(shè)置噴嘴251和供給ロ 254。相應(yīng)的壓カ槽252經(jīng)供給ロ 254與共用流動(dòng)通道255連接。共用流動(dòng)通道255與形成油墨供應(yīng)源的供墨槽(圖中未顯示)連接，并且由供墨槽所供給的油墨經(jīng)共用流動(dòng)通道255而被分配到壓カ槽252。分別具有獨(dú)立電極257的壓電元件258與構(gòu)成壓カ槽252的頂面并且還充當(dāng)共用電極的隔膜256結(jié)合；并且通過(guò)給獨(dú)立電極257施加驅(qū)動(dòng)電壓而使壓電元件258變形，從而使得油墨從噴嘴251噴出。當(dāng)油墨噴出吋，新的油墨從共用流動(dòng)通道255經(jīng)供給ロ 2M而供應(yīng)到壓カ槽252。噴嘴的布局結(jié)構(gòu)不限于附圖中所示的例子，也可以使用多種其他類(lèi)型的噴嘴布局，如在次要掃描方向具有一個(gè)噴嘴列的布局結(jié)構(gòu)。另外，本發(fā)明不限于使用線(xiàn)型噴墨頭的打印方法，本發(fā)明也可以適用于其中通過(guò)使用短噴墨頭沿著紙張寬度方向進(jìn)行打印的序列法，其中所述的短噴墨頭比紙張寬度方向
7(主要掃描方向)上的長(zhǎng)度短并且在該寬度方向上執(zhí)行噴墨頭掃描動(dòng)作，在寬度方向上完成ー個(gè)打印動(dòng)作后，紙張沿著與該寬度方向垂直的方向(次要掃描方向)移動(dòng)預(yù)定的量，在下一個(gè)打印區(qū)域內(nèi)執(zhí)行在紙張寬度方向上的打印，并且通過(guò)重復(fù)該操作，在紙張的打印區(qū)的整個(gè)表面范圍內(nèi)執(zhí)行打印。制造防水膜的方法接著將解釋制造上述防水膜沈2的方法。形成防水膜的方法包括薄膜形成步驟，其中使用在常溫和大氣壓下為氣體的原材料在基礎(chǔ)部件上形成薄膜，該薄膜主要具有Si-O鍵并且具有直接與硅結(jié)合的疏水性取代基；照射步驟，其中用激發(fā)光照射在薄膜形成步驟中獲得的薄膜，使得所述疏水性取代基保留并且在所述薄膜中存在OH基；以及施加步驟，其中將硅烷偶聯(lián)劑施加到照射步驟中所獲得的薄膜上。優(yōu)選地，在這種情況下，在薄膜形成步驟中實(shí)施催化CVD或等離子體CVD。制造本實(shí)施方案涉及的防水膜的方法包括薄膜形成步驟，其中通過(guò)在基礎(chǔ)部件上施加薄膜隨后進(jìn)行煅燒從而在所述基礎(chǔ)部件上形成薄膜，該薄膜主要具有Si-O鍵并且具有直接與硅結(jié)合的疏水性取代基；照射步驟，其中用激發(fā)光照射在薄膜形成步驟中獲得的薄膜，使得所述疏水性取代基保留并且在所述薄膜中存在OH基；以及施加步驟，其中將硅烷偶聯(lián)劑施加到照射步驟中所獲得的薄膜上。通過(guò)上述的形成防水膜的方法，可以提供這樣ー種形成防水膜的方法，由該方法可以廉價(jià)地制造防水膜，而不需要包括昂貴熱蒸發(fā)器的等離子聚合裝置。由于借助熱蒸發(fā)器的熱蒸發(fā)速度不穩(wěn)定，因此不需要熱蒸發(fā)的本實(shí)施方案在膜形成的重復(fù)性方面也是有利的。另外，在這種防水膜中，通過(guò)使用保留疏水性取代基的下層硅氧烷膜，OH基與硅烷偶聯(lián)性防水材料產(chǎn)生牢固的結(jié)合，并且由于這些疏水性取代基賦予耐油墨特性，則與常規(guī) SiO2材料相比，可以增強(qiáng)耐油墨性。下文描述各步驟。薄膜形成步驟有利的是，用于形成上述薄膜的基礎(chǔ)部件的物質(zhì)(材料)是硅、玻璃、金屬、陶瓷和聚合物膜中的任一者。通過(guò)采用硅、玻璃、金屬、陶瓷和聚合物膜中的任一者，本發(fā)明能夠形成牢固并具有良好重復(fù)性的廉價(jià)防水膜。在基礎(chǔ)部件上，(1)使用在常溫和大氣壓下為氣體的原材料形成主要具有Si-O鍵并且具有直接與硅結(jié)合的疏水性取代基的薄膜，或者( 施加主要具有Si-O鍵并具有直接與硅結(jié)合的疏水性取代基的薄膜并且進(jìn)行煅燒。在上述(1)的情況下，例如，通過(guò)使用其中硅烷氣體(如單甲基硅烷、ニ甲基硅烷、 三甲基硅烷、四甲基硅烷等)被導(dǎo)入到等離子體中的等離子體CVD法或催化CVD法，可以在不需要熱蒸發(fā)器的裝置中制造具有Si-O骨架和Si-疏水性取代基鍵的薄膜。以這種方式， 通過(guò)使用氣體作為原材料而消除了諸多問(wèn)題(如熱蒸發(fā)器的極高成本和熱蒸發(fā)的不穩(wěn)定速度)，并且可以使得膜形成過(guò)程的成本降低及重復(fù)性改善。在常溫下為氣體的原材料是指可以在標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室中在無(wú)加熱機(jī)構(gòu)的條件下作為原材料提供的氣體(包括在25°C下蒸氣壓為1000 或更高的氣體)。另外，在上述O)的情況下，例如，可以通過(guò)下列方法制造比等離子聚合法更廉價(jià)的聚有機(jī)硅氧烷膜使用由下式表示的稱(chēng)作MSQ或有機(jī)SOG的甲基硅氧烷材料、或與這些材料具有相似結(jié)構(gòu)的材料(其包含Si-CH3鍵并以Si-O鍵作為主要組分，例如為市售可得的材料由Hitachi Chemical株式會(huì)社制造的HSG、由Honeywell International公司制造的HOSP或由ULVAC公司制造的ULKS Ver3)，并且在形成Si-O骨架和保留Si-疏水性取代
基鍵的條件下施加并煅燒該材料。
權(quán)利要求
1.ー種形成防水膜的方法，該方法包括薄膜形成步驟，其中使用在常溫和大氣壓下為氣體的原材料在基礎(chǔ)部件上形成薄膜， 該薄膜主要具有Si-O鍵并且具有直接與硅結(jié)合的疏水性取代基；照射步驟，其中用激發(fā)光照射在所述薄膜形成步驟中獲得的所述薄膜，使得所述疏水性取代基保留并且所述薄膜中存在OH基；和施加步驟，其中將硅烷偶聯(lián)劑施加到所述照射步驟中獲得的所述薄膜上。
2.權(quán)利要求1所述的形成防水膜的方法，其中在所述薄膜形成步驟中，進(jìn)行催化CVD或等離子體CVD。
3.ー種形成防水膜的方法，該方法包括薄膜形成步驟，其中通過(guò)將薄膜施加到基礎(chǔ)部件上隨后進(jìn)行煅燒從而在所述基礎(chǔ)部件上形成所述薄膜，該薄膜主要具有Si-O鍵并且具有直接與硅結(jié)合的疏水性取代基；照射步驟，其中用激發(fā)光照射在所述薄膜形成步驟中獲得的所述薄膜，使得所述疏水性取代基保留并且所述薄膜中存在OH基；和施加步驟，其中將硅烷偶聯(lián)劑施加到所述照射步驟中獲得的所述薄膜上。
4.權(quán)利要求1所述的形成防水膜的方法，其中所述疏水性取代基為甲基。
5.權(quán)利要求3所述的形成防水膜的方法，其中所述疏水性取代基為甲基。
6.權(quán)利要求1所述的形成防水膜的方法，其中所述基礎(chǔ)部件的材料為硅、玻璃、金屬、 陶瓷和聚合物膜中的任一者。
7.權(quán)利要求3所述的形成防水膜的方法，其中所述基礎(chǔ)部件的材料為硅、玻璃、金屬、 陶瓷和聚合物膜中的任一者。
8.權(quán)利要求1所述的形成防水膜的方法，其中所述激發(fā)光是紫外光或等離子體。
9.權(quán)利要求3所述的形成防水膜的方法，其中所述激發(fā)光是紫外光或等離子體。
10.ー種防水膜，其是通過(guò)權(quán)利要求1所述的形成防水膜的方法形成的。
11.ー種防水膜，其是通過(guò)權(quán)利要求3所述的形成防水膜的方法形成的。
12.—種噴墨頭的噴嘴板，其形成有權(quán)利要求10所述的防水膜。
13.—種噴墨頭的噴嘴板，其形成有權(quán)利要求11所述的防水膜。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種形成防水膜的方法，包括薄膜形成步驟，其使用在常溫和大氣壓下為氣體的原材料在基礎(chǔ)部件上形成薄膜，該薄膜主要具有Si-O鍵并且具有直接與硅結(jié)合的疏水性取代基；照射步驟，其中用激發(fā)光照射在所述薄膜形成步驟中獲得的所述薄膜，使得所述疏水性取代基保留并且所述薄膜中存在OH基；和施加步驟，其中將硅烷偶聯(lián)劑施加到所述照射步驟中獲得的所述薄膜上。該方法能夠廉價(jià)地制造防水膜，而不需要包括昂貴熱蒸發(fā)器的等離子聚合裝置。本發(fā)明還涉及由該方法形成的防水膜、以及形成有該防水膜的噴墨頭的噴嘴板。
文檔編號(hào)B32B9/04GK102555326SQ20111033098
公開(kāi)日2012年7月11日 申請(qǐng)日期2011年10月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月25日
發(fā)明者新川高見(jiàn) 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社