專利名稱：發(fā)生器、放射影像設(shè)備及其曝光控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及ー種放射影像設(shè)備，具體涉及該放射影像設(shè)備的曝光控制技木。
背景技術(shù)：
放射影像設(shè)備具有曝光劑量的要求，而通過曝光參數(shù)可以控制放射影像設(shè)備的曝光劑量。例如醫(yī)療領(lǐng)域常用的X線放射影像設(shè)備和CT設(shè)備，在放射攝影檢查中，其曝光參數(shù)包括四種KV(峰值電壓)，mA(管電流)，mS(曝光時間)，mAs(電流時間積)，其中mAs= mA*mS。高壓發(fā)生器對于曝光劑量的控制方式通常有兩種手動方式和自動方式。手動方式，即指預(yù)先設(shè)置好所有的曝光參數(shù)，發(fā)生器根據(jù)相應(yīng)的參數(shù)進行輸出。
自動方式(又稱AEC, Auto Expoure Control),是指預(yù)先設(shè)定KV, mA,以及mSmax值；實際曝光時間由電離室設(shè)備控制，電離室用于感應(yīng)照射的能量。對于放射影像設(shè)備，其電離室上具有若干個電離室野，如圖I所示，電離室10上具有三個電離室野11。電離室也可以具有四個或五個電離室野，電離室野的數(shù)量根據(jù)需要而定。臨床拍片時，人體的被攝部位擋住其中一個或幾個電離室野(根據(jù)拍攝的具體情況可選擇ー個或者更多的電離室野有效，即可選擇哪些電離室野用于檢測劑量)，當(dāng)電離室檢測到的累積劑量達到閾值時，發(fā)出終止信號給發(fā)生器，發(fā)生器終止曝光，從而控制了曝光劑量。傳統(tǒng)AEC控制方式的原理圖如圖2所示X線投射到電離室上后，電離室感應(yīng)并累積電壓，當(dāng)此電壓值達到預(yù)設(shè)的閾值電壓后，輸出曝光截止信號，發(fā)生器終止曝光。當(dāng)被遮擋電離室野的信號輸出到達閾值吋，說明該區(qū)域透過人體組織而剩下的X射線足夠，在這種劑量下，通常能獲得較好的圖像效果。但傳統(tǒng)的AEC控制方式存在如下缺陷若在實際拍攝時，電離室野遮擋不完全，則電離室部分或完全暴露在X射線中，電離室累積電壓會迅速達到飽和值，從而過早輸出曝光終止信號，所得到的圖像也難以達到應(yīng)有的效果，這種情況我們稱之為欠曝光。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的主要技術(shù)問題是，提供一種發(fā)生器、放射影像設(shè)備及其曝光控制方法，防止放射影像設(shè)備欠曝光。根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供ー種放射影像設(shè)備的曝光控制方法，包括放射影像設(shè)備的發(fā)生器接收電離室輸出的感應(yīng)電壓；在放射影像設(shè)備曝光過程中，發(fā)生器根據(jù)感應(yīng)電壓、預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)控制停止曝光。其中，所述發(fā)生器根據(jù)閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)控制停止曝光包括發(fā)生器不斷將實時感應(yīng)電壓和閾值電壓進行比較，當(dāng)感應(yīng)電壓大于或等于閾值電壓時輸出曝光截止信號；
發(fā)生器判斷實際曝光參數(shù)是否達到最小曝光控制參數(shù)，如果是則輸出第一控制信號;當(dāng)曝光截止信號和第一控制信號同時存在時，發(fā)生器控制停止曝光，否則發(fā)生器控制繼續(xù)曝光。在一實施例中，在曝光過程中，發(fā)生器不斷判斷實際曝光時間是否達到預(yù)先設(shè)置的最大曝光時間，若是，則發(fā)生器控制停止曝光，否則發(fā)生器控制繼續(xù)曝光。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種發(fā)生器，用于放射影像設(shè)備的曝光控制，所述發(fā)生器包括控制器和比較器，比較器ー輸入端耦合到電離室的輸出端，用于在放射影像設(shè)備曝光過程中接收電離室輸出的感應(yīng)電壓，另ー輸入端耦合到控制器，用于輸入閾值電壓，在曝光過程中不斷將實時感應(yīng)電壓和閾值電壓進行比較，井根據(jù)比較結(jié)果輸出曝光截止信號至控制器；所述控制器包括記錄單元，用于記錄預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參 數(shù)；第一判斷単元，用于在放射影像設(shè)備曝光過程中判斷實際曝光參數(shù)是否達到最小曝光控制參數(shù)，并根據(jù)判斷結(jié)果輸出第一控制信號；第一控制單元，用于接收曝光截止信號和第ー控制信號，在曝光截止信號和第一控制信號同時有效時輸出用于控制曝光停止的第二控制信號。本發(fā)明還提供ー種放射影像設(shè)備，包括上述的發(fā)生器、控制系統(tǒng)、用于發(fā)射射線的射線發(fā)射裝置和電離室，發(fā)生器分別與控制系統(tǒng)和射線發(fā)射裝置連接，所述發(fā)生器從所述控制系統(tǒng)獲取全部或部分曝光參數(shù)，根據(jù)曝光參數(shù)控制射線發(fā)射裝置曝光或停止曝光，電離室用于感應(yīng)曝光積累電壓并輸出感應(yīng)電壓至發(fā)生器。本發(fā)明除了根據(jù)感應(yīng)電壓達到閾值電壓來控制停止曝光外，還另外設(shè)置ー最小曝光控制參數(shù)，只有當(dāng)閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)都滿足時才控制停止曝光，在保證充分曝光的基礎(chǔ)上有效防止了欠曝光。


圖I為ー種電離室示意圖；圖2為ー種曝光控制流程圖；圖3為本發(fā)明一種實施例的原理方框圖；圖4為本發(fā)明一種實施例的曝光控制流程圖；圖5為本發(fā)明又一種實施例的原理方框圖；圖6為本發(fā)明又一種實施例的曝光控制流程圖。
具體實施例方式下面通過具體實施方式
結(jié)合附圖對本發(fā)明作進ー步詳細說明。為防止放射影像設(shè)備欠曝光，在本發(fā)明實施例中，除了根據(jù)感應(yīng)電壓達到閾值電壓來控制停止曝光外，還另外設(shè)置ー最小曝光控制參數(shù)，只有當(dāng)閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)都滿足時才控制停止曝光，這樣即使遇到異常，例如感應(yīng)電壓上升過快，但如果實際曝光量沒有達到最小曝光控制參數(shù)，仍然不停止曝光，從而可防止欠曝光。以下以放射影像設(shè)備是X線放射影像設(shè)備為例進行說明，但本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，當(dāng)放射影像設(shè)備是其他設(shè)備(例如CT機)時，也可以以同樣或變形的結(jié)構(gòu)和原理解決本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題。請參考圖3，在一種實施例中，放射影像設(shè)備包括控制系統(tǒng)(圖中未示出)、射線發(fā)射裝置(圖中未示出)、電離室10和發(fā)生器20，射線發(fā)射裝置用于發(fā)射射線，通常采用球管，電離室10用于感應(yīng)曝光、積累電壓并輸出感應(yīng)電壓，發(fā)生器20通常為高壓發(fā)生器，接收曝光參數(shù)，根據(jù)曝光參數(shù)控制球管發(fā)射X射線，X射線透過被測患者，余量被電離室10接收，電離室10將感應(yīng)到的X射線照射劑量轉(zhuǎn)換成電壓，電離室10感應(yīng)到的X射線照射劑量越多，轉(zhuǎn)換成的感應(yīng)電壓越高，該感應(yīng)電壓輸出到發(fā)生器20，發(fā)生器20根據(jù)感應(yīng)電壓和預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)來控制停止曝光。本實施例中，發(fā)生器20包括控制器22和比較器24，比較器24的一輸入端耦合到電離室10的輸出端，用于在放射影像設(shè)備曝光過程中接收電離室輸出的感應(yīng)電壓，當(dāng)感應(yīng)電壓較小時，可通過發(fā)生器中設(shè)置的放大器26進行放大后輸出到比較器24的ー輸入端。比較器24的另ー輸入端耦合到控制器22，用于輸入閾值電壓，在曝光過程中不斷將實時感應(yīng)電壓和閾值電壓進行比較，井根據(jù)比較結(jié)果輸出曝光截止信號a至控制器22。控制器22包括記錄單元221、第一判斷単元222和第一控制單元223。記錄單元221用于記錄預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)，當(dāng)然也可以記錄其它曝光參數(shù)，例如從控制系統(tǒng)接收的ー些曝光參數(shù)，記錄單元221可以是任何一個存儲単元，控制器22從記錄単元221中讀取閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)，將閾值電壓輸出到比較器24的輸入端。第一判斷単元222用于在放射影像設(shè)備曝光過程中判斷實際曝光參數(shù)是否達到最小曝光控制參數(shù)，并根據(jù)判斷結(jié)果輸出第一控制信號b。第一控制單兀223接收曝光截止信號a和第一控制信號b,在曝光截止信號a和第一控制信號b同時有效時輸出用于控制曝光停止的第二控制信號Co本實施例中，最小曝光控制參數(shù)為最小曝光時間，實際曝光參數(shù)為實際曝光時間，所述第一判斷単元222判斷實際曝光時間是否達到最小曝光時間，當(dāng)實際曝光時間大于或等于最小曝光時間時輸出第一控制信號b。在一具體實例中，第一判斷単元222為第一計時器，第一控制單元223包括邏輯與電路，第一計時器耦合到邏輯與電路，最小曝光時間為計時器的溢出值，當(dāng)曝光開始時，控制器22控制第一計時器開始計吋，當(dāng)?shù)谝挥嫊r器溢出時輸出第一控制信號(電平信號)b至邏輯與電路，邏輯與電路的另ー輸入端還耦合到比較器24的輸出端，當(dāng)?shù)谝挥嫊r器的溢出值和比較器24輸出的曝光截止信號a和第一控制信號b同時有效時，例如同時為高電平時，邏輯與電路的輸出端變換電平狀態(tài)，輸出用于控制曝光停止的第二控制信號C。本實施例中，第二控制信號c可直接控制球管停止曝光。 在另一具體實例中，第一判斷単元222還可以是ー比較器，其一端輸入實際曝光時間，另一端輸入最小曝光時間，當(dāng)實際曝光時間大于或等于最小曝光時間時比較器狀態(tài)翻轉(zhuǎn)，輸出第一控制信號b。記錄單元221、第一判斷単元222和第一控制單元223屬于數(shù)字部分，基于器件設(shè)計的要求，記錄單元221、第一判斷単元222和第一控制單元223中的兩者或三者可以集成到一個芯片中，例如將實現(xiàn)三者的功能都集成到控制器22的芯片中。閾值電壓可設(shè)置若干個，根據(jù)感應(yīng)電壓的大小選擇不同的檔位，通過檔位調(diào)節(jié)器28設(shè)定檔位，然后將調(diào)節(jié)檔位后的閾值電壓輸出到比較器24的輸入端。請參考圖4，圖4為圖3所示放射影像設(shè)備為控制曝光的流程圖，包括以下步驟步驟S41，高壓發(fā)生器獲取AEC曝光參數(shù)，本實施例中，曝光參數(shù)包括但不限于峰值電壓、管電流和最小曝光控制參數(shù)(例如最小曝光時間)，其中，峰值電壓、管電流通常由外部控制系統(tǒng)傳送，最小曝光控制參數(shù)的產(chǎn)生方法可有多種方法，例如根據(jù)外部控制系統(tǒng)傳送的管電流和最小電流時間積HlAs0llin)而由發(fā)生器計算出最小曝光時間HlSnlin，發(fā)生器內(nèi)部自己定義最小曝光時間mSmin參數(shù),或直接由外部控制系統(tǒng)傳送最小曝光時間mSmin至發(fā)生器。步驟S42，高壓發(fā)生器產(chǎn)生高壓并經(jīng)由球管發(fā)出X射線，之后高壓發(fā)生器根據(jù)曝光參數(shù)控制射線發(fā)射裝置(例如球管)進行曝光(即發(fā)射X射線)或停止曝光。步驟S43，電離室接收X射線后，轉(zhuǎn)換成電壓，并將感應(yīng)電壓輸出到發(fā)生器。步驟S44，發(fā)生器的比較器24接收感應(yīng)電壓，將感應(yīng)電壓和閾值電壓進行比較，當(dāng)感應(yīng)電壓大于或等于閾值電壓時，輸出曝光截止信號a，執(zhí)行步驟S45，否則不輸出曝光截止信號a，繼續(xù)接收感應(yīng)電壓。
步驟S45，當(dāng)檢測到曝光截止信號a時，發(fā)生器的控制器判斷曝光時間是否達到最小曝光時間mSmin，若是，則執(zhí)行步驟S46，如果否，則控制曝光持續(xù)，直到達到最小曝光時間mSx為止。步驟S46，控制器發(fā)出控制終止曝光信號。步驟S47，發(fā)生器終止曝光。在處理步驟中，步驟S45的執(zhí)行也可以不依賴于檢測到曝光截止信號a，即沒有檢測到曝光截止信號a也不斷判斷曝光時間是否達到最小曝光時間HiSmin，若是，則控制終止曝光；如果否，則控制曝光持續(xù)。另外，步驟S44和步驟S45的順序也可以根據(jù)需求進行互換。上述實施例中，最小曝光控制參數(shù)還可以是最小曝光劑量，采用合適的測試儀測試曝光劑量，或?qū)崟r曝光時間乘以管電流得到曝光劑量，將實時曝光劑量輸出給第一判斷単元222，第一判斷単元222將實時曝光劑量和最小曝光劑量進行比較，當(dāng)實時曝光劑量大于或等于最小曝光劑量時，輸出第一控制信號b。上述實施例中，通過對最小曝光控制參數(shù)的合理設(shè)置，使得當(dāng)感應(yīng)電壓正常上升的情況下，控制器根據(jù)感應(yīng)電壓達到閾值電壓控制停止曝光，因為這種情況下都會滿足實際曝光參數(shù)達到最小曝光控制參數(shù)的要求，從而保證足夠的曝光劑量。當(dāng)感應(yīng)電壓上升過快的情況下，控制器根據(jù)實際曝光參數(shù)達到最小曝光控制參數(shù)來控制停止曝光，因為這種情況下都會滿足感應(yīng)電壓達到閾值電壓的要求，從而可防止欠曝光。但在有些情況下，例如電離室異常或接收沒對準(zhǔn)，使得感應(yīng)電壓很久上升不到閾值電壓，如果仍然根據(jù)閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)來控制停止曝光，則容易曝光過度，可能對被測患者造成傷害，為防止過曝光，在又一實施例中，増加防過曝光的技木。請參考圖5，在又一實施例中，與上述實施例不同的是，根據(jù)經(jīng)驗或需要在發(fā)生器的記錄單元存儲最大曝光時間，發(fā)生器還包括第二判斷単元224和第二控制單元225，第二判斷単元224用于在曝光過程中將實際曝光時間和預(yù)先設(shè)置的最大曝光時間進行比較，當(dāng)實際曝光時間達到最大曝光時間輸出第三控制信號d。所述第二控制單元225的輸入端分別耦合到第一控制單元223和第二判斷單元224的輸出端，響應(yīng)第二控制信號c和第三控制信號山當(dāng)?shù)诙刂菩盘朿和第三控制信號d中的任一有效時則控制停止曝光，否則控制繼續(xù)曝光。
在一具體實例中，第二判斷單元224為第二計時器，第二控制單元225包括邏輯或電路，邏輯與電路221的輸出端和第二計時器224的輸出端分別耦合到邏輯或電路225的兩個輸入端。最大曝光時間為計時器的溢出值，當(dāng)曝光開始吋，控制器22控制第二計時器開始計時，當(dāng)?shù)诙嫊r器溢出時輸出第三控制信號(電平信號)d至邏輯或電路225，邏輯或電路225將第二控制信號c和第三控制信號d進行或運算后輸出用于控制曝光停止的第四控制信號e。第四控制信號e可直接控制球管停止曝光。請參考圖6，圖6為圖5所示放射影像設(shè)備為控制曝光的流程圖，包括以下步驟步驟S61，高壓發(fā)生器獲取AEC曝光參數(shù)，本實施例中，曝光參數(shù)包括但不限于峰值電壓、管電流、最大曝光時間mSmax和最小曝光控制參數(shù)(例如最小曝光時間mSmin),高壓發(fā)生器獲取AEC曝光參數(shù)的方式可以是以下任意ー種a,外部控制系統(tǒng)傳遞峰值電壓kV、管電流mA、最小曝光時間mSmin、最大曝光時間mSfflax參數(shù)給發(fā)生器； b,外部控制系統(tǒng)傳遞峰值電壓kV、管電流mA、最小電流時間積mAs(min)、最大電流時間積mAs(niax)參數(shù)給發(fā)生器，發(fā)生器內(nèi)部計算出最大曝光時間mSx參數(shù)和最小曝光時間
mSmin ；c，外部控制系統(tǒng)傳遞峰值電壓kV、管電流mA、最小曝光時間HiSmin參數(shù)給發(fā)生器，發(fā)生器內(nèi)部自己定義最大曝光時間HlSmax參數(shù)；d,外部控制系統(tǒng)傳遞峰值電壓kV、管電流mA、最小電流時間積mAs(min)參數(shù)給發(fā)生器，發(fā)生器內(nèi)部自己定義最大曝光時間HlSmax參數(shù)。步驟S62，高壓發(fā)生器產(chǎn)生高壓并經(jīng)由球管發(fā)出X射線，之后高壓發(fā)生器根據(jù)曝光參數(shù)控制球管的X射線發(fā)射。步驟S63，電離室接收X射線后，轉(zhuǎn)換成電壓，并將感應(yīng)電壓輸出到發(fā)生器。步驟S64，當(dāng)檢測到曝光截止信號a吋，發(fā)生器的控制器判斷曝光時間是否達到最小曝光時間mSmin，若是，則執(zhí)行步驟S65 ;如果否，則控制曝光持續(xù)，直到達到最小曝光時間HlSmin 為止。步驟S65，發(fā)生器的比較器24接收感應(yīng)電壓，將感應(yīng)電壓和閾值電壓進行比較，當(dāng)感應(yīng)電壓大于或等于閾值電壓時，輸出曝光截止信號a，執(zhí)行步驟S66，當(dāng)感應(yīng)電壓小于閾值電壓時比較器24不輸出曝光截止信號a，繼續(xù)接收感應(yīng)電壓。步驟S66，控制器發(fā)出控制終止曝光信號。步驟S67，發(fā)生器終止曝光。步驟S68，當(dāng)曝光開始吋，控制器即開始實際檢測曝光時間，當(dāng)檢測到實際曝光時間已達到最大曝光時間mS_吋，則無論是否控制器有停止曝光的控制信號給出，都強制終止曝光。本實施例中，通過對最大曝光時間的合理設(shè)置，使得當(dāng)感應(yīng)電壓很長時間無法達到閾值電壓的情況下，控制器根據(jù)實際曝光時間達到最大曝光時間來強制控制停止曝光，從而可防止因曝光過度對被測患者造成的傷害。本實施例除了控制曝光的最長時間之外，還控制了曝光的最短時間。系統(tǒng)除了給發(fā)生器傳遞kV，mA參數(shù)之外，另指定兩個曝光截止時間參數(shù)，即最大曝光時間mS_參數(shù)和最小曝光時間HiSmin參數(shù)，HiSmin參數(shù)限制了 AEC曝光的最短時間，HiSmax參數(shù)限制了 AEC曝光的最長時間。在AEC曝光控制方式下，確保曝光時間介于OiiSn^mSniax)之間，從而有效防止欠曝光和過曝光現(xiàn)象的出現(xiàn)。以上內(nèi)容是結(jié)合具體的實施方式對本發(fā)明所作的進ー步詳細說明，不能認定本發(fā)明的具體實施只局限于這些說明。對于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫 離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明的保護范圍。
權(quán)利要求
1.ー種放射影像設(shè)備的曝光控制方法，其特征在于包括 放射影像設(shè)備的發(fā)生器接收電離室輸出的感應(yīng)電壓； 在放射影像設(shè)備曝光過程中，發(fā)生器根據(jù)感應(yīng)電壓、預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)控制停止曝光。
2.如權(quán)利要求I所述方法，其特征在于，所述發(fā)生器根據(jù)閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)控制停止曝光包括 發(fā)生器不斷將實時感應(yīng)電壓和閾值電壓進行比較，當(dāng)感應(yīng)電壓大于或等于閾值電壓時輸出曝光截止信號； 發(fā)生器判斷實際曝光參數(shù)是否達到最小曝光控制參數(shù)，如果是則輸出第一控制信號；當(dāng)曝光截止信號和第一控制信號同時存在時，發(fā)生器控制停止曝光，否則發(fā)生器控制繼續(xù)曝光。
3.如權(quán)利要求2所述方法，其特征在于，所述最小曝光控制參數(shù)為最小曝光時間，實際曝光參數(shù)為實際曝光時間，在所述發(fā)生器判斷實際曝光參數(shù)是否達到最小曝光控制參數(shù)步驟中，發(fā)生器將實際曝光時間和最小曝光時間進行比較，當(dāng)實際曝光時間大于或等于最小曝光時間時輸出第一控制信號。
4.如權(quán)利要求I至3中任一項所述的方法，其特征在于，還包括 在曝光過程中，發(fā)生器不斷判斷實際曝光時間是否達到預(yù)先設(shè)置的最大曝光時間； 若是，則發(fā)生器控制停止曝光，否則發(fā)生器控制繼續(xù)曝光。
5.一種發(fā)生器，用于放射影像設(shè)備的曝光控制，其特征在于，所述發(fā)生器包括 控制器； 比較器，其ー輸入端耦合到電離室的輸出端，用于在放射影像設(shè)備曝光過程中接收電離室輸出的感應(yīng)電壓，另ー輸入端耦合到控制器，用于輸入閾值電壓，在曝光過程中不斷將實時感應(yīng)電壓和閾值電壓進行比較，并根據(jù)比較結(jié)果輸出曝光截止信號至控制器； 所述控制器包括 記錄單元，用于記錄預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)； 第一判斷単元，用于在放射影像設(shè)備曝光過程中判斷實際曝光參數(shù)是否達到最小曝光控制參數(shù)，并根據(jù)判斷結(jié)果輸出第一控制信號； 第一控制單元，用于接收曝光截止信號和第一控制信號，在曝光截止信號和第一控制信號同時有效時輸出用于控制曝光停止的第二控制信號。
6.如權(quán)利要求5所述的發(fā)生器，其特征在于，所述最小曝光控制參數(shù)為最小曝光時間，實際曝光參數(shù)為實際曝光時間，所述第一判斷単元判斷實際曝光時間是否達到最小曝光時間，當(dāng)實際曝光時間大于或等于最小曝光時間時輸出第一控制信號。
7.如權(quán)利要求5或6所述的發(fā)生器，其特征在于，所述記錄單元還用于記錄預(yù)先設(shè)置的最大曝光時間，所述控制器還包括 第二判斷単元，其用于在曝光過程中將實際曝光時間和最大曝光時間進行比較，當(dāng)實際曝光時間達到最大曝光時間輸出第三控制信號； 第二控制單元，用于響應(yīng)第二控制信號和第三控制信號，當(dāng)?shù)诙刂菩盘柡偷谌刂菩盘栔械娜我挥行r控制停止曝光，否則控制繼續(xù)曝光。
8.ー種放射影像設(shè)備，其特征在于包括控制系統(tǒng)； 射線發(fā)射裝置，用于發(fā)射射線； 如權(quán)5至7中任一項所述的發(fā)生器，所述發(fā)生器分別與控制系統(tǒng)和射線發(fā)射裝置連接，所述發(fā)生器從所述控制系統(tǒng)獲取全部或部分曝光參數(shù)，根據(jù)曝光參數(shù)控制射線發(fā)射裝置曝光或停止曝光； 電離室，用于感應(yīng)曝光、積累電壓并輸出感應(yīng)電壓至發(fā)生器。
9.如權(quán)利要求8所述的放射影像設(shè)備，其特征在于，所述放射影像設(shè)備為X線放射影像設(shè)備。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種發(fā)生器、放射影像設(shè)備及其曝光控制方法，放射影像設(shè)備設(shè)置有閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)，在放射影像設(shè)備曝光過程中，放射影像設(shè)備的發(fā)生器接收電離室輸出的感應(yīng)電壓，發(fā)生器根據(jù)感應(yīng)電壓、預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)控制停止曝光，當(dāng)閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)都滿足時才停止曝光，在保證充分曝光的基礎(chǔ)上有效防止了欠曝光。
文檔編號G03B42/02GK102866558SQ201110186800
公開日2013年1月9日 申請日期2011年7月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月5日
發(fā)明者劉兵全, 熊賢志, 何建強, 張繼曄, 曾敏, 張贊超, 倪丕詳 申請人:深圳邁瑞生物醫(yī)療電子股份有限公司