專利名稱：一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法
技術領域：
本發明涉及微電子領域光刻技術，尤其涉及一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法。
背景技術：
由于尼康光刻機的設計特殊性，預對準需要選擇和切割道平行的特殊圖形，但由于各種產品的設計要求，會出現產品的設計圖形干擾對準圖形的信號，使得光刻機的預對準出現偏差。圖1是尼康標準對準圖形示意圖，如圖所示，若干條光刻圖形對準標記1與切割帶0的方向平行。目前業界普遍使用改變對準圖形的線寬來避開產品圖形的干擾，這樣做的情況就是不同的產品可能需要不同的定義，不過使用情況也不理想，出現偏差的幾率還是很高。

發明內容
針對上述存在的問題，本發明的目的是提供一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法，通過在光刻時改變對準圖形的擺放方向來實現減少光刻機對準偏差。本發明的目的是通過下述技術方案實現的
一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法，提供光刻圖形對準標記，光刻圖形對準標記位于對準圖形中部第一保護帶內，對準圖形保護帶位于切割帶內，切割帶兩側分別分布有第二保護帶和分隔帶，光刻圖形對準標記為若干相互平行的矩形條，其中，所述若干相互平行的矩形條垂直于所述切割帶方向地在所述對準圖形中部第一保護帶內依次進行排布。上述光刻圖形對準標記方法，其中，所述若干相互平行的矩形條為3條。上述光刻圖形對準標記方法，其中，所述第一保護帶為矩形，所述光刻圖形對準標記的長度與所述第一保護帶的寬度相同。上述光刻圖形對準標記方法，其中，所述第一保護帶的長度為240微米。上述光刻圖形對準標記方法，其中，所述第一保護帶的寬度為60微米。上述光刻圖形對準標記方法，其中，所述第二保護帶緊鄰所述切割帶。與已有技術相比，本發明的有益效果在于
1、在現有光刻機的設計精度下，縮短圖形的寬度，把信號掃描方向的其它干擾圖形去除掉，這樣就減少了干擾信號避免了對準偏差；
2、所有的產品都可以使用這個圖形。


圖1是現有技術中光刻機對準過程中的光刻圖形的結構示意圖2是本發明減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法的光刻圖形的結構示意
圖；圖3a、圖北分別是采用標準對準圖形和采用本發明對準標記圖形以后的對準圖形信號圖4是采用每批產品使用標準圖形和本發明對準標記圖形以后的對準和生產時間示意圖。
具體實施例方式下面結合原理圖和具體操作實施例對本發明作進一步說明。如圖2所示，本發明減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法提供光刻圖形對準標記1，光刻圖形對準標記1位于對準圖形中部第一保護帶2內，對準圖形保護帶2位于切割帶0內，切割帶0兩側分別分布有第二保護帶3和分隔帶4。光刻圖形對準標記1為若干相互平行的矩形條，矩形條垂直于切割帶0方向地在對準圖形中部第一保護帶2內依次進行排布。與現有技術相比，其實就是在設計圖形時把原來標準的圖形旋轉90度，然后縮短圖形的寬度即可。具體地，若干相互平行的矩形條1為3條。第一保護帶2為矩形，光刻圖形對準標記1的長度與第一保護帶2的寬度相同。第一保護帶2的長度為240微米，寬度為60微米， 且第二保護帶3緊鄰切割帶0。采用本發明的光刻對準圖形以后，參看圖3a和圖北所示，通過對比可見，新型對準圖形的信號波谷比較清晰，這樣光刻機的對準定位就比較準確；參看圖4所示，從光刻機跑每批產品需要的時間可以表明使用新型對準圖形可以大大降低對準偏移的發生次數，從而避免了重復對準造成的時間浪費，并最終減少了整批產品的生產時間。以上對本發明的具體實施例進行了詳細描述，但本發明并不限制于以上描述的具體實施例，其只是作為范例。對于本領域技術人員而言，任何對該光刻圖形對準標記方法進行的等同修改和替代也都在本發明的范疇之中。因此，在不脫離本發明的精神和范圍下所作出的均等變換和修改，都應涵蓋在本發明的范圍內。
權利要求
1.一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法，提供光刻圖形對準標記，光刻圖形對準標記位于對準圖形中部第一保護帶內，對準圖形保護帶位于切割帶內，切割帶兩側分別分布有第二保護帶和分隔帶，光刻圖形對準標記為若干相互平行的矩形條，其特征在于，所述若干相互平行的矩形條垂直于所述切割帶方向地在所述對準圖形中部第一保護帶內依次進行排布。
2.根據權利要求1所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述若干相互平行的矩形條為3條。
3.根據權利要求1所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述第一保護帶為矩形，所述光刻圖形對準標記的長度與所述第一保護帶的寬度相同。
4.根據權利要求3中任意一項所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述第一保護帶的長度為240微米。
5.根據權利要求3中任意一項所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述第一保護帶的寬度為60微米。
6.根據權利要求1所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述第二保護帶緊鄰所述切割帶。
全文摘要
本發明公開了一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法，提供光刻圖形對準標記，光刻圖形對準標記位于對準圖形中部第一保護帶內，對準圖形保護帶位于切割帶內，切割帶兩側分別分布有第二保護帶和分隔帶，光刻圖形對準標記為若干相互平行的矩形條，其中，所述若干相互平行的矩形條垂直于所述切割帶方向地在所述對準圖形中部第一保護帶內依次進行排布。與已有技術相比，本發明的有益效果在于1、在現有光刻機的設計精度下，縮短圖形的寬度，把信號掃描方向的其它干擾圖形去除掉，這樣就減少了干擾信號避免了對準偏差；2、所有的產品都可以使用這個圖形。
文檔編號G03F7/20GK102445865SQ201110349890
公開日2012年5月9日 申請日期2011年11月8日 優先權日2011年11月8日
發明者馬蘭濤 申請人:上海華力微電子有限公司