本發明涉及在基板彼此之間的空間配置有光調節部的光調節裝置、光調節裝置的基板間距離測定方法。

背景技術：

具有攝像功能的攝像設備在各種領域中被廣泛地使用，但其中有形狀比較小的小型攝像設備的領域。作為該小型攝像設備的幾個例子，列舉出包含顯微視頻內窺鏡的電子內窺鏡、具備攝像功能的光學顯微鏡、具備攝像功能的便攜設備等。

以往的小型攝像設備，為了優先實現小型化，采用固定焦點透鏡、固定孔徑光闌、固定特性濾光器等，作為透鏡、光圈、光學濾光器等光學要素。

相對于此，近年來，在該小型攝像設備中也要求高畫質化，采用聚焦透鏡、可變光圈、可變特性濾光器等作為上述的光調節裝置的光學要素的要求、即作為進行光的調節的光調節裝置發揮功能的要求提高。

因此，提出了很多謀求光調節裝置的小型化的技術以便能夠適用于小型攝像設備。

作為一例，在例如日本國特開平10－20360號公報中，記載了在上蓋與下蓋之間配置線圈體并使通過由此線圈體產生的磁場被極化為二極的轉子旋轉的構成。在此轉子上通過旋轉軸以一體轉動的方式安裝有光圈葉片部件，轉子旋轉，從而光圈葉片部件在光軸上出入，進行入射光的調節。

在為如上述日本國特開平10－20360號公報所記載那樣的、以葉片部件被2枚基板所夾的狀態進行旋轉動作的構成的情況下，在2枚基板間構成的空間的間隔的精度對于進行順暢的旋轉動作是重要的。然而，在該公報所記載的構成中，在組裝成裝置后，不能短時間且高精度地測定葉片部件動作的空間的間隔，不能容易地確認必要的精度的空間是否得以確保。

技術實現要素：

本發明是有鑒于上述情況而做出的，目的在于，提供在組裝成光調節裝置后，能夠以短時間、高精度地測定基板間的距離的光調節裝置、光調節裝置的基板間距離測定方法。

用于解決課題的手段

本發明的某方式的光調節裝置，具備：第1基板；第2基板，配設為基板面與所述第1基板的基板面對置；間隔件，將所述第1基板與所述第2基板隔開，以在對置的所述基板面彼此之間構成空間；光調節部，以能夠移動的方式配置于所述空間，用于調節光；及被測定部，被設置為，使為了測定所述空間的間隔而從與該基板面垂直的測定方向照射的測定光在該測定方向上通過所述第1基板與所述第2基板中的一方并到達另一方。

本發明的某方式的光調節裝置的基板間距離測定方法，該光調節裝置具備：第1基板；第2基板，配設為基板面與所述第1基板的基板面對置；間隔件，將所述第1基板與所述第2基板隔開，以在對置的所述基板面彼此之間構成空間；光調節部，以能夠移動的方式配置于所述空間，用于調節光；及被測定部，被設置為，使為了測定所述空間的間隔而從與該基板面垂直的測定方向照射的測定光在該測定方向上通過所述第1基板與所述第2基板中的一方并到達另一方，所述被測定部具有用于測定從所述第1基板側到所述間隔件的距離的第1被測定部、及用于測定從所述第1基板側到所述第2基板的距離的第2被測定部，該光調節裝置的基板間距離測定方法具有：通過經由所述第1被測定部照射測定光來測定距所述間隔件的距離的步驟；通過經由所述第2被測定部照射測定光來測定距所述第2基板的距離的步驟；及通過從距所述第2基板的距離減去距所述間隔件的距離來取得所述空間的間隔的步驟。

附圖說明

圖1是將本發明的實施方式1中的光調節裝置的基本的構成在光軸方向上拉開表示的分解立體圖。

圖2是表示上述實施方式1中的光調節裝置的基本的構成的立體圖。

圖3是表示在上述實施方式1中的光調節裝置的第1基板與第2基板之間構成的空間的樣子的剖視圖。

圖4是將上述實施方式1中的光調節裝置的具體的構成在光軸方向上拉開表示的分解立體圖。

圖5是表示上述實施方式1中的光調節裝置的具體的構成的立體圖。

圖6是用于說明上述實施方式1中的光調節裝置的掃描方向的剖視圖。

圖7是表示對上述實施方式1的光調節裝置進行掃描得到的輸出波形的線圖。

圖8是表示上述實施方式1中的光調節裝置的基板間距離測定方法的流程圖。

圖9是用于說明上述實施方式1中的光調節裝置的第1變形例的剖視圖。

圖10是用于說明上述實施方式1中的光調節裝置的第2變形例的剖視圖。

圖11是表示本發明的實施方式2中的光調節裝置的構成的立體圖。

圖12是表示本發明的實施方式3中的光調節裝置的構成的立體圖。

圖13是表示上述實施方式3的光調節裝置中的第1基板、第2基板及間隔件的圖12的13－13剖視圖。

圖14是表示本發明的實施方式4的光調節裝置中的第1基板、第2基板及間隔件的剖視圖。

圖15是表示與上述各實施方式關聯的參考例1的光調節裝置中的第1基板、第2基板及間隔件的剖視圖。

圖16是表示與上述各實施方式關聯的參考例2的光調節裝置中的第1基板、第2基板及間隔件的剖視圖。

圖17是表示與上述各實施方式關聯的參考例3的光調節裝置中的第1基板、第2基板及間隔件的剖視圖。

具體實施方式

以下，參照附圖對本發明的實施的方式進行說明。

[實施方式1]

圖1至圖10表示本發明的實施方式1。

首先，參照圖1～圖3，對光調節裝置的基本的構成進行說明。這里，圖1是將光調節裝置的基本的構成在光軸方向上拉開表示的分解立體圖，圖2是表示光調節裝置的基本的構成的立體圖，圖3是表示在光調節裝置的第1基板與第2基板之間構成的空間的樣子的剖視圖。

光調節裝置是用于調節光的裝置，就這里所說的調節而言，列舉出基于光圈的光量調節及光瞳調節、基于ND濾光器的光量調節、基于透鏡的聚光調節、基于偏振光濾光器的偏振光調節、基于濾色器的波段調節、基于快門的通過時間調節、或者它們的組合等作為幾個例子，但并不限定于此，只要是光學的調節，就能夠廣泛適用。

以下，舉出光調節是使用光圈的調節的情況為例進行說明。

光調節裝置具備：第1基板1、第2基板2、間隔件3、包含線圈芯材5及線圈6的電磁驅動源4、旋轉軸部件7及光調節部8。

第1基板1具有用于讓光通過的開口1a、及用于將旋轉軸部件7的軸向的一端側插通的軸孔1b，在一面側配設有電磁驅動源4。

第2基板2以隔著間隔件3與第1基板1具有指定間隔的空間且平行的方式配設為，基板面與第1基板1的另一面側(即，與第1基板1的配設有電磁驅動源4的面相反一側)的基板面對置，該第2基板2具有用于讓光通過的開口2a、及用于將旋轉軸部件7的軸向的另一端側插通的軸孔2b。

第1基板1的開口1a及第2基板2的開口2a作為例如圓形的開口形成于各基板1、2的中央部，未圖示的主光學系統的光軸O與第1基板1及第2基板2的基板面垂直地在上述開口1a、2a的例如中心通過。另外，開口1a及開口2a可以是實現作為未圖示的主光學系統中的最大光圈的功能的光學開口。

軸孔1b及軸孔2b將旋轉軸部件7安裝并軸支成，能夠繞與第1基板1及第2基板2的基板面垂直的(即與光軸O平行的)旋轉中心軸轉動。

間隔件3將上述第1基板1與第2基板2隔開，以便在第1基板1與第2基板2的對置的基板面彼此之間構成空間。此間隔件3上設置有確保光調節部8轉動所用的空間的切口3a，此切口3a還規定光調節部8的轉動范圍。

電磁驅動源4配設于第1基板1上與間隔件3相反一側的面，具有由磁性體形成的線圈芯材5及卷繞于線圈芯材5的線圈6，是將通過在線圈6中流通電流而產生的磁力經由線圈芯材5傳遞給旋轉軸部件7由此將旋轉軸部件7轉動的驅動源。

這里旋轉軸部件7構成為，被磁化為繞軸具有不同的磁極的棒狀的(例如圓柱狀的)永久磁鐵(軸磁鐵)。此旋轉軸部件7例如成為二極構成，被磁化為圓柱狀的一方的半圓柱部分為S極，另一方的半圓柱部分為N極。

線圈芯材5也稱為線圈鐵芯或者軛鐵，通過強磁性鐵鎳合金、硅鋼等磁性體形成為具有二個芯材端5a的開曲線狀(即，在閉曲線的一部分具有斷開處的形狀)，在圖示的例子中，形成大致三角形狀且一個頂點成為開放端。并且，作為大致三角形狀的開放端的一對芯材端5a將旋轉軸部件7的外側面的兩側(在圖示的例子中，旋轉軸部件7是圓柱形，因此為旋轉軸部件7的周面的兩側)以非接觸的方式夾入。這樣，通過線圈芯材5和旋轉軸部件7構成閉磁路，傳遞由線圈6產生的磁。

線圈6被卷繞于形成開曲線狀的線圈芯材5的沿著磁路徑的至少一個部位(在圖示的例子中為二個部位)，通過流通電流而產生磁力。

光調節部8是將從開口1a或開口2a入射的光調節后(如上所述，使光發生光學性變化)出射的光調節用的部件，被固定為與上述的旋轉軸部件7一體轉動，并以能夠移動的方式被配置于第1基板1與第2基板2之間的上述的指定間隔的空間內。因此，光調節部8伴隨旋轉軸部件7的轉動而在空間內轉動。這里，本實施方式中的光調節部8具備光圈開口8a，并如上所述，在被插入到未圖示的主光學系統的光路上時成為使光束的通過范圍變更的光圈葉片。

在如上所述的構成中，在線圈6中流通一方向的電流時，線圈芯材5的二個芯材端5a中的、一方被磁化為S極，另一方被磁化為N極，在線圈6中流通另一方向的電流時磁化的極相反。據此，在旋轉軸部件7的N極/S極與芯材端5a的S極/N極之間產生引力，在旋轉軸部件7的N極/S極與芯材端5a的N極/S極之間產生斥力。在這樣的磁力的作用下，旋轉軸部件7順時針或逆時針地旋轉。

此時，光調節部8通過與切口3a的一端側抵接而被定位在從在開口1a、2a通過的光的光路上退避的退避位置，通過與切口3a的另一端側抵接而被定位在被插入到在開口1a、2a通過的光的光路上的插入位置，退避位置與插入位置之間是可旋轉范圍。

這樣，光調節部8與由電磁驅動源4所驅動的旋轉軸部件7一起轉動，并移位到退避位置和插入位置，從而調節光。

另外，在上述中，作為轉動旋轉軸部件7的驅動源，舉出通過磁作用產生驅動力的電磁驅動源4為例，但也可以采用其他的構成的驅動源。

光調節部8在通過間隔件3的切口3a構成的第1基板1與第2基板2之間的空間中轉動，因此該空間的光軸O方向的間隔x(參照圖3)的精度對于進行順暢的旋轉動作而言是重要的。

構成光調節裝置的各構件在構件的制造階段以指定的精度被調整為預先確定的大小、形狀，但上述的空間的間隔x變得重要是在使用構件組裝成光調節裝置之后。

因此，進行組裝后的光調節裝置的測定。作為光調節裝置的測定方法，例如有，

(1)使用測定器手動從與光軸O垂直的側面方向計測的方法

(2)通過激光移位計使用激光從與光軸O平行的方向掃描的方法

等，但它們中的(1)，是能夠比較精確地計測空間但測定會耗費勞力和時間的方法。并且，測定耗費勞力和時間這一點不能夠容易地解決。

因此，在本實施方式中，采用能夠進行測定的自動化、且不耗費勞力和時間的(2)的方法。

此基于激光的掃描如例如圖2所示那樣進行。即，將光調節裝置載置在測定臺12(參照圖3)上，從激光移位計11與光軸O平行地照射激光即測定光ML，并使激光移位計11沿與光軸O垂直的掃描方向SC移動，從而進行激光掃描。

其中，圖1～圖3所示的基本的構成能夠將測定光ML照射到第1基板1的上面，但并不能照射到間隔件3及第2基板2，因此以此構成原封不動的話不能測定作為基板間距離的空間間隔x。因此，基于圖1～圖3的基本構成，參照圖4及圖5，對能夠進行基于激光掃描的測定的光調節裝置的構成進行說明。這里，圖4是將本實施方式的光調節裝置的具體的構成在光軸方向上拉開表示的分解立體圖，圖5是表示本實施方式的光調節裝置的具體的構成的立體圖。

即，本實施方式的光調節裝置具備被測定部，該被測定部被設置為，使為了測定空間間隔x而從與第1基板1及第2基板2的基板面垂直的測定方向(與光軸O平行的方向)照射的測定光ML在測定方向上通過第1基板1與第2基板2中的一方并到達另一方。

在測定光ML的照射方向是從第1基板1側向第2基板2側的方向的情況下，此被測定部具有，用于測定從第1基板1側到間隔件3的距離的第1被測定部、及用于測定從第1基板1側到第2基板2的距離的第2被測定部，第1被測定部以測定光ML在測定方向上通過第1基板1并到達間隔件3的方式設置于第1基板1，第2被測定部以測定光ML在測定方向上通過第1基板1及間隔件3并到達第2基板2的方式設置于第2基板2。

第1被測定部是以在從測定方向觀看時、間隔件3露出的方式設置于第1基板1的光通過部，第2被測定部是以在從測定方向觀看時從第1基板1及間隔件3突出的方式設置于第2基板2的光反射部。

具體來講，在第1基板1上，設置有使第1基板1的一部分欠缺而形成為切口1c的欠缺部作為光通過部，以在從光軸O方向的第1基板1側觀看時、間隔件3露出。另外，這里將使間隔件3露出的欠缺部(光通過部)作為切口1c，但當然也可以形成為孔。

并且，第2基板2構成為直徑比第1基板1及間隔件3大，在從光軸O方向的第1基板1側觀看時，周緣部從第1基板1及間隔件3的周緣作為伸出周緣部2c而伸出并成為光反射部。

這樣的構成的光調節裝置如圖6所示那樣進行掃描。這里，圖6是用于說明本實施方式的光調節裝置的掃描方向的剖視圖。

基于激光移位計11的掃描如上所述那樣，在使激光移位計11沿與光軸O垂直的掃描方向SC移動的同時進行與光軸O平行的方向的測定光ML的照射。此時，作為與光軸O垂直的面內的、可選擇的掃描方向SC，可選擇測定光ML被照射到伸出周緣部2c進而被照射到從切口1c露出的間隔件3的上面的方向。

圖7是表示對光調節裝置進行掃描而得到的輸出波形的線圖。

若將光調節裝置載置于測定臺12上并進行如上所述的激光掃描，則當設測定臺12的高度為0時，得到距第2基板2的上面的高度L1作為輸出波形，并且得到距從切口1c露出的間隔件3的上面的高度L2作為輸出波形，然后，得到距第1基板1的上面的高度L3及經由開口1a、2a的到測定臺12的高度等。

接著，圖8是表示光調節裝置的基板間距離測定方法的流程圖。

在使此處理開始后，首先，通過經由作為第1被測定部的切口1c照射測定光ML，測定從激光移位計11到間隔件3的距離x2(步驟S1)。若將從激光移位計11到測定臺12的測定距離設為x0，則將測定臺12的高度設為0時的間隔件3的高度L2為，L2＝(x0－x2)。

接下來，通過對作為第2被測定部的伸出周緣部2c照射測定光ML，測定從激光移位計11到第2基板2的距離x1(步驟S2)。此時，將測定臺12的高度設為0時的第2基板2的高度L1為，L1＝(x0－x1)。

另外，步驟S1和步驟S2的處理并不限于按此順序進行，也可以是相反的順序。

然后，基于測定結果計算空間間隔x(步驟S3)。此運算通過x＝(L2－L1)＝x1－x2、即從距第2基板2的距離x1減去距間隔件3的距離x2來進行，因此從激光移位計11到測定臺12的測定距離x0的信息是不需要的，僅僅有從激光移位計11到第2基板2的距離x1的信息和從激光移位計11到間隔件3的距離x2的信息這二個信息就足夠。這樣，通過使得到空間間隔x所必要的測定信息僅為二個，能夠極力減少測定誤差的混入，能夠提高測定精度。

接著，圖9是用于說明光調節裝置的第1變形例的剖視圖。

圖4及圖5所示的構成中，光調節裝置具備專用的第2基板2，但此圖9所示的例子，是將其他的單元10的基板面作為第2基板2的代用的例子。這里，在其他的單元10的與間隔件3抵接的上面，設置有在從光軸O方向的第1基板1側觀看時從第1基板1及間隔件3的周緣伸出的作為光反射部的伸出周緣部10c。

這樣，第2基板2并不限于設為專用的基板。

另外，圖10是用于說明光調節裝置的第2變形例的剖視圖。

此圖10所示的構成例，為設置多個能夠測定空間間隔x的被測定部的例子。

在圖10所示的剖視圖中，示出了在圓周方向的對置的位置所設置的二個切口1c，但也可以設置更多的切口1c。另外，伸出周緣部2c設置于第2基板2的整個圓周，因此即使在設置多個切口1c的情況下，在任意的切口1c的附近也有伸出周緣部2c存在。

如果采用此如圖10所示的構成，則能夠使用位置不同的多個被測定部測定空間間隔x，因此在第1基板1與第2基板2有傾斜的情況下也能夠測定該傾斜。另外，即使在第1基板1與第2基板2平行的情況下，通過對多個被測定部的測定結果進行統計處理，也能夠進一步提高測定精度。

另外，雖未特別圖示，但也可以代替在第1基板1設置切口1c，而將第1基板1形成為直徑比如圖1～圖3所示的基本的構成小。在此情況下，

(第1基板1的直徑)＜(間隔件3的直徑)＜(第2基板2的直徑)。

并且，在此構成的情況下，無論將繞光軸O的哪個角度方向作為掃描方向SC都能夠進行測定，能夠進行更簡便的測定。另外，也能夠應對更多方向的測定，與圖10所示的構成同樣地、能夠進行傾斜的測定，能夠提高測定精度。

根據這樣的實施方式1，設定被測定部以使測定光ML通過第1基板1與第2基板2中的一方并到達另一方，因此能夠測定第1基板1與第2基板2的同一側的面間距離，如果板厚已知則能夠測定空間間隔x。

此時，由于設置有用于測定從第1基板1側到間隔件3的距離的第1被測定部、及用于測定從第1基板1側到第2基板2的距離的第2被測定部，因此即使板厚不是已知也能夠測定空間間隔x。

并且，由于在第1基板1上設置第1被測定部以使測定光ML到達間隔件3，并在第2基板2上設置第2被測定部以使測定光ML到達第2基板2，因此能夠通過測定直接取得作為得到空間間隔x所必要的二個信息的、從激光移位計11到間隔件3的距離x2的信息和從激光移位計11到第2基板2的距離x1的信息。

具體來講，通過將第1被測定部設為以在從測定方向觀看時、間隔件3露出的方式設置于第1基板1的光通過部，并將第2被測定部設為以在從測定方向觀看時從第1基板1及間隔件3突出的方式設置于第2基板2的光反射部，僅僅改變第1基板1及第2基板2的形狀、大小，就能夠進行測定。

尤其在將光通過部設為使第1基板1的一部分欠缺的欠缺部中的例如切口1c的情況下，有形成容易的優點。

并且，通過設置多個被測定部，能夠測定與光軸O垂直的面內的空間間隔x的分布，而且能夠進一步提高測定精度。

并且，由于采用將光調節部8固定為與旋轉軸部件7一體轉動，并通過驅動源使旋轉軸部件7旋轉而使光調節部8移位到退避位置與插入位置來調節光的構成，因此能夠在光路上插拔聚焦透鏡、光圈、濾光器等光學要素來進行光的調節。

這樣，在組裝成光調節裝置后，能夠短時間且高精度地測定第1基板1與第2基板2之間的距離。

[實施方式2]

圖11是表示本發明的實施方式2的圖，是表示光調節裝置的構成的立體圖。在此實施方式2中，對于與上述的實施方式1同樣的部分標注同一符號等并適當省略說明，主要僅對不同點進行說明。

在上述的實施方式1中，將第2基板2的直徑設為比第1基板1的直徑大，但本實施方式中，第2基板2的直徑與第1基板1的直徑基本相同，僅在與切口1c對應的部分使第2基板2向外徑方向伸出來形成突設部2d。

根據這樣的實施方式2，能夠起到與上述的實施方式1幾乎同樣的效果，并且能夠使第2基板2的大小小型化，因此適于制造更小型化的光調節裝置。

另外，也可以是，關于組裝后的光調節裝置，在使用切口1c及突設部2d測定了空間間隔x后，將突設部2d作為向其他的部件例如主體部件、鏡筒部件等裝入時的嵌合用的形狀部來利用。

[實施方式3]

圖12及圖13是表示本發明的實施方式3的圖，圖12是表示光調節裝置的構成的立體圖，圖13是表示光調節裝置中的第1基板1、第2基板2及間隔件3的圖12的13－13剖視圖。在此實施方式3中，對于與上述的實施方式1、2同樣的部分，標注同一符號等并適當省略說明，主要僅對不同點進行說明。

上述的實施方式1、2中，將用于測定從第1基板1側到間隔件3的距離的第1被測定部設定于第1基板1，并將用于測定從第1基板1側到第2基板2的距離的第2被測定部設置于第2基板2，但在本實施方式中，設置于第1基板1的一個光通過部兼作第1被測定部和第2被測定部。

即，在第1基板1中的在從測定方向(光軸O方向)觀看時、間隔件3與第2基板2這兩者露出的部分，設置光通過部。在這樣的構成中，第1被測定部是光通過部中的間隔件3露出的部分，第2被測定部是光通過部中的第2基板2露出的部分。

具體來講，本實施方式的光通過部，是使第1基板1的一部分欠缺而形成為孔1d的欠缺部。但是，也可以代替孔1d，將光通過部設為以使間隔件3和第2基板2這兩者露出的方式形成的切口。

根據這樣的實施方式3，能夠起到與上述的實施方式1、2幾乎同樣的效果，并且在第2基板2上不存在從第1基板1、間隔件3的周緣向與光軸O垂直的方向突出的部分，因此能夠進一步使光調節裝置小型化。

在相應于間隔件3、電磁驅動源4等配置能夠將如本實施方式那樣的光通過部設于間隔件3與第2基板2這兩者露出的部分的情況下，從使光調節裝置小型化的觀點來看，是優選的構成。

[實施方式4]

圖14是表示本發明的實施方式4的圖，是表示光調節裝置中的第1基板1、第2基板2及間隔件3的剖視圖。在此實施方式4中，對于與上述的實施方式1～3同樣的部分標注同一符號等并適當省略說明，主要僅對不同點進行說明。

本實施方式中，使光通過部為具有光透射性的透明部，具體來講，通過透明的原料形成第1基板1。如果采用這樣的構成，則透過透明的第1基板1能看到間隔件3的部分成為第1被測定部，透過透明的第1基板1能夠看到第2基板2的部分成為第2被測定部。

另外，也可以將上述的實施方式1、2中的切口1c、或者上述的實施方式3中的孔1d構成為透明部而代替欠缺部。

根據這樣的實施方式4，能夠起到與上述的實施方式1～3幾乎同樣的效果，并且不需要使第1基板1及第2基板2的形狀從基本的形狀進行任何變更，僅僅將形成的原料變更為透明的原料就能夠測定空間間隔x。

接下來，參照圖15～圖17，對與上述的各實施方式關聯的參考例進行說明。在以下的參考例中，對于與上述的各實施方式同樣的部分，標注同一符號等并適當省略說明，主要僅對不同點進行說明。

[參考例1]

圖15是表示參考例1的光調節裝置中的第1基板1、第2基板2及間隔件3的剖視圖。

在此參考例1中，設置有上述的實施方式1、2中的切口1c，但實施方式1的伸出周緣部2c和實施方式2的突設部2d的任一個都沒設置。

并且，在此參考例1的情況下，通過測定從激光移位計11到測定臺12(參照圖3等)的距離和從激光移位計11到間隔件3的上面的距離并取差分，來計算包含第2基板2的厚度和間隔件3的厚度這兩者的長度。

另外，認為第2基板2的構件單體時的板厚與組裝出光調節裝置后的第2基板2的板厚幾乎相同，因此也利用此板厚的信息。

即，通過從如上所述算出的包含第2基板2的厚度和間隔件3的厚度這兩者的長度減去第2基板2的構件單體時的板厚，得到空間間隔x。

通過這樣的參考例1的構成，也能夠以某程度的精度測定空間間隔x。

[參考例2]

圖16是表示參考例2的光調節裝置中的第1基板1、第2基板2及間隔件3的剖視圖。

在此參考例2中，設置有與上述的實施方式3的孔1d類似的孔1e，但被設置于在從光軸O方向的第1基板1側觀看時僅第2基板2露出的位置，而不是如孔1d那樣間隔件3和第2基板2這兩者露出的位置。

并且，在此參考例2的情況下，通過測定從激光移位計11經由孔1e到第2基板2的上面的距離和從激光移位計11到第1基板1的上面的距離并取差分，計算包含第1基板1的厚度和間隔件3的厚度這兩者的長度。

并且，認為第1基板1的構件單體時的板厚與組裝出光調節裝置后的第1基板1的板厚幾乎相同，因此也利用此板厚的信息。

即，通過從如上所述算出的包含第1基板1的厚度和間隔件3的厚度這兩者的長度減去第1基板1的構件單體時的板厚，得到空間間隔x。

通過這樣的參考例2的構成，也能夠與參考例1幾乎同樣地、以某程度的精度測定空間間隔x。

[參考例3]

圖17是表示參考例3的光調節裝置中的第1基板1、第2基板2及間隔件3的剖視圖。

在此參考例3中，構成為使第1基板1的開口1a’比第2基板2的開口2a的直徑大，在從光軸O方向的第1基板1側觀看時，通過開口1a’，第2基板2的上面露出。因此，用于讓通過光調節部8調節的光通過的開口1a’兼作用于讓測定光ML通過的光通過部。

并且，此參考例3的測定方法與上述的參考例2相同。

通過這樣的參考例3的構成，也能夠起到與參考例2幾乎相同的效果。

另外，如參考例3所示那樣的開口1a’，在不是發揮作為最大光圈的功能的光學開口的情況下，并不限于為圓形孔。因此，此情況下，通過對開口1a’的形狀下工夫，由此如果構成為不僅使第2基板2的上面露出還使間隔件3的上面露出，則能夠起到與上述的實施方式3相同的效果。并且，在此情況下，開口1a’兼作以使間隔件3及第2基板2露出的方式設置于第1基板1的光通過部。

另外，即使開口1a’為第2基板2的上面能夠露出但間隔件3的上面不能露出的情況下，只要進一步與參考例1所示的作為第1被測定部發揮功能的切口1c組合使用，就能夠起到與上述的實施方式3幾乎同樣的效果。在此情況下，開口1a’兼作第2被測定部。

另外，在上述的各實施方式、各參考例中，由于在第1基板1上配設有電磁驅動源4，因此假定從第1基板1側照射測定光ML進行說明，但從測定空間間隔x這一觀點來看，也可以是從第2基板2側照射測定光ML的構成。

并且，在上述中，對光調節裝置及光調節裝置的基板間距離測定方法進行了說明，但也可以是用于使計算機執行與光調節裝置的基板間距離測定方法同樣的處理的程序、記錄該程序的通過計算機可讀取的非暫時性的記錄介質等。

另外，本發明并不原封不動限定于上述的實施方式，在實施階段，在不脫離其宗旨的范圍內能夠使構成要素變形并具體化。另外，通過上述實施方式所揭示的多個構成要素的適當的組合，能夠形成各種發明的方式。例如，可以從實施方式所示的全部構成要素刪除幾個構成要素。并且，也可以將跨不同實施方式的構成要素適當組合。這樣，在不脫離發明的主旨的范圍內當然能夠進行各種變形、應用。

本申請以2014年4月14日在日本國申請的特愿2014－083048號為優先權利主張的基礎而提出申請，上述的公開內容被引用于本申請說明書、權利要求書、附圖中。