1.一種矩形深截止超窄帶帶通濾光片的制作方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)確定理論膜系,根據(jù)超窄帶帶通濾光片預(yù)先要求的性能參數(shù)確定濾光片的膜系結(jié)構(gòu);
(2)使用全自動(dòng)鍍膜機(jī),根據(jù)上述獲得的理論膜系結(jié)構(gòu),制作出該鍍膜機(jī)自動(dòng)控制用的模板控制文件;
(3)在鍍膜機(jī)內(nèi)裝入選定的鍍膜材料,采用偏心監(jiān)控的控制方式,鍍膜機(jī)按選定的模板控制文件自動(dòng)完成濾光片的制作。
2.如權(quán)利要求1所述的矩形深截止超窄帶帶通濾光片的制作方法,其特征在于,所述步驟(1)中,以多腔濾光片的典型膜系結(jié)構(gòu)為基礎(chǔ),選取Ta2O5作為高折射率材料,SiO2為低折射率材料,分別定義Ta2O5和SiO2在λ/4的單位光學(xué)厚度為H和L。
3.如權(quán)利要求2所述的矩形深截止超窄帶帶通濾光片的制作方法,其特征在于,所述步驟(2)中,全自動(dòng)鍍膜機(jī)具有石英晶體振蕩膜厚控制儀、高精度光學(xué)膜厚控制儀和射頻離子源輔助鍍膜。
4.如權(quán)利要求3所述的矩形深截止超窄帶帶通濾光片的制作方法,其特征在于,所述矩形深截止超窄帶帶通濾光片工作于1064nm,典型半寬5.2nm。
5.如權(quán)利要求4所述的矩形深截止超窄帶帶通濾光片的制作方法,其特征在于,所述超窄帶帶通濾光片預(yù)先要求的性能參數(shù)包括:理論半寬,分布值為5~5.4nm,通帶平均透過率大于或等于95%的區(qū)域,其寬度不小于3nm。
6.如權(quán)利要求5所述的矩形深截止超窄帶帶通濾光片的制作方法,其特征在于,所述步驟(1)中,在計(jì)算機(jī)上,使用膜系設(shè)計(jì)軟件TFC Calc對上述H和L進(jìn)行模擬,根據(jù)超窄帶帶通濾光片要求的性能參數(shù)確定濾光片的膜系結(jié)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求6所述的矩形深截止超窄帶帶通濾光片的制作方法,其特征在于,所述膜系結(jié)構(gòu)為:基板/(HLHLHLHLH4LHLHLHLHLHL)(HLHLHLHLH4LHLHLHLHLHL)(HLHLHLHLH4LHLHLHLHL0.6H0.8L)/空氣。
8.如權(quán)利要求7所述的矩形深截止超窄帶帶通濾光片的制作方法,其特征在于,所述膜系結(jié)構(gòu)中的典型膜系結(jié)構(gòu)為:基板/(HL)^a H bL(HL)^(a+1)(HL)^c H dL(HL)^(c+1)……(HL)^m H nL(HL)^(m+1)/空氣,實(shí)際鍍制時(shí)腔的數(shù)量和每個(gè)腔的具體參數(shù)由所需產(chǎn)品的性能參數(shù)決定。
9.如權(quán)利要求8所述的矩形深截止超窄帶帶通濾光片的制作方法,其特征在于,所述步驟(3)中,偏心監(jiān)控方式的監(jiān)控點(diǎn)的選擇以獲得盡可能大的鍍膜有效面積為目的。
10.如權(quán)利要求9所述的矩形深截止超窄帶帶通濾光片的制作方法,其特征在于,偏心監(jiān)控方式中,選定離工件載盤中心半徑為22mm的圓周上一點(diǎn)為監(jiān)控點(diǎn),通過監(jiān)控基板上該點(diǎn)的透射光強(qiáng)度來控制鍍膜進(jìn)程實(shí)現(xiàn)的。