技術特征：

1.一種模式優化裝置，其特征在于，包括：

模式調控單元，用于濾除激光系統中的高階模；

第一匹配光纖，用于將模式調控單元與激光系統前項模場匹配；以及

第二匹配光纖，用于將模式調控單元與激光系統后項模場匹配。

2.根據權利要求1所述的模式優化裝置，其特征在于：所述模式調控單元包括八角形纖芯、圍繞在八角形纖芯外的低折射率摻氟包層，低折射率摻氟包層外包圍有高折射率摻鍺包層，高折射率摻鍺包層外包圍有純石英外包層，純石英外包層外包圍有涂覆層。

3.根據權利要求2所述的模式優化裝置，其特征在于：所述高折射率摻鍺包層的折射率與八角形纖芯折射率相同或更高；所述低折射率摻氟包層與純石英外包層的折射率相同或更低。

4.根據權利要求3所述的模式優化裝置，其特征在于：所述純石英外包層的直徑為d₀≥125μm，折射率為n₀；所述八角形纖芯等效直徑d₁為10～30μm，折射率為n₁，滿足2×10^-4≤n₁-n₀≤2×10^-3；低折射率摻氟包層寬t為1～12μm，折射率為n₂，滿足n₀≥n₂；高折射率摻鍺包層的寬d₂為2～8μm，折射率為n₃，滿足n₃≥n₁。

5.根據權利要求1所述的模式優化裝置，其特征在于：所述模式調控單元包括纖芯，纖芯外圍繞有由六個變徑孔構成的第一包層，第一包層外包圍有由十二個均勻小孔構成的第二包層，兩包層中孔的孔周期相同且每一包層中的孔都排布呈正六邊形；所述纖芯、第一包層和第二包層之間填充有純石英基質材料，純石英基質材料外包圍有涂覆層。

6.根據權利要求5所述的模式優化裝置，其特征在于：純石英外包層的直徑為d₀≥400μm，折射率為n₀；第一包層和第二包層中的小孔由摻雜的石英材料構成且折射率都為n_stick；第一包層孔周期為Λ，第二包層的孔周期與第一包層相等，也為Λ，且n₀-n_stick>0.003；第一包層中相鄰三個孔的直徑為d₃，滿足關系d₃/Λ≥0.6；第一包層中另外相鄰三個孔直徑為d₄，滿足關系d₄/Λ<0.6；第二包層中孔的直徑為d₅，滿足關系d₅/Λ≤0.5，且滿足d₃>d₄≥d₅；纖芯直徑d_core≥為25μm，折射率為n_core＝n₀≥n_stick。

7.根據權利要求1～6任一項所述的模式優化裝置，其特征在于：還包括水冷板，水冷板設有水冷通道，所述模式調控單元安裝于該水冷板上；所述水冷板包括進水口和出水口，進水口進入的冷卻液從水冷板的水冷通道流往出水口，流經水冷板時為模式優化裝置降溫。

8.根據權利要求7所述的模式優化裝置，其特征在于：所述進水口位于所述出水口的下方，且出水口流出的冷卻液經冷卻處理后再度回流至進水口。

9.根據權利要求8所述的模式優化裝置，其特征在于：還包括散熱片，所述模式調控單元安裝于所述散熱片上，所述散熱片四周裝有風扇。