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一種用于DMD無掩膜光刻機的高速圖像曝光方法與流程

文檔序號:11152929閱讀:來源:國知局
技術總結
本發明公開了一種用于DMD無掩膜光刻機的高速圖像曝光方法,優化DMD光刻曝光控制流程,避免了直接由上位機軟件發送實時曝光圖像到DMD進行曝光,而是利用存儲設備對待加工圖像進行緩存,通過DMD控制板代替上位機軟件完成高速實時曝光圖像處理,無需對每一幀DMD實時曝光圖像都進行一次通信接口傳輸,減少傳輸數據量,有效地減小通信接口的傳輸速率對光刻效率的限制,在實際曝光階段,只是從外部存儲設備中直接獲取曝光圖像信息,并基于曝光圖像信息自動控制DMD微鏡陣列完成快速翻轉,充分發揮硬件控制板的高速數據傳輸和強大的時序控制能力的優勢,大大縮短了數據傳輸時間,提高DMD圖像曝光速度,提升了DMD無掩膜光刻機的工作效率。

技術研發人員:鄒見效;彭超;池文明;徐紅兵;何健
受保護的技術使用者:電子科技大學
文檔號碼:201611179384
技術研發日:2016.12.19
技術公布日:2017.05.10

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