1.一種光學(xué)隔離器，其特征在于，包括法布里-珀羅效應(yīng)干涉片和法拉第旋光器，光束依次垂直射入所述法布里-珀羅效應(yīng)干涉片和法拉第旋光器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)隔離器，其特征在于，所述法布里-珀羅效應(yīng)干涉片為各向異性光學(xué)晶體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)隔離器，其特征在于，所述法布里-珀羅效應(yīng)干涉片包括YVO4晶體、方解石、BBO晶體、KTP晶體、KDP晶體、LBO晶體、PbWO4晶體中至少的一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)隔離器，其特征在于，所述法布里-珀羅效應(yīng)干涉片具有兩個平行的工作光學(xué)端面，所述工作光學(xué)端面鍍有對工作波長高反射的介質(zhì)膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)隔離器，其特征在于，所述法拉第旋光器置于與光路同方向的磁場中，所述磁場強度設(shè)置為能使通過其的偏振光的偏振方向旋轉(zhuǎn)40～50°。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)隔離器，其特征在于，所述法拉第旋光器置于與光路同方向的磁場中，所述磁場強度設(shè)置為能使通過其的偏振光的偏振方向旋轉(zhuǎn)45°。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)隔離器，其特征在于，所述法拉第旋光器采用具有磁光效應(yīng)的玻璃、晶體或非晶光學(xué)陶瓷。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)隔離器，其特征在于，所述法拉第旋光器具有兩個光學(xué)端面，所述光學(xué)端面具有對工作波長增透的介質(zhì)鍍膜。
9.一種光學(xué)隔離方法，其特征在于，將光線垂直入射法布里-珀羅效應(yīng)干涉片和法拉第旋光器，所述法拉第旋光器置于與光路同方向的磁場中，所述磁場強度設(shè)置為能使通過其的初次入射偏振光通過后再次沿磁場方向入射并通過后的偏振方向與所述初次入射偏振光的偏振方向垂直，從而不再滿足法布里-珀羅效應(yīng)干涉條件，實現(xiàn)光學(xué)隔離。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)隔離方法，其特征在于，所述法布里-珀羅效應(yīng)干涉片為各向異性光學(xué)晶體。