1.一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：
基底；
金屬層，其設(shè)置于所述基底上；
金屬光柵層，其設(shè)置于所述金屬層上，所述金屬光柵層為一維光柵，所述金屬光柵層包括多個光柵單元，每兩個相鄰的所述光柵單元之間形成光柵凹槽，所述金屬光柵層的周期不大于500nm，所述金屬光柵層的占空比在0.1-0.7之間，所述金屬光柵層的高度在100-500nm之間；所述金屬光柵層中，其介電常數(shù)的虛部大于其介電常數(shù)的實部的絕對值；
填充介質(zhì)層，其填設(shè)于所述光柵凹槽內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述基底為透明柔性基底。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述透明柔性基底的材質(zhì)為聚酯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚丙烯。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述基底的折射率在1.4-1.7之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述金屬層的材質(zhì)為鋁、銀、銅、鎢、鎳、鉻或鈦。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述金屬層的厚度大于可見光波段在所述金屬層上的趨膚深度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)，其特征在于，金屬層的厚度不小于40nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述金屬光柵層的材質(zhì)為鎢、鎳、鉻或鈦。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或8所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述光柵單元呈條形。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述填充介質(zhì)層的材質(zhì)為二氧化硅。
11.根據(jù)權(quán)利要求1或10所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述填充介質(zhì)層的高度在100-800nm之間。
12.根據(jù)權(quán)利要求1或10所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述填充介質(zhì)層的折射率在1.4-1.7之間。
13.根據(jù)權(quán)利要求1或10所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述填充介質(zhì)層與所述光柵單元之間設(shè)有開口腔模。
14.一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
1)準(zhǔn)備基底；
2)通過物理沉積法將所述金屬層設(shè)置于所述基底上；
3)在所述金屬層上旋涂光刻膠；
4)通過光刻法或曝光法在所述光刻膠上制備光柵圖形；
5)通過離子刻蝕法或物理化學(xué)反應(yīng)法，將所述光柵圖形轉(zhuǎn)移至金屬材料中，形成金屬光柵層，所述金屬光柵層包括多個光柵單元，每兩個相鄰的所述光柵單元之間形成光柵凹槽；
6)通過原子層沉積法、化學(xué)鍍方法、電化學(xué)方法的一種或幾種將介質(zhì)材料填充至所述光柵凹槽中。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，所述物理沉積法包括真空鍍膜法、金屬熱蒸發(fā)鍍膜法、磁控濺射法或激光脈沖沉積法中的一種或幾種。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，所述光刻法為電子束光刻法、離子束光刻法或紫外光刻法。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，所述曝光法為紫外全息曝光法。
18.一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
1)在基底上面旋涂光刻膠，通過光刻或者全息拍攝制備光柵結(jié)構(gòu)；
2)電鑄形成金屬光柵結(jié)構(gòu)；
3)在金屬光柵上鍍介質(zhì)，形成最終結(jié)構(gòu)。
19.一種雙帶可見光寬波段吸收結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
1)在基底上面旋涂光刻膠，通過光刻或者全息拍攝制備光柵結(jié)構(gòu)；
2)電鑄形成金屬光柵結(jié)構(gòu)；
3)采用UV壓印，將金屬光柵結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移至軟膜上，形成介質(zhì)光柵；
4)在介質(zhì)光柵上鍍金屬形成吸收結(jié)構(gòu)。