本申請總體涉及半導體制造領域，并且具體涉及納米壓印。

背景技術：

1、半導體制造中常使用納米壓印技術。納米壓印技術具有制備小尺寸(納米量級)圖案的能力，是一種有潛力取代光刻的技術。當納米壓印引應用于半導體領域時，需要其壓印模板是硬質透明的。

2、圖1示出傳統的硬質透明納米壓印模板的制備流程。如(a)處所示，其以帶cr層130的石英光刻板110作為基底。如(b)處所示，用電子束曝光出圖案，刻蝕cr層130并去除電子束曝光膠，得到經圖案化的cr層132。如(c)處所示，以經圖案化的cr層132作為硬掩模，刻蝕石英光刻板110，最后去除經圖案化的cr層132，以得到經圖案化的石英光刻板112，作為納米壓印模板。

3、在一些情況下，也可利用納米壓印母模板來制備納米壓印子模板。圖2示出傳統的硬質透明納米壓印子模板的制備流程。如(a)處所示，提供不帶cr的石英光刻板210為基底，并提供納米壓印母模板230。作為示例，該納米壓印母模板230可通過圖1中的過程制備。例如，可以是通過圖1中所示的流程制備的納米壓印模板112。如(b)處所示，用納米壓印技術將納米壓印母模板230的圖案轉移到石英光刻板210表面上涂覆的納米壓印膠250。如(c)處所示，將納米壓印母模板230與石英光刻板210分離，以在晶圓310的表面上留下經圖案化的納米壓印膠250。如(d)處所示，利用刻蝕將納米壓印圖案從納米壓印膠250轉移到石英光刻板210，以得到經圖案化的石英光刻板212，其可作為納米壓印子模板。

4、上述根據圖1的過程制備的納米壓印(母)模版112和根據圖2的過程制備的納米壓印子模板212均可被用作后續的納米壓印過程中的納米壓印模板。

5、無論是納米壓印母模板還是納米壓印子模板，這種傳統的硬質透明納米壓印模板均以昂貴的光刻板為基底。然而，納米壓印模板是耗材，只要其表面發生不可逆的損傷，就無法再用于納米壓印工藝。采用這種納米壓印模板勢必導致納米壓印技術的成本大幅上升，從而影響納米壓印技術在半導體領域的競爭力。

6、本領域中需要一種低成本的納米壓印模板的制備技術。

技術實現思路

1、為提供一種低成本的納米壓印模板，提供本發明。

2、根據本發明的一個方面，提供一種用于制備納米壓印模板的方法，其包括：將納米壓印圖案圖案化在第一晶圓上；切割第一晶圓，以形成包括多個第一裸片的第一晶圓；利用多個第一裸片將所述納米壓印圖案轉移到第二晶圓上；切割第二晶圓，以形成包括多個第二裸片的第二晶圓；以及將包括多個第二裸片的第二晶圓與石英光刻板鍵合。

3、如上所述的方法，其中，將納米壓印圖案圖案化在第一晶圓上包括：使用電子束曝光法或光刻法。

4、如以上任一項所述的方法，其中，將納米壓印圖案轉移到第二晶圓上包括：在第二晶圓上涂覆納米壓印膠；以及采用步進式納米壓印將納米壓印圖案轉印到納米壓印膠上。

5、如以上任一項所述的方法，其中，將納米壓印圖案轉移到第二晶圓上還包括：刻蝕納米壓印膠，以將納米壓印圖案轉移到第二晶圓上。

6、通過上述方法制備的納米壓印模板將晶圓而非石英光刻板作為耗材，降低了耗材替換成本，從而降低了納米壓印工藝的成本。

7、根據本發明的另一方面，提供一種重復利用納米壓印模板的石英光刻板的方法，其包括：提供納米壓印模板，該納米壓印模板包括石英光刻板和該石英光刻板上方的包括裸片的晶圓；將包括裸片的晶圓與石英光刻板解鍵合；以及將新的包括裸片的晶圓與所述石英光刻板鍵合。

8、如上所述的方法，還包括：檢測包括裸片的晶圓，并且將包括裸片的晶圓與石英光刻板解鍵合響應于檢測到包括裸片的晶圓損壞而被執行。

9、通過上述方法替換納米壓印模板，僅替換晶圓而石英光刻板得以重復利用，降低了耗材替換成本，從而降低了納米壓印工藝的成本。

10、根據本發明的又一方面，提供一種用于制備納米壓印模板的方法，其包括：將納米壓印圖案圖案化在晶圓上；以及將經圖案化的晶圓與石英光刻板鍵合。

11、如上所述的方法，其中，將納米壓印圖案圖案化在石英晶圓上包括：使用電子束曝光法或光刻法將納米壓印圖案圖案化在石英晶圓上。

12、通過上述方法制備的納米壓印模板將石英晶圓而非石英光刻板作為耗材，降低了耗材替換成本，從而降低了納米壓印工藝的成本。

13、根據本發明的又一方面，提供一種重復利用納米壓印模板的石英光刻板的方法，其包括：提供納米壓印模板，該納米壓印模板包括石英光刻板和該石英光刻板上方的石英晶圓；將石英晶圓與石英光刻板解鍵合；以及將新的石英晶圓與石英光刻板鍵合。

14、如上述所述的方法，還包括：檢測石英晶圓，并且將石英晶圓與石英光刻板解鍵合響應于檢測到石英晶圓損壞而被執行。

15、通過上述方法替換納米壓印模板，僅替換晶圓而石英光刻板得以重復利用，降低了耗材替換成本，從而降低了納米壓印工藝的成本。

技術特征：

1.一種用于制備納米壓印模板的方法，包括：

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于：

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于：

5.一種重復利用納米壓印模板的石英光刻板的方法，包括：

6.如權利要求5所述的方法，其特征在于，還包括：

7.一種用于制備納米壓印模板的方法，包括：

8.如權利要求7所述的方法，其特征在于，

9.一種重復利用納米壓印模板的石英光刻板的方法，包括：

10.如權利要求9所述的方法，其特征在于，還包括：

技術總結
本發明公開了制備納米壓印模板和重復利用其石英光刻板的方法。一種用于制備納米壓印模板的方法可包括：將納米壓印圖案圖案化在第一晶圓上；切割第一晶圓，以形成具有多個第一裸片的第一晶圓；利用多個第一裸片將納米壓印圖案轉移到第二晶圓上；切割第二晶圓，以形成具有多個第二裸片的第二晶圓；以及將具有多個第二裸片的第二晶圓與石英光刻板鍵合。

技術研發人員：張哲煒,楊海波,黃河,劉鵬,徐懷宇
受保護的技術使用者：張江國家實驗室
技術研發日：
技術公布日：2025/4/24