本申請屬于集成電路掩模設計，尤其涉及一種掩模板處理方法、裝置、設備、介質及產品。

背景技術：

1、半導體制造工藝中，光刻是一種常用的圖形化方法。然而光刻工藝會限制所形成的圖形的最小節距(pitch)，傳統單次曝光光刻工藝已經難以滿足器件微縮的要求。為了解決傳統光刻分辨率極限問題，多重圖形化技術方法得以廣泛應用。多重圖形化技術是指將一套高密度的掩模板分解為兩套獨立的、密度低的掩模板，從而使得電路的集成度提高兩倍。

2、現有方法中，對于相同的沖突單元，則需要按照預設劃分規則重復計算掩模圖形之間的劃分關系，從而導致劃分時間過長，掩模板的劃分效率較低。

技術實現思路

1、本申請實施例提供了一種掩模板處理方法、裝置、設備、介質及產品，能夠減少劃分時間，提高掩模板的劃分效率。

2、本申請實施例的一方面，提供一種掩模板處理方法，包括：

3、獲取初始掩模板中各掩模圖形的圖形屬性與圖形位置；

4、根據各圖形位置，將滿足預設沖突關系的掩模圖形劃分至同一個沖突單元中，得到多個沖突單元；

5、將沖突單元屬性相同的各沖突單元，劃分至同一個沖突單元組中，得到多個沖突單元組，沖突單元屬性包括沖突單元中包含的掩模圖形的圖形屬性與掩模圖形之間的位序屬性；

6、對于每個沖突單元組，將沖突單元組中第一單元的各掩模圖形，按照預設劃分規則劃分至對應的子掩模組中，得到第一圖形劃分結果，第一單元為沖突單元組中任意一個沖突單元；

7、對于每個沖突單元組，根據第一圖形劃分結果，將沖突單元組中的第二單元的各掩模圖形劃分至對應的子掩模組中，得到第二圖形劃分結果，第二單元為沖突單元組中除第一單元之外的各沖突單元；

8、根據第一圖形劃分結果和第二圖形劃分結果，生成多個子掩模板。

9、本申請實施例的一方面，提供一種掩模板處理裝置，包括：

10、信息獲取模塊，用于獲取初始掩模板中各掩模圖形的圖形屬性與圖形位置；

11、圖形分組模塊，用于根據各圖形位置，將滿足預設沖突關系的掩模圖形劃分至同一個沖突單元中，得到多個沖突單元；

12、單元分組模塊，用于將沖突單元屬性相同的各沖突單元，劃分至同一個沖突單元組中，得到多個沖突單元組，沖突單元屬性包括沖突單元中包含的掩模圖形的圖形屬性與掩模圖形之間的位序屬性；

13、圖像劃分模塊，用于對于每個沖突單元組，將沖突單元組中第一單元的各掩模圖形，按照預設劃分規則劃分至對應的子掩模組中，得到第一圖形劃分結果，第一單元為沖突單元組中任意一個沖突單元；

14、圖像劃分模塊，還用于對于每個沖突單元組，根據第一圖形劃分結果，將沖突單元組中的第二單元的各掩模圖形劃分至對應的子掩模組中，得到第二圖形劃分結果，第二單元為沖突單元組中除第一單元之外的各沖突單元；

15、掩模板生成模塊，用于根據第一圖形劃分結果和第二圖形劃分結果，生成多個子掩模板。

16、本申請實施例的一方面，提供一種電子設備，該設備包括：存儲器及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的程序或指令，程序或指令被處理器執行時實現如上述本申請實施例的任意一方面提供的掩模板處理方法。

17、本申請實施例的一方面，提供一種可讀存儲介質，可讀存儲介質上存儲程序或指令，程序或指令被處理器執行時實現如上述本申請實施例的任意一方面提供的掩模板處理方法。

18、本申請實施例的一方面，提供一種計算機程序產品，計算機程序產品中的指令由電子設備的處理器執行時，使得電子設備執行如上述本申請實施例的任意一方面提供的掩模板處理方法。

19、本申請實施例提供的掩模板處理方法中，先將沖突單元進行分組，使得一個沖突單元組僅對應一種沖突單元。然后，每個沖突單元組中只選擇一個第一單元按照預設劃分規則計算掩模圖形之間的劃分關系。同一個沖突單元組中，除第一單元之外的第二單元，都直接參照第一單元的第一圖形劃分結果進行劃分，無需按照預設劃分規則進行重復計算。最后，根據第一圖形劃分結果和第二圖形劃分結果，即可生成多個子掩模板。如此，本申請通過將具有相同沖突單元屬性的沖突單元劃分到同一沖突單元組中，并對沖突單元組進行統一的處理，避免了對相同沖突單元的重復計算，從而提高了掩模板的劃分效率。

技術特征：

1.一種掩模板處理方法，其特征在于，包括：

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述將沖突單元屬性相同的各所述沖突單元，劃分至同一個沖突單元組中，得到多個所述沖突單元組中，得到多個所述沖突單元組，包括：

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，將滿足預設沖突關系的所述掩模圖形劃分至同一個沖突單元中，得到多個所述沖突單元，包括：

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對于每個所述沖突單元組，將所述沖突單元組中第一單元的各所述掩模圖形，按照預設劃分規則劃分至對應的子掩模組中，得到第一圖形劃分結果，包括：

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對于每個所述沖突單元組，根據所述第一圖形劃分結果，將所述沖突單元組中的第二單元的各所述掩模圖形劃分至對應的子掩模組中，得到第二圖形劃分結果，包括：

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述根據所述第一圖形劃分結果以及各所述第二單元的圖形劃分策略，分別對各所述第二單元的掩模圖形進行劃分，得到第二圖形劃分結果，包括：

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據所述第一圖形劃分結果和所述第二圖形劃分結果，生成多個子掩模板，包括：

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述根據所述第一大小關系，對所述第一子掩模組與所述第二子掩模組進行更新，得到第一更新子掩模組與第二更新子掩模組，包括：

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述在各所述沖突單元組中，選取第二大小關系與所述第一大小關系相一致的至少一個所述沖突單元組，作為目標沖突單元組，包括：

10.一種電子設備，其特征在于，所述設備包括：處理器以及存儲有計算機程序指令的存儲器；

11.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，所述計算機可讀存儲介質上存儲有計算機程序指令，所述計算機程序指令被處理器執行時實現如權利要求1-9中任意一項所述的掩模板處理方法。

12.一種計算機程序產品，其特征在于，所述計算機程序產品中的指令由電子設備的處理器執行時，使得所述電子設備執行如權利要求1-9中任意一項所述的掩模板處理方法。

技術總結
本申請公開了一種掩模板處理方法、裝置、設備、介質及產品，涉及集成電路掩模設計技術領域。該方法包括：獲取初始掩模板中掩模圖形的圖形屬性與圖形位置；根據各圖形位置，將滿足預設沖突關系的掩模圖形劃分至同一個沖突單元，得到多個沖突單元；將沖突單元屬性相同的各沖突單元，劃分至同一個沖突單元組，得到多個沖突單元組；對于每個沖突單元組，將沖突單元組中第一單元的各掩模圖形，按照預設劃分規則劃分至對應子掩模組，得到第一圖形劃分結果；對于每個沖突單元組，根據第一圖形劃分結果，將沖突單元組中的第二單元的各掩模圖形劃分至對應子掩模組，得到第二圖形劃分結果；根據第一圖形劃分結果和第二圖形劃分結果，生成多個子掩模板。

技術研發人員：易澤仁
受保護的技術使用者：深圳晶源信息技術有限公司
技術研發日：
技術公布日：2025/4/24