專利名稱：：清洗劑和有害氣體的清洗方法
技術領域：
：本發明涉及一種清洗劑以及一種用于清洗包含以下通式所示有害有機金屬化合物的有害氣體的清洗方法Rm-M-Hn其中R為烷基，M為As、P、S、Se或Te，且m和n分別為正整數，滿足等式m+n=M的化合價。更具體地說，本發明涉及一種清洗劑以及一種清洗在生產半導體時來自MOCDV(金屬有機化學氣相沉積)工藝或其它CVD工藝的有害氣體的方法。半導體工業的最新發展促進了半導體器件的高集成化和微型化。這導致更多地使用有機金屬化合物氣體，如叔丁基砷、叔丁基膦、叔丁基硫醇、異丙基砷和異丙基膦來替代常用的氫化砷氣體、氫化膦氣體、等。使用這種有機金屬化合物氣體作為進料氣體、摻雜氣體或用于形成薄金屬膜的氣體在CVD工藝中尤為重要。但由以下通式表示的這些有機金屬化合物Rm-M-Hn其中R、M、m和n定義如上(以下可僅稱作“烷基金屬氫化物”)許多都非常有毒或存在安全隱患，且大多數非常易燃。因此，這些烷基金屬氫化物需要在排放到大氣之前從廢氣中去除。包含烷基金屬氫化物的有害氣體的已知清洗方法包括濕法，其中用洗滌器吸收并分解這些有害氣體；和干法，其中使用多孔吸附劑如活性炭和無機化合物。在濕法中，由于烷基金屬氫化物不溶于水，尚未提出任何有效的吸收方案。在干法中，由于在活性炭上的吸附是一種物理過程，因此吸附氣體容易發生解吸?？紤]到這些情況，本發明人已提出了用于在干法中清洗包含烷基金屬氫化物的有害氣體的各種清洗劑和清洗方法。例如，日本專利申請公開7-68128提出了一種清洗包含砷、磷、硫、硒或碲的有害烷基金屬氫化物的有害氣體的方法，即，將該有害氣體與包含金屬氧化物的清洗劑(與堿金屬化合物一起加入)進行接觸，其中所述金屬氧化物主要由氧化銅(Ⅱ)和二氧化錳組成。日本專利申請公開7-60054提出了一種清洗包含有害烷基金屬氫化物的有害氣體的方法，即，將該有害氣體與包含加入了鈷(Ⅱ)化合物的金屬氧化物的清洗劑進行接觸，其中所述金屬氧化物主要由氧化銅(Ⅱ)和二氧化錳組成。開發以上已知清洗方法的目的是，利用基本上由氧化銅(Ⅱ)和二氧化錳的雙組分體系制成的清洗劑，在清洗包含烷基金屬氫化物的有害氣體時實現高效清洗(單位量清洗劑所去除的烷基金屬氫化物的量)。在清洗有害氣體的方法中，已經使用霍撥克拉脫催化劑作為主要由氧化銅(Ⅱ)和二氧化錳組成的金屬氧化物，因為它容易得到。但由于來自半導體制造工藝的含烷基金屬氫化物的有害氣體通常包含氫氣，這種基本上為氧化銅(Ⅱ)和二氧化錳的雙組分體系的清洗劑容易被氫氣還原，造成清洗劑失效。因此，為了使該清洗劑耐還原，已經提出將另一組分加入氧化銅(Ⅱ)和二氧化錳的雙組分體系中。在使用包含主要由氧化銅(Ⅱ)和二氧化錳組成的金屬氧化物的清洗劑(與堿金屬化合物一起加入)的方法中，可通過加入堿金屬化合物來抑制清洗劑的還原。但該方法又不能實現令人滿意的清洗效果。在使用包含主要由氧化銅(Ⅱ)和二氧化錳組成的金屬氧化物的清洗劑(與鈷(Ⅱ)化合物一起加入)的方法中，可以實現高效清洗，因為鈷(Ⅱ)化合物不僅用作氫氣還原的抑制劑，而且還與烷基金屬氫化物反應形成配合物。但已發現，曾經吸附到該清洗劑上的烷基金屬氫化物在長時間放置時會被解吸，因為該配合物不穩定。因此，本發明的一個目的是提供一種清洗劑和一種清洗包含以下通式所示有機金屬化合物的有害氣體的清洗方法Rm-M-Hn，其中R、M、m和n定義如上，它具有優異的清洗效果且吸附到該清洗劑上的有機金屬化合物不會解吸。本發明人根據以上目的進行了深入研究，已經發現，包含BET比表面積為10米2/克或更高的氧化銅(Ⅱ)作為主組分的單組分清洗劑、或每1重量份的BET比表面積為10米2/克或更高的氧化銅(Ⅱ)包含0.3重量份或更低的BET比表面積為130米2/克或更高的二氧化錳作為主組分的雙組分清洗劑具有高清洗效率，而不會產生氫氣還原以及吸附在清洗劑上的有害組分的解吸，盡管本領域認為僅包含一般用于已知清洗劑的具有較小比表面積的氧化銅(Ⅱ)的單組分試劑、以及包含分別具有較小比表面積的氧化銅(Ⅱ)和二氧化錳的雙組分混合物由于它們的低清洗效率而不是有效的清洗劑。本發明在此發現的基礎上得以完成。因此，在第一方面，本發明提供了一種用于清洗包含以下通式所示有機金屬化合物作為有害組分的有害氣體的清洗劑Rm-M-Hn其中R為烷基，M為As、P、S、Se或Te，且m和n分別為正整數，滿足等式m+n=M的化合價，該清洗劑包含BET比表面積為10米2/克或更高的氧化銅(Ⅱ)作為有效組分。在本發明的第二方面，提供了一種用于清洗包含以下通式所示有機金屬化合物作為有害組分的有害氣體的清洗劑Rm-M-Hn其中R為烷基，M為As、P、S、Se或Te，且m和n分別為正整數，滿足等式m+n=M的化合價，該清洗劑包含1重量份的BET比表面積為10米2/克或更高的氧化銅(Ⅱ)，0.3重量份或更低的BET比表面積為130米2/克或更高的二氧化錳作為有效組分。在本發明的第三方面，提供了一種清洗包含以下通式所示有機金屬化合物作為有害組分的有害氣體的方法Rm-M-Hn其中R為烷基，M為As、P、S、Se或Te，且m和n分別為正整數，滿足等式m+n=M的化合價，該方法包括將該有害氣體與包含BET比表面積為10米2/克或更高的氧化銅(Ⅱ)作為有效組分的清洗劑進行接觸。在本發明的第四方面，提供了一種清洗包含以下通式所示有機金屬化合物作為有害組分的有害氣體的方法Rm-M-Hn其中R為烷基，M為As、P、S、Se或Te，且m和n分別為正整數，滿足等式m+n=M的化合價，該方法包括將該有害氣體與包含1重量份的BET比表面積為10米2/克或更高的氧化銅(Ⅱ)和0.3重量份或更低的BET比表面積為130米2/克或更高的二氧化錳作為有效組分的清洗劑進行接觸。按照本發明的清洗劑和清洗方法可用于清洗包含以下通式所示有害有機金屬化合物的包括氮氣、氬氣、氦氣或氫氣的有害氣體Rm-M-Hn其中R為烷基，M為As、P、S、Se或Te，且m和n分別為正整數，滿足等式m+n=M的化合價。按照本發明的清洗劑包含BET比表面積為10米2/克或更高的氧化銅(Ⅱ)作為有效組分，或包含1重量份的BET比表面積為10米2/克或更高的氧化銅(Ⅱ)和0.3重量份或更低的BET比表面積為130米2/克或更高的二氧化錳作為有效組分。本發明的清洗方法包括將有害氣體與這些清洗劑之一進行接觸的步驟。通過使用本發明的清洗劑和清洗方法，可甚至在常溫下迅速去除大量的有害氣體。例如，本發明的清洗劑和清洗方法在迅速清洗來自半導體制造工藝的廢氣或被罐泄漏有害物質污染的空氣時具有優異的效果。在結構式Rm-M-Hn中，R為烷基，優選為具有3-5個碳原子的直鏈或支鏈烷基，更優選異丙基和叔丁基。M為As、P、S、Se或Te。下標“m”和“n”分別為正整數，滿足等式m+n=M的化合價。“m”優選為1。烷基金屬氫化物的例子包括叔丁基砷(t-C4H9AsH2)、異丙基砷(t-C3H7AsH2)、叔丁基膦(t-C4H9pH值2)、異丙基膦(t-C3H7PH值2)、叔丁基硫醇(t-C4H9SH)、異丙基硫醇(t-C3H7SH)、叔丁基硒醇(t-C4H9SeH)、異丙基硒醇(t-C3H7SeH)、叔丁基碲醇(t-C4H9TeH)、異丙基碲醇(t-C3H7TeH)、等。用于本發明清洗劑的氧化銅(Ⅱ)的BET比表面積為10米2/克或更高，優選50-150米2/克(以下可僅稱作“高比表面積氧化銅(Ⅱ)”)。使用BET比表面積低于10米2/克的氧化銅(Ⅱ)不能實現高效清洗。BET比表面積超過150米2/克的氧化銅(Ⅱ)也可用于本發明，但具有這種高BET比表面積的氧化銅(Ⅱ)由于難以在生產過程中過濾和漂洗而存在局限性。通過利用氧化銅(Ⅱ)的這種大BET比表面積，本發明的清洗劑可與烷基金屬氫化物形成一種穩定的化合物，這樣可有效地防止吸附烷基金屬氫化物從清洗劑上解吸。此外，利用這種大BET比表面積，可實現高效清洗而無需使用已用于已有技術中的堿金屬化合物和鈷(Ⅱ)化合物來增強已知氧化物基清洗劑的清洗效果。但應該注意，本發明并不排除加入堿金屬化合物和鈷(Ⅱ)化合物。高比表面積氧化銅(Ⅱ)可通過各種方法來生產，例如將作為中和劑的銨鹽加入高純度硝酸銅的水溶液中以沉淀出細顆粒，然后水洗，干燥，隨后煅燒該細顆粒(日本專利申請公開2-145422)。用于本發明清洗劑的二氧化錳的BET比表面積為130米2/克或更高，優選175米2/克或更高(以下僅稱作“高比表面積二氧化錳”)。BET比表面積的上限由于生產局限而為約400米2/克。使用BET比表面積低于130米2/克的二氧化錳不能有效地進一步提高清洗效率。這種高比表面積二氧化錳可通過已知方法來生產，例如將稀高錳酸鉀水溶液和稀硫酸錳水溶液在加熱和攪拌下與濃硫酸混合在一起，然后洗滌并干燥所得沉淀物。本發明的清洗劑包括包含高比表面積氧化銅(Ⅱ)作為有效組分的單組分清洗劑、以及包含高比表面積氧化銅(Ⅱ)和高比表面積二氧化錳作為有效組分的雙組分清洗劑。在雙組分清洗劑中，有效組分的混合比通常為每1重量份的高比表面積氧化銅(Ⅱ)，0.3重量份或更低，優選0.05-0.2重量份的高比表面積二氧化錳。如果該混合比高于0.3重量份高比表面積二氧化錳/1重量份高比表面積氧化銅(Ⅱ)，清洗劑就發生非所需的氫氣還原。為了提高這種成型清洗劑的模塑性和強度，優選使用粘合劑來制備該清洗劑。粘合劑的例子包括有機粘合劑如聚乙烯醇、聚乙二醇、聚丙二醇、甲基纖維素、羥丙基甲基纖維素和羧甲基纖維素、以及無機粘合劑如硅石、礬土、硅藻土、硅酸鈉和硫酸氫鈉。在制備清洗劑時，可加入粘合劑并僅與高比表面積氧化銅(Ⅱ)、僅與高比表面積二氧化錳、或與其混合物中的任何一種進行捏合。粘合劑的加入量隨著相應組分的含量、模塑條件等而變化，因此并不特別限定。但大量過量地加入會降低清洗效率。因此，粘合劑的加入量優選為基于清洗劑總重的10％重量或更低，更優選5％重量或更低。此外，該清洗劑可包含雜質或惰性物質，只要它們不對其清洗效率產生不利影響。盡管該清洗劑在干燥態下具有優異的清洗效率，但該清洗劑可包含基于清洗劑總重15％重量或更低的水。與粘合劑、雜質、惰性物質、水或類似物的存在無關，有效組分或多種有效組分的含量優選為基于清洗劑總重的75％重量或更高，更優選90％重量或更高。按照本發明的清洗劑的尺寸和形狀并不特別限定。例如，該清洗劑可成型為球狀、圓柱狀、管狀、粒狀或類似形狀。球狀清洗劑的直徑可以是約0.5-10毫米。圓柱狀如顆粒狀或片狀清洗劑的直徑可以是約0.5-10毫米且高度為約2-20毫米。以篩孔尺寸計，粒狀或不規則形狀的清洗劑的尺寸為約0.84-5.66毫米。清洗劑在填充至清洗塔時的填充密度隨著其形狀和生產方法而變化，且優選為約0.4-2.0克/毫升。清洗劑通常填充在清洗塔中并用作固定床。但清洗劑也可以移動床或流化床的形式使用。一般來說，將包含烷基金屬氫化物的有害氣體經過一個填充有清洗劑的清洗塔并與清洗劑接觸，這樣可通過去除有害的烷基金屬氫化物來清洗有害氣體。本發明的清洗方法并不需要加熱和冷卻，因此清洗劑與待處理氣體間的接觸溫度為100℃或更低，優選室溫左右(10-50℃)。盡管溫度有時由于清洗過程開始之后所產生的反應熱而升高10-40℃，但不用擔心在清洗過程中產生過多的熱。清洗過程的壓力并不特別限定。清洗過程通常在常壓下、以及在減壓下或在約0.1MPa表壓的壓力下進行。通過本發明處理的氣體可包括包含有害烷基金屬氫化物的氮氣、氬氣、氦氣、氫氣或類似氣體，而且可以是干燥態或高濕態，只要不產生水分冷凝。烷基金屬氫化物在氣體中的濃度以及通過本發明方法處理的氣體的流速并不特別限定。一般來說，流速隨著濃度的增加而下降。烷基金屬氫化物的濃度通常為1％或更低。但包含較高濃度烷基金屬氫化物的有害氣體可通過降低流速而由本發明方法來處理。清洗塔根據待處理氣體的量以及烷基金屬氫化物的濃度來適當設計，且優選設計使得，對于低于0.1％的較低濃度，空塔線速度(LV)為0.5-50厘米/秒；對于約0.1-1％的濃度，為0.05-20厘米/秒；且對于高于1％的較高濃度，為10厘米/秒或更低。本發明通過以下實施例進行更詳細描述。但應該注意，以下實施例是說明性的而并不用于限定本發明。(A)氧化銅(Ⅱ)的制備三種具有不同BET比表面積的氧化銅(Ⅱ)制備如下。(A-1)BET比表面積為80米2/克的氧化銅(Ⅱ)的制備在室溫下，將溶解在2905克硝酸中的95.3克銅的溶液在10分鐘內加入溶解在2880克水中的120克氫氧化鈉的水溶液中。在室溫下攪拌所形成的沉淀物3小時，然后過濾分離，用6千克離子交換水洗滌3次并再次過濾得到氫氧化銅濾餅，然后在80℃下干燥12小時并在380℃下煅燒3小時，得到粉狀氧化銅(Ⅱ)。通過氣體吸附測量設備“AUTOSORB3B”(由YUASAIONICSCo.,Ltd.制造)測定的該粉狀氧化銅(Ⅱ)的BET比表面積為80米2/克。(A-2)其它氧化銅的制備按照制備BET比表面積為80米2/克的氧化銅(Ⅱ)時的相同方式，只是將煅燒條件改變成450℃下5小時或600℃下5小時，制備出兩種BET比表面積分別為50米2/克和15米2/克的氧化銅(Ⅱ)。(B)二氧化錳的制備四種具有不同BET比表面積的二氧化錳制備如下。(B-1)BET比表面積為243米2/克的二氧化錳的制備在70℃下，將8.46千克3％重量硫酸錳水溶液與144克濃硫酸的混合物迅速倒入398克高錳酸鉀在12.5千克水中的水溶液以進行反應。在90℃下攪拌包含沉淀物的反應混合物3小時之后，過濾收集沉淀物，用25千克離子交換水分三批進行洗滌并進一步過濾，這樣得到1200克二氧化錳濾餅。將所得二氧化錳濾餅在90℃下干燥12小時，得到350克粉狀二氧化錳。通過氣體吸附測量設備“AUTOSORB3B”(由YUASAIONICSCo.,Ltd.制造)測定的該粉狀氧化銅(Ⅱ)的BET比表面積為243米2/克。(B-2)其它二氧化錳的制備重復制備方法(B-1)的相同步驟，只是改變高錳酸鉀水溶液的水量、硫酸錳水溶液的濃度和量、以及離子交換水的量，這樣得到BET比表面積分別為182米2/克、138米2/克和123米2/克的三種二氧化錳。(C)清洗測試實施例1將100克BET比表面積為80米2/克的粉狀氧化銅(Ⅱ)與0.5克羥丙基甲基纖維素粘合劑的混合物均勻捏合成餅，然后由擠塑機擠出成直徑1.8毫米的線料。將該線料切成長度約5-10毫米的粒料，然后在90℃下干燥12小時，得到清洗劑(A)(水含量1.0％重量)。將清洗劑(A)(100毫升)填充在內徑20毫米的石英清洗塔中，將包含3000ppm叔丁基膦作為有害組分的干燥氮氣在20℃下和在常壓下以349毫升/分鐘的速率(空塔線速度為1.85厘米/秒)由其通過。將來自清洗塔出口的一部分廢氣取樣，然后使用承載在硅膠上的氯化鈷(著色組分)作為指示劑(檢測下限10ppm)來測定在取樣氣體中檢測到叔丁基膦所需的時間(有效處理時間)。由該測量值，計算出每升清洗劑的叔丁基膦去除量(在20℃下，在常壓下的升數)作為對清洗效率的度量。結果在表1中給出。實施例2和3重復實施例1的相同清洗測試，只是將叔丁基膦的濃度改變至500ppm(實施例2)和10000ppm(實施例3)。結果在表1中給出。實施例4和5重復實施例1中制備清洗劑(A)的相同步驟，只是使用BET比表面積為50米2/克(實施例4)或15米2/克(實施例5)的粉狀氧化銅(Ⅱ)，這樣分別得到清洗劑(B)和(C)。清洗劑(B)和(C)的水含量都在0.5-1.5％重量的范圍內。使用清洗劑(B)和(C)來重復實施例1的相同清洗測試。結果在表1中給出。實施例6-8重復實施例1、4和5的相同清洗測試，只是使用叔丁基砷作為有害組分替代叔丁基膦。結果在表1中給出。實施例9-16重復實施例1的相同清洗測試，只是使用表1所示各種有害組分來替叔丁基膦。結果在表1中給出。使用包含硅膠承載氯化金和作為著色組分的銅鹽的指示劑(檢測下限10ppm)來檢測除了異丁基膦和異丁基砷的其它有害氣體。對比例1和2重復實施例1中制備清洗劑(A)時的相同步驟，只是使用BET比表面積為5米2/克(對比例1)或1米2/克(對比例2)的市售粉狀氧化銅(Ⅱ)，這樣分別得到清洗劑(a)和(b)。清洗劑(a)和(b)的水含量都在0.5-1.5％重量的范圍內。使用清洗劑(a)和(b)來重復實施例1的相同清洗測試。結果在表1中給出。對比例3和4重復對比例1和2的相同清洗測試，只是使用叔丁基砷作為有害組分替代叔丁基膦。結果在表1中給出。表1實施例17將100克BET比表面積為80米2/克的粉狀氧化銅(Ⅱ)與10克BET比表面積為243米2/克的粉狀二氧化錳(氧化銅(Ⅱ)與二氧化錳的重量比為1∶0.1)的混合物與0.55克羥丙基甲基纖維素粘合劑均勻捏合成餅，然后由擠塑機擠出成直徑1.8毫米的線料。將該線料切成長度約5-10毫米的粒料，然后在90℃下干燥12小時，得到清洗劑(D)(水含量1.0％重量)。將清洗劑(D)(100毫升)填充在內徑20毫米的石英清洗塔中，將包含3000ppm叔丁基膦作為有害組分的干燥氮氣在20℃下和在常壓下以349毫升/分鐘的速率(空塔線速度為1.85厘米/秒)由其通過。將來自清洗塔出口的一部分廢氣取樣，然后使用承載在硅膠上的氯化鈷(著色組分)作為指示劑(檢測下限10ppm)來測定在取樣氣體中檢測到叔丁基膦所需的時間(有效處理時間)。由該測量值，計算出每升清洗劑的叔丁基膦去除量(在20℃下，在常壓下的升數)作為對清洗效率的度量。結果在表2中給出。實施例18和19重復實施例17的相同清洗測試，只是叔丁基膦的濃度改變為500ppm(實施例18)和10000ppm(實施例19)。結果在表2中給出。實施例20和21重復實施例17中制備清洗劑(D)時的相同步驟，只是將氧化銅(Ⅱ)與二氧化錳的重量比改變為1∶0.05(實施例20)或1∶0.2(實施例21)，這樣分別得到清洗劑(E)和(F)。清洗劑(E)和(F)的水含量都在0.5-1.5％重量的范圍內。使用清洗劑(E)和(F)來重復實施例17的相同清洗測試。結果在表2中給出。實施例22和23重復實施例17中制備清洗劑(D)時的相同步驟，只是使用BET比表面積為182米2/克(實施例22)或138米2/克(實施例23)的粉狀二氧化錳，這樣分別得到清洗劑(G)和(H)。清洗劑(G)和(H)的水含量都在0.5-1.5％重量的范圍內。使用清洗劑(G)和(H)來重復實施例17的相同清洗測試。結果在表2中給出。實施例24重復實施例17中制備清洗劑(D)時的相同步驟，只是使用BET比表面積為50米2/克的粉狀氧化銅(Ⅱ)，這樣得到清洗劑(Ⅰ)。清洗劑(Ⅰ)的水含量為0.9％重量。使用清洗劑(Ⅰ)來重復實施例17的相同清洗測試。結果在表2中給出。實施例25重復實施例17中制備清洗劑(D)時的相同步驟，只是使用BET比表面積為50米2/克的粉狀氧化銅(Ⅱ)和BET比表面積為182米2/克的粉狀二氧化錳，這樣得到清洗劑(J)。清洗劑(J)的水含量為0.8％重量。使用清洗劑(J)來重復實施例17的相同清洗測試。結果在表2中給出。實施例26重復實施例17中制備清洗劑(D)時的相同步驟，只是使用BET比表面積為15米2/克的粉狀氧化銅(Ⅱ)和BET比表面積為182米2/克的粉狀二氧化錳，這樣得到清洗劑(L)。清洗劑(L)的水含量為0.9％重量。使用清洗劑(L)來重復實施例17的相同清洗測試。結果在表2中給出。實施例28-36重復實施例17中制備清洗劑(D)時的相同步驟，只是使用表2所示各種有害組分來替代叔丁基膦。結果在表2中給出。使用包含硅膠承載氯化金和作為著色組分的銅鹽的指示劑(檢測下限10ppm)來檢測除了異丁基膦和異丁基砷的其它有害氣體。對比例5和6重復實施例1中制備清洗劑(D)時的相同步驟，只是使用BET比表面積為5米2/克(對比例5)或1米2/克(對比例6)的粉狀氧化銅(Ⅱ)，這樣分別得到清洗劑(c)和(d)。清洗劑(c)和(d)的水含量都在0.5-1.5％重量的范圍內。使用清洗劑(c)和(d)來重復實施例17的相同清洗測試。結果在表2中給出。表2<tablesid="table2"num="002"><table>CuO比表面積[米2/克]MnO2的比表面積[米2/克]重量比(MnO2/CuO)實施例17實施例18實施例19實施例20實施例21實施例22實施例23實施例24實施例25實施例26實施例27實施例28實施例29實施例30實施例31實施例32實施例33實施例34實施例35實施例36對比例5對比例68080808080808050501515808080808080808080512432432432432431821382431822431822432432432432432432432432432432430.10.10.10.050.20.10.1O.10.10.1O.10.10.10.1O.10.1O.10.10.10.10.10.1</table></tables>表2(續)(D)清洗處理后的解吸測試在實施例1-36的清洗測試中，在檢測取樣氣體中的有害組分時停止有害氣體的流動，然后僅將干燥氮氣通過該清洗塔24小時。在干燥氮氣通過的過程中，沒有在該清洗塔的廢氣中檢測到從清洗劑上解吸的任何有害組分。這表明，本發明的清洗劑A-L強力并穩定地吸附有害組分。如上所述，按照本發明的清洗劑和清洗方法，可以高清洗效率清洗包含以下通式所示有害有機金屬化合物的有害氣體Rm-M-Hn其中R、M、m和n定義如上，而所吸附的有害組分不會解吸。權利要求1．一種用于清洗包含以下通式所示有機金屬化合物作為有害組分的有害氣體的清洗劑Rm-M-Hn其中R為烷基，M為As、P、S、Se或Te，且m和n分別為正整數，滿足等式m+n=M的化合價，該清洗劑包含BET比表面積為10米2/克或更高的氧化銅(Ⅱ)作為有效組分。2．一種用于清洗包含以下通式所示有機金屬化合物作為有害組分的有害氣體的清洗劑Rm-M-Hn其中R為烷基，M為As、P、S、Se或Te，且m和n分別為正整數，滿足等式m+n=M的化合價，該清洗劑包含1重量份的BET比表面積為10米2/克或更高的氧化銅(Ⅱ)和0.3重量份或更低的BET比表面積為130米2/克或更高的二氧化錳作為有效組分。3．根據權利要求1或2的清洗劑，它還包含粘合劑。4．根據權利要求3的清洗劑，其中所述粘合劑選自聚乙烯醇、聚乙二醇、聚丙二醇、甲基纖維素、羥丙基甲基纖維素、羧甲基纖維素、硅石、礬土、硅藻土、硅酸鈉和硫酸氫鈉。5．根據權利要求1-4中任何一項的清洗劑，其中所述有效組分或多種有效組分的含量為基于清洗劑總重的75％重量或更高。6．根據權利要求1-5中任何一項的清洗劑，其中所述有機金屬化合物的烷基為叔丁基或異丙基。7．一種清洗包含以下通式所示有機金屬化合物作為有害組分的有害氣體的方法Rm-M-Hn其中R為烷基，M為As、P、S、Se或Te，且m和n分別為正整數，滿足等式m+n=M的化合價，該方法包括將該有害氣體與包含BET比表面積為10米2/克或更高的氧化銅(Ⅱ)作為有效組分的清洗劑進行接觸。8．一種清洗包含以下通式所示有機金屬化合物作為有害組分的有害氣體的方法Rm-M-Hn其中R為烷基，M為As、P、S、Se或Te，且m和n分別為正整數，滿足等式m+n=M的化合價，該方法包括將該有害氣體與包含1重量份的BET比表面積為10米2/克或更高的氧化銅(Ⅱ)和0．3重量份或更低的BET比表面積為130米2/克或更高的二氧化錳作為有效組分的清洗劑進行接觸。9．根據權利要求7或8的方法，其中所述有機金屬化合物的烷基為叔丁基或異丙基。全文摘要本發明公開了一種用于清洗包含以下通式所示有機金屬化合物作為有害組分的有害氣體的清洗劑和清洗方法:Rm－M－Hn其中R為烷基,M為As、P、S、Se或Te,且m和n分別為正整數,滿足等式:m+n=M的化合價。該清洗劑包含氧化銅(Ⅱ)或氧化銅(Ⅱ)與二氧化錳的混合物作為有效組分。氧化銅(Ⅱ)的BET比表面積為10米文檔編號C23C16/44GK1295875SQ0013374公開日2001年5月23日申請日期2000年10月27日優先權日1999年10月29日發明者大塚健二,網島豐,長谷見隆司,名和洋二申請人:日本派歐尼股份株式會社