專利名稱：新型高真空激光鍍膜機的制作方法
技術領域：
本發明為熱處理行業領域，特別是一種利用激光加熱來實現真空鍍膜的設備。
背景技術：
目前的真空鍍膜機，其蒸發源主要是依靠電阻加熱或中頻加熱的方式來對 蒸發源進行加熱，加熱溫度往往不太高，隨著零部件表面的耐腐蝕和耐磨性要 求的不斷增加， 一些高熔點的耐磨材料也越來越喲了更的的市場。激光真空鍍 膜也主要是解決高熔點材料在電阻和中頻加熱的情況下，蒸發源鍍膜材料無法 達到沸點溫度而蒸發的問題。

發明內容
真空激光鍍膜是用高功率激光束，聚焦照射到蒸鍍材料的表面，使其表面 溫度達到沸點溫度以上，從而來蒸發鍍膜的方法。由于激光束的能量密度高， 可以用來加熱蒸發那些高熔點的鍍膜材料，如陶瓷材料等，且能夠實現化合物 的蒸發沉積而不諱產生分餾現象，能蒸發任何高熔點材料。
具體實施例方式
該設備主要由激光器、鐘罩式雙塑水冷外殼、真空系統、電控系統、蒸發 源坩堝等組成。如圖由1激光器，通過折射將高功光束，聚焦照射到蒸發材料
的表面，即4坩堝內，從而將鍍膜材料升溫到沸點揮發，從而達到真空鍍膜的 目的。圖中5連接真空機組。
權利要求
在新型高真空狀態下，用高功率激光束，聚焦照射到蒸鍍材料的表面，使鍍膜材料的蒸發源的溫度達到沸點，從而來達到蒸膜的目的。
全文摘要
新型高真空激光鍍膜機屬于熱處理行業領域的一種靠激光加熱來實現蒸發源蒸發的真空鍍膜設備。該設備主要由激光器、鐘罩式雙塑水冷外殼、真空系統、電控系統、蒸發源坩堝等組成。如圖由1激光器，通過折射將高功光束，聚焦照射到蒸發材料的表面，即4坩堝內，從而將鍍膜材料升溫到沸點揮發，從而達到真空鍍膜的目的。圖中5連接真空機組。
文檔編號C23C14/26GK101497989SQ20081024280
公開日2009年8月5日 申請日期2008年12月26日 優先權日2008年12月26日
發明者顧嘯強 申請人:蘇州市萬泰真空爐研究所有限公司