本發明涉及鍍膜機技術領域，尤其涉及一種金屬化薄膜加厚用二次真空鍍膜機。

背景技術：

金屬化薄膜作為電容器的主要部件，其質量的好壞直接影響電容器的使用壽命。目前，金屬化薄膜主要通過真空鍍膜機加工制備，包括絕緣薄膜喂入機構、鍍膜機構、以及鍍入金屬層后的薄膜卷繞機構。然而，現有技術的真空鍍膜機存在以下不足之處：

（1）鍍膜機構通過蒸發舟熔融金屬，使得金屬蒸發至蒸鍍鼓表面的絕緣薄膜，形成金屬層，實現鍍膜工藝。但是，傳統的鍍膜機構其蒸鍍鼓與蒸發舟之間的距離多為定值；而且，蒸發舟的開口大小也是固定的，根據基膜上金屬鍍層的厚度t₀=w₀/（πph²），可知，通過調節蒸發舟的開口大小以及蒸鍍鼓與蒸發舟之間的距離能控制金屬鍍層的厚度。

（2）有的金屬化薄膜在鋁膜的基礎上，再在中間區域再鍍入一層加強層，通過二次鍍膜提高薄膜的耐壓性能以及自愈性能，因此，要求對應的鍍膜配制兩套蒸發舟，其中，與加強層對應蒸發舟的開口處需要設置屏蔽裝置，如專利申請200810200949.0一種鋁加厚金屬化電容器用薄膜的真空蒸發鍍膜機、專利申請201310324470.9一種軟繞蒸發式真空鍍膜機，通過屏蔽裝置實現區域加厚效果。但是，現有的技術的屏蔽裝置也多為固定式，另外屏蔽裝置上的通槽結構、形狀不可變，導致一臺設置只能加工一種型號的膜，若能實現屏蔽裝置自動可換、蒸發舟開口面積以及其與蒸鍍鼓之間的間距可調，則能滿足多種型號膜的生產。

（3）絕緣薄膜在運輸過程中，若張力不均，會發現浮起的現象，影響薄膜的正常傳輸。

技術實現要素：

本發明針對現有技術的不足，提供一種的適用多種型號膜的加工、鍍膜厚度可調、傳輸平穩的金屬化薄膜加厚用二次真空鍍膜機。

本發明通過以下技術手段實現解決上述技術問題的：一種金屬化薄膜加厚用二次真空鍍膜機，包括真空室以及設置在所述真空室中的喂入機構、鍍膜機構、卷繞機構；所述喂入機構、鍍膜機構、卷繞機構按照工藝流程從前至后依次設置；在所述喂入機構與鍍膜機構之間、所述鍍膜機構與卷繞機構之間均設置有薄膜限位裝置；所述薄膜限位裝置包括上薄膜限位組件以及下薄膜限位組件；所述上薄膜限位組件位于絕緣薄膜的上方，所述下薄膜限位組件位于薄膜的下方；所述上薄膜限位組件、下薄膜限位組件相向運動用以對薄膜進行限位；

所述鍍膜機構包括第一蒸發鍍膜裝置、第二蒸發鍍膜裝置；所述第一蒸發鍍膜裝置包括第一蒸鍍鼓、第一蒸發舟；所述第一蒸發舟設置在所述第一蒸鍍鼓的下方；所述第一蒸發舟的頂部開口區域設置有調節所述第一蒸發舟開口大小的第一活動板組件；

所述第二蒸發鍍膜裝置包括第二蒸鍍鼓、第二蒸發舟、屏蔽裝置；所述第二蒸發舟設置在所述第二蒸鍍鼓的下方；所述第二蒸發舟的頂部開口區域設置有調節所述第二蒸發舟開口大小的第二活動板組件；所述屏蔽裝置用以限定從所述第二蒸發舟的開口處蒸發出的金屬落在絕緣薄膜上的寬度、區域。

優選地：所述上薄膜限位組件包括上升降機構、上限位板，所述上升降機構的固定端設置在所述真空室的內頂壁上，所述上升降機構的伸縮端與所述上限位板連接；所述下薄膜限位組件包括下升降機構、下限位板，所述下升降機構的固定端設置在所述真空室的內底壁上，所述下升降機構的伸縮端與所述下限位板連接。

優選地：在所述上限位板的底部、下限位板的頂部均設置有橡膠層。

優選地：所述第一活動板組件包括第一左活動板、第一右活動板、第一左伸縮裝置、第一右伸縮裝置；所述第一左活動板中位置較低的一端與所述第一蒸發舟的頂部的一端鉸接，其位置較高的一端位自由端；所述第一左伸縮裝置的固定端與所述第一蒸發舟的外壁鉸接，所述第一左伸縮裝置的伸縮端與所述第一左活動板鉸接；

所述第一右活動板中位置較低的一端與所述第一蒸發舟的頂部的另一端鉸接，其位置較高的一端為自由端，所述第一右伸縮裝置的固定端與所述第一蒸發舟的外壁鉸接，所述第一右伸縮裝置的伸縮端與所述第一右活動板鉸接。

優選地：所述第一蒸發鍍膜裝置的下方設置有第三升降機構，所述第三升降機構用以帶動所述第一蒸發鍍膜裝置升降運動。

優選地：所述第二活動板組件包括第二左活動板、第二右活動板、第二左伸縮裝置、第二右伸縮裝置；所述第二左活動板中位置較低的一端與所述第二蒸發舟的頂部的一端鉸接，其位置較高的一端為自由端；所述第二左伸縮裝置的固定端與所述第二蒸發舟的外壁鉸接，所述第二左伸縮裝置的伸縮端與所述第二左活動板鉸接；

所述第二右活動板中位置較低的一端與所述第二蒸發舟的頂部的另一端鉸接，其位置較高的一端為自由端，所述第二右伸縮裝置的固定端與所述第二蒸發舟的外壁鉸接，所述第二右伸縮裝置的伸縮端與所述第二右活動板鉸接。

優選地：所述屏蔽裝置包括連桿傳動屏蔽機構，包括固定座、屏蔽板、第二伸縮裝置；所述固定座中位置較低的一端通過基座設置在所述真空室的內底壁上，所述固定座中位置較高的一端與所述屏蔽板的一端鉸接，所述屏蔽板的另一端能從所述二蒸發舟的開口處的一端延伸至另一端；所述第二伸縮裝置的伸縮端與所述屏蔽板鉸接，其固定端與固定座鉸接；所述屏蔽板上設置有通槽，所述通槽的導向平行于絕緣薄膜傳輸方向。

優選地：連桿傳動屏蔽機構數量為兩個，且對稱設置在所述第二蒸發舟的兩側。

優選地：所述第二蒸發鍍膜裝置的下方設置有第四升降機構，所述第四升降機構用以帶動所述第二蒸發鍍膜裝置升降運動。

本發明的優點在于：本發明具有適用多種型號膜的加工、鍍膜厚度可調、輸平穩的優點。

進一步，通過第一左伸縮裝置、第一右伸縮裝置的伸縮運動，帶動第一左活動板、第一右活動板的自由端背離或者相向運動，從而控制開口大小，達到調節鍍膜量的技術效果。

進一步，第三升降機構升降運動帶動第一蒸發舟靠近或者遠離第一蒸鍍鼓，通過調節第一蒸發舟與第一蒸鍍鼓的距離來是實現鍍膜量調節的技術效果。

進一步，通過第二伸縮裝置的伸縮運動帶動屏蔽板轉動，需要屏蔽時，將屏蔽板轉動至水平位置。此時，從第二蒸發舟中的金屬只能通過通槽鍍在絕緣薄膜的中間區域，實現選擇性加厚的技術效果。

進一步，連桿傳動屏蔽機構數量為兩個，且對稱設置在第二蒸發舟的兩側。不同屏蔽板上的通槽寬度不同。本發明通過提供具有不同通槽寬度的通槽寬度，實現加厚寬度的可選擇性，便于不同型號薄膜的加工。

進一步，當絕緣薄膜在傳輸時，通過上升降機構、下升降機構控制上限位板、下限位板間距，對薄膜進行豎直方向的限位，防止薄膜在傳送過程中由于張力不均而產生的浮動現象，保證薄膜平穩傳輸。

附圖說明

圖1為本發明的結構示意圖。

圖2為本發明中喂入機構靠近第三接近開關狀態下結構示意圖。

圖3為本發明中卷繞機構靠近第六接近開關狀態下結構示意圖。

圖4為本發明中喂入裝置的結構示意圖。

圖5為本發明中卷繞裝置的結構示意圖。

圖6為本發明中喂入輥在工作狀態下的結構示意圖。

圖7為本發明中卷繞輥在工作狀態下的結構示意圖。

圖8為本發明中第一接近開關未與第一擋板相對狀態下的的結構示意圖。

圖9為本發明中第一接近開關與第一擋板相對狀態下的的結構示意圖。

圖10為本發明中第二接近開關未與第二擋板相對狀態下的的結構示意圖。

圖11為本發明中第二接近開關與第二擋板相對狀態下的的結構示意圖。

圖12為本發明中自動輸送裝置的結構示意圖。

圖13為本發明中預加熱機構的結構示意圖。

圖14為本發明中帶有橡膠層的夾持板的結構示意圖。

圖15為本發明中第一蒸發鍍膜裝置的結構示意圖。

圖16為本發明中第二蒸發鍍膜裝置的結構示意圖。

具體實施方式

為進一步描述本發明，下面結合實施例對其作進一步說明。

如圖1所示，本發明公開一種金屬化薄膜加厚用二次真空鍍膜機，包括真空室401以及設置在真空室401中的喂入機構、鍍膜機構、卷繞機構。喂入機構、鍍膜機構、卷繞機構按照工藝流程從前至后依次設置。

如圖1所示，喂入機構包括第一升降機構101、喂入裝置。第一升降機構101的伸縮端與喂入裝置配合用以帶動喂入裝置上下運動。

如圖1所示，真空室401包括進入端的進室門4011以及出口端的出室門4012。

如圖1所示，喂入裝置包括第一支撐架、第一轉動圓筒1022、喂入輥1023。第一轉動圓筒1022與第一支撐架轉動配合，且第一轉動圓筒1022能繞著自身的中心軸旋轉。若干根喂入輥1023繞著第一轉動圓筒1022的中心軸分布在第一轉動圓筒1022上且喂入輥1023能繞著自身的中心軸旋轉。

如圖4所示，作為優選的方案，第一轉動圓筒1022包括相對設置的第一左圓板10221、第一右圓板10222。第一左圓板10221、第一右圓板10222之間通過第一轉軸10223連接，第一轉軸10223的一端露出第一左圓板10221的中心與第一支撐架的一端轉動配合，第一轉軸10223的另一端露出第一右圓板10222的中心與第一支撐架的另一端轉動配合。喂入輥1023的端部與對應的圓板轉動配合。

上述的各轉動連接均優選通過第一軸承（圖中未畫出）來實現。如第一轉軸10223的端部通過第一軸承與第一支撐架對應的端部連接。喂入輥1023的端部通過第二軸承與對應的圓板連接。

上述的各轉動連接也優選是第一轉軸10223的端部穿過第一支撐架對應端部上的通孔，喂入輥1023的端部穿過對應圓板的上的通孔，端部能在對應的通孔里旋轉實現。當然，第一轉軸10223的端部與第一支撐架之間、喂入輥1023的端部與對應圓板的轉動方式也能采用其他現有的技術來實現。

如圖4所示，作為優選的方案，第一轉軸10223的另一端露出第一右圓板10222的中心與第一驅動裝置1024的輸入軸連接，第一驅動裝置1024的固定端設置在第一支撐架的另一端。

如圖4所示，作為優選的方案：喂入機構還包括第一接近感應機構。第一接近感應機構包括第一擋板1031、第一接觸件。第一擋板1031中位置較高的一端轉動配合地套設在第一支撐架上端的固定橫桿10213上，第一擋板1031中位置較低的一端與第一接觸件中位置較高的一端連接，第一接觸件中位置較低的一端能與處于喂入狀態的喂入輥1023中的絕緣薄膜501的最外層接觸。第一接近開關1033相對第一擋板1031設置在固定橫桿10213上。

如圖4、6所示，作為優選的方案：第一接觸件包括第一連接桿10321、第一滾輪10322，第一滾輪10322與絕緣薄膜501的最外層滾動接觸。第一連接桿10321位置較高的一端與第一擋板1031中位置較低的一端連接，第一連接桿10321位置較底的一端通過銷軸（圖中未標出）與第一滾輪10322轉動配合。

如圖1、12所示，作為優選的方案：喂入機構還包括第一自動輸送裝置，第一自動輸送裝置包括第一殼體1041、第一滾動輪1042。第一升降機構101設置在第一殼體1041上，第一滾動輪1042安裝在第一殼體1041的底部，第一滾動輪1042通過第二驅動裝置1043驅動。在真空室401中設置有第二接近開關105，第二接近開關105用以監測喂入機構在真空室401中的位置，真空室401外側靠近真空室401的進入端處設置有第三接近開關106，第三接近開關106用以監測喂入機構在真空室401外的位置。

如圖12所示，作為優選的方案：真空室401中設置有與第一自動輸送裝置配合的第一導軌107。第一滾動輪1042的底部嵌入至第一導軌107中。

如圖1所示，本發明的第一驅動裝置1024、第二驅動裝置1043通過控制器驅動，在真空室401內或者室外設置操作臺701，在操作臺701內設置該控制器。本發明的第一驅動裝置1024、第二驅動裝置1043優選為伺服馬達或者伺服電機。

如圖1、2、4、12所示，將纏繞有絕緣薄膜501的各個喂入輥1023依次放置在第一轉動圓筒1022上，將距離鍍膜機構最近的喂入輥1023中的絕緣薄膜501喂入進行鍍膜處理，當該喂入輥1023中的絕緣薄膜501接近退繞完全時，第一擋板1031旋轉至與第一接近開關1033對應的位置，第一接近開關1033發出信號至控制器，控制器驅動第二驅動裝置1043轉動、驅動進室門4011開啟、控制真空箱內其他元件停止工作，第二驅動裝置1043轉動帶動第一滾動輪1042沿著第一導軌107向真空室401的進入端移動，將喂入裝置移出真空室401。當喂入裝置移動至靠近第三接近開關106的位置時候，第三接近開關106發出信號至控制器，控制器控制第二驅動裝置1043停止轉動，同時驅動第一驅動裝置1024轉動，第一驅動裝置1024轉動帶動第一轉動圓筒1022轉動一定的角度，該角度為相鄰兩個喂入輥1023之間的角度。需要補充是本實施例相鄰兩個喂入輥1023之間的角度均相同。此時，工作人員將上述快退繞完全的喂入輥1023中剩余絕緣薄膜501的終端與下一個需要喂入的喂入輥1023中絕緣薄膜501的始端連接，再通過操作操作臺701上的啟動按鈕，通過控制器驅動第二驅動裝置1043反向轉動，第二驅動裝置1043轉動帶動第一滾動輪1042沿著第一導軌107向真空室401的進入端移動，當喂入裝置移動至靠近第二接近開關105的位置時候，第二接近開關105發出信號至控制器，控制器控制第二驅動裝置1043停止轉動，同時，驅動進室門4011關閉、控制真空箱內其他元件開始工作。

在有些實施例中，上述的其他元件中對真空室401進行真空處理的真空泵優先工作，當真空室401中的真空度達到設定范圍后，通過設置在真空室401內的壓力傳感器如真空傳感器發出信號至控制器，通過控制器再驅動其他元件工作。當真空室401中的真空度未達到設定范圍，其他元件停止工作。

如圖1所示，另外，由于本發明第一升降機構101通過第一支撐架108支撐喂入裝置，能夠實現喂入裝置的上下移動，若第一驅動裝置1024的轉動精度下降，能通過第一升降機構101對喂入裝置的高度進行調節，從而保證每次喂入的喂入輥1023其高度、位置一致，避免由此導致的張力不穩的現象。

進一步，本發明的第一升降機構101優選為伺服油缸或者伺服氣缸，由控制器控制。進一步，由于第一滾動輪1042的底部嵌入至導軌中，保證第一滾動輪1042不會偏離，實現運動軌跡一致的技術效果。

如圖1所示，在喂入機構與鍍膜機構之間設置有預熱機構，預熱機構用以對喂入機構喂入的絕緣薄膜501進行預熱。預熱機構優選設置在真空室401的內頂壁上。

如圖13所示，預熱機構包括連桿傳動機構、加熱器202、第一伸縮裝置203。連桿傳動機構包括固定桿2011、傳動桿2012。固定桿2011中位置較高的一端設置在真空室401的內頂壁上，固定桿2011中位置較低的一端與傳動桿2012中位置較高的一端鉸接，傳動桿2012中位置較低的一端安裝有加熱器202，加熱器202的外圍還能設置反射罩204。

如圖13所示，進一步，固定桿2011中位置較高的一端通過第二升降機構205設置在真空室401的內頂壁上。在固定桿2011與第二升降機構205之間設置有連接板206。

第一伸縮裝置203的固定端鉸接在連接板206上，第一伸縮裝置203的伸縮端與傳動桿2012鉸接。

通過第一伸縮裝置203的伸縮運動帶動傳動桿2012擺動，從而帶動加熱器202左右擺動。同時，配合第二升降機構205的升降運動，帶動加熱器202上下運動，使得加熱器202實現三維立體的運動，并能實現在同一水平面的運動，對絕緣薄膜501進行更加均勻的預熱，且能通過調節加熱器202的高度實現對加熱器202預熱強度的控制。

優選地，本發明的第一伸縮裝置203、第二升降機構205也能是伺服油缸或者伺服氣缸，通過控制器控制其工作，進一步實現自動化。

如圖1所示，作為優選的方案：在預熱機構的下方設置有皮帶傳送裝置207，皮帶傳送裝置207將從喂入機構喂入的絕緣薄膜501向鍍膜機構傳送。由于皮帶傳送為平面傳送，使得絕緣薄膜501在皮帶上平整輸送，進一步提高預熱的均勻性。

如圖1所示，鍍膜機構包括第一蒸發鍍膜裝置，包括第一蒸鍍鼓3011、第一蒸發舟3012。第一蒸發舟3012設置在第一蒸鍍鼓3011的下方。第一蒸發舟3012的頂部開口區域設置有控制第一蒸發舟3012開口大小的第一活動板組件。

如圖15所示，作為優選的方案：第一活動板組件包括第一左活動板30131、第一右活動板30132、第一左伸縮裝置30133、第一右伸縮裝置30134。第一左活動板30131中位置較低的一端與第一蒸發舟3012的頂部的一端鉸接，其位置較高的一端為自由端。第一左伸縮裝置30133的固定端與第一蒸發舟3012的外壁鉸接，第一左伸縮裝置30133的伸縮端與第一左活動板30131鉸接。

第一右活動板30132中位置較低的一端與第一蒸發舟3012的頂部的另一端鉸接，其位置較高的一端為自由端，第一右伸縮裝置30134的固定端與第一蒸發舟3012的外壁鉸接，第一右伸縮裝置30134的伸縮端與第一右活動板30132鉸接。

通過第一左伸縮裝置30133、第一右伸縮裝置30134的伸縮運動，帶動第一左活動板30131、第一右活動板30132的自由端背離或者相向運動，從而控制開口大小，達到調節鍍膜量的技術效果。

如圖1所示，進一步：第一蒸發鍍膜裝置的下方設置有第三升降機構3014，第三升降機構3014用以帶動第一蒸發鍍膜裝置升降。在第一蒸發鍍膜裝置與第三升降機構3014之間設置有第二支撐架（圖中未標出）。

第三升降機構3014升降運動帶動第一蒸發舟3012靠近或者遠離第一蒸鍍鼓3011，通過調節第一蒸發舟3012與第一蒸鍍鼓3011的距離來是實現鍍膜量調節的技術效果。

優選地，本發明的第一左伸縮裝置30133、第一右伸縮裝置30134、第三升降機構3014也能是伺服油缸或者伺服氣缸，通過控制器控制其工作，從而進一步實現自動化。

如圖1所示，鍍膜機構還包括第二蒸發鍍膜裝置，包括第二蒸鍍鼓3021、第二蒸發舟3022。第二蒸發舟3022設置在第二蒸鍍鼓3021的下方。第二蒸發舟3022的頂部開口區域設置有控制第二蒸發舟3022開口大小的第二活動板組件。

如圖16所示，第二活動板組件包括第二左活動板30231、第二右活動板30232、第二左伸縮裝置、第二右伸縮裝置。第二左活動板30231中位置較低的一端與第二蒸發舟3022的頂部的一端鉸接，其位置較高的一端為自由端。第二左伸縮裝置的固定端與第二蒸發舟3022的外壁鉸接，第二左伸縮裝置的伸縮端與第二左活動板30231鉸接。

第二右活動板30232中位置較低的一端與第二蒸發舟3022的頂部的另一端鉸接，其位置較高的一端位自由端，第二右伸縮裝置的固定端與第二蒸發舟3022的外壁鉸接，第二右伸縮裝置的伸縮端與第二右活動板30232鉸接。

第二活動板組件的作用以及工作原理與第二活動板組件的作用以及工作原理相同，本實施例在此不再累述。

如圖16所示，優選地，第二蒸發鍍膜裝置還包括屏蔽裝置3024，屏蔽裝置3024用以限定從第二蒸發舟3022的開口處蒸發出的金屬熔融落在絕緣薄膜501上的寬度、區域。屏蔽裝置3024包括連桿傳動屏蔽機構，包括固定座30241、屏蔽板30242、第二伸縮裝置30243。固定座30241中位置較低的一端通過基座30244設置在真空室401的內底壁上，固定座30241中位置較高的一端與屏蔽板30242的一端鉸接，屏蔽板30242的另一端能從二蒸發舟的開口處的一端延伸至另一端。第二伸縮裝置30243的固定端與固定座30241鉸接，第二伸縮裝置30243的伸縮端與屏蔽板30242鉸接。在屏蔽板30242上設置有通槽，通槽的導向平行于絕緣薄膜501傳輸方向。優選地，通槽位于屏蔽板30242的中間區域，當然也能在屏蔽板30242的兩邊。

通過第二伸縮裝置30243的伸縮運動帶動屏蔽板30242轉動，需要屏蔽時，將屏蔽板30242轉動至水平位置。此時，從第二蒸發舟3022中的金屬只能通過通槽鍍在絕緣薄膜501的中間區域，實現選擇性加厚的技術效果。

作為優選的方案：連桿傳動屏蔽機構數量為兩個，且對稱設置在第二蒸發舟3022的兩側。不同屏蔽板30242上的通槽寬度不同。本發明通過提供具有不同通槽寬度的通槽寬度，實現加厚寬度的可選擇性，便于不同型號薄膜的加工。

如圖1所示，作為優選的方案：第二蒸發鍍膜裝置的下方設置有第四升降機構3025，第四升降機構3025用以帶動第二蒸發鍍膜裝置升降運動。第四升降機構3025對第二蒸發鍍膜裝置的作用與第三升降機構3025對第一蒸發鍍膜裝置的作用相同。

本發明的第二左伸縮裝置、第二右伸縮裝置、第二伸縮裝置30243、第四升降機構3025也可以是伺服油缸或者伺服氣缸，通過控制器控制其工作，從而進一步實現自動化。在有些實施例中，本發明的第一蒸發舟、第二蒸發舟的外壁上還能設置隔熱層。如此，則第一、第二左伸縮裝置以及第一、第二右伸縮裝置設置在隔熱層的外壁上。隔熱層可以是鋁板以及設置在鋁板、蒸發舟之間的隔熱棉或者聚氨酯樹脂涂覆層。

如圖1所示，在喂入機構與鍍膜機構之間、鍍膜機構與卷繞機構之間均設置有薄膜夾持裝置。薄膜夾持裝置包括上薄膜夾持組件以及下薄膜夾持組件。上薄膜夾持組件位于薄膜的上方，下薄膜夾持組件位于薄膜的下方。上薄膜夾持組件、下薄膜夾持組件相向運動用以夾持薄膜。

本實施例針對喂入機構與鍍膜機構之間的薄膜夾持裝置作用進行介紹，鍍膜機構與卷繞機構之間的薄膜夾持裝置作用與喂入機構與鍍膜機構之間的薄膜夾持裝置作用如出一轍。

該裝置的作用在于配合喂入機構，當喂入機構移除真空室401準備換輥時，通過設置薄膜夾持組件對絕緣薄膜501進行夾持，使得絕緣薄膜501只能從喂入輥1023中退繞出，不會從卷繞機構中將已經鍍膜卷繞好的金屬化薄膜801退繞出，防止薄膜逆向移動。

而鍍膜機構與卷繞機構之間的薄膜夾持裝置的作用是配合卷繞機構，當卷繞機構移除真空室401準備換輥時，通過設置薄膜夾持組件對金屬化薄膜801進行夾持，使得金屬化薄膜801只能從卷繞輥中退繞出，不會從喂入機構中將未鍍膜絕緣薄膜501退繞出，防止薄膜逆向移動。

如圖1所示，作為優選的方案：上薄膜夾持組件包括上升降機構4011、上夾持板4012，上升降機構4011的固定端設置在真空室401的內頂壁上，上升降機構4011的伸縮端與上夾持板4012連接。下薄膜夾持組件包括下升降機構4013、下夾持板4014，下升降機構4013的固定端設置在真空室401的內底壁上，下升降機構4013的伸縮端與下夾持板4014連接。

由于上升降機構4011、下升降機構4013的設置，使得薄膜夾持裝置又具有以下功效：當絕緣薄膜501在傳輸時，通過上升降機構4011、下升降機構4013控制上夾持板4012、下夾持板4014間距，對絕緣薄膜501進行豎直方向的限位，防止絕緣薄膜501在傳送過程中由于張力不均而產生的浮動現象，保證絕緣薄膜501平穩傳輸。

如圖14所示，優選地：在上夾持板4012的底部、下夾持板4014的頂部均設置有橡膠層4015。通過橡膠層4015的柔性性質，避免絕緣薄膜501與夾持板接觸產生劃痕印。

本發明的上升降機構4011、下升降機構4013也能是伺服油缸或者伺服氣缸，通過控制器控制其工作，從而進一步實現自動化。

作為優選方案：本發明的進室門4011、出室門4012為自動密封門，具體可以是單向門、雙向門、卷閘門、卷簾門、折疊門的一種，或者其他現有技術的自動密封門。如專利申請201220092640.6公開的雙向密封門、專利申請201521020622.7公開的一種自動提升密封門、專利申請200820193008.4公開的自動升降密封門裝置、專利申請201420166265.4公開的智能運輸車雙密封門。

本發明的喂入機構與卷繞機構結構類似，卷繞機構包括第五升降機構、卷繞裝置。第五升降機構的伸縮端與卷繞裝置配合用以帶動卷繞裝置上下運動。

卷繞裝置包括第二支撐架、第二轉動圓筒、卷繞輥。第二轉動圓筒與第二支撐架轉動配合，且第二轉動圓筒能繞著自身的中心軸旋轉。若干根卷繞輥繞著第二轉動圓筒的中心軸分布在第二轉動圓筒上，且卷繞輥能繞著自身的中心軸旋轉。

作為優選的方案，第二轉動圓筒包括相對設置的第二左圓板、第二右圓板。第二左圓板、第二右圓板之間通過第二轉軸連接，第二轉軸的一端露出第二左圓板的中心與第二支撐架的一端轉動配合，第二轉軸的另一端露出第二右圓板的中心與第二支撐架的另一端轉動配合。卷繞輥的端部與對應的圓板轉動配合。

上述的各轉動連接均優選通過第二軸承來實現。如第二轉軸的端部通過第二軸承與第二支撐架對應的端部連接。卷繞輥的端部通過第二軸承與對應的圓板連接。

上述的各轉動連接也優選是第二轉軸的端部穿過第二支撐架對應端部上的通孔，卷繞輥的端部穿過對應圓板的上的通孔，端部能在對應的通孔里旋轉實現。當然，第二轉軸的端部與第二支撐架之間、卷繞輥的端部與對應圓板的轉動方式也能采用其他現有的技術來實現。

作為優選的方案，第二轉軸的另一端露出第二右圓板的中心與第三驅動裝置的輸入軸連接，第三驅動裝置的固定端設置在第二支撐架的另一端。

如圖1、5所示，優選地：本發明薄膜傳輸的動力來源于驅動卷繞輥轉動的第四驅動裝置5012以及皮帶傳送裝置207。

第五升降機構、第三驅動裝置、第四驅動裝置5012也能為伺服油缸或者伺服氣缸，并由控制器控制。

如圖5所示，作為優選的方案：卷繞機構還包括第二接近感應機構。第二接近感應機構包括第二擋板、第二接觸件。第二擋板中位置較高的一端轉動配合地套設在第二支撐架上端的固定橫桿上，第二擋板中位置較低的一端與第二接觸件中位置較高的一端連接，第二接觸件中位置較低的一端能與處于卷繞狀態的卷繞輥中的金屬化薄膜801的最外層接觸。第四接近開關5011相對第二擋板設置在固定橫桿上。

如圖4、5所示，本發明提供一種第一支撐架、第二支撐架的結構，均包括固定橫桿10213、左支桿10211、右支桿10212。其中，左支桿10211包括對應支撐架的一端，右支桿10212包括對應支撐架的另一端。當然，本發明第一支撐架、第二支撐架的結構不僅僅限于此種結構，任何現有技術提供的支撐架或者經現有技術啟示得到的能達到本發明支撐架作用的支撐架均應該在本發明的保護范圍內。

如圖7所示，作為優選的方案：第二接觸件包括第二連接桿、第二滾輪，第二滾輪與金屬化薄膜801的最外層滾動接觸。第二連接桿位置較高的一端與第二擋板中位置較低的一端連接，第二連接桿位置較底的一端通過第二銷軸與第二滾輪轉動連接。

如圖1、3所示，作為優選的方案：卷繞機構還包括與第一自動輸送裝置結構相同的第二自動輸送裝置。在真空室401中設置有第五接近開關901，第五接近開關901用以監測卷繞機構在真空室401中的位置，真空室401外側靠近真空室401的出口端處設置有第六接近開關1001，第六接近開關1001用以監測卷繞機構在真空室401外的位置。

作為優選的方案：真空室401中設置有與第二自動輸送裝置配合的第二導軌。

如圖8-11所示，卷繞機構與喂入機構的區別在于：（1）喂入機構是解決補料問題，卷繞機構是解決卸料問題，但是原理類似。（2）喂入機構中的第一接近開關1033是當喂入輥1023中的絕緣薄膜501接近退繞完全時，第一擋板1031旋轉至與第一接近開關1033對應的位置；而卷繞機構中的第四接近開5011是當卷繞輥中的金屬化薄膜801卷繞至一定厚度時，第二擋板旋轉至與第四接近開關5011對應的位置。

本發明真空室401多處設置有張力輥、導輥，便于薄膜的傳導以及張力的控制，在鍍膜機構、卷繞機構之間還設置有冷卻輥1301，進一步提高鍍膜后的冷卻效果。

本發明的接近開關是一種位置或者位移傳感器。在有些實施例中：本發明的各個輪配制防止其在各自軸上做相對運動的限位塊。限位塊對稱設置在輪兩側并過盈配合套設在對應軸的外圍；或者設在對應軸外圍并通過螺栓固定其位置。當然，本發明的限位塊也能使用其他的現有技術實現。

如圖12所示，作為優選的方案：各個滾動輪包括主動輪、若干從動輪，主動輪由對應的驅動裝置驅動，具體的：通過驅動裝置直接驅動或者在驅動裝置與主動輪之間設置裝載齒輪的齒輪箱1044，驅動裝置轉動帶動齒輪箱中的齒輪轉動，再由齒輪帶動主動輪轉動，而從動輪由主動輪帶動。在殼體上設置有安裝架1045，驅動裝置的固定端設置在安裝架上。本發明的自動輸送裝置的驅動方式也不限于該實施例提及的結構，或者是現有技術的兩輪驅動、四輪驅動或者其他現有的驅動方式。

優選地，本發明的各個升降機構、伸縮裝置、驅動裝置、接近開關分別與控制器連接。通過上述的自動化控制，實現絕緣薄膜501的快速、高效補入、預熱、鍍膜、卷繞，節約了操作時間、節省了工人的勞動負荷。

當然，本發明也可以通過非自動化實現。比如，使用透明玻璃制造真空室401或者在真空室401上安裝觀測窗或者在真空室401上安裝監控器，通過工作人員直接觀察室內實際情況，通過操作臺701手動控制各個部件的工作情況。

以上僅為本發明創造的較佳實施例而已，并不用以限制本發明創造，凡在本發明創造的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本發明創造的保護范圍之內。