專(zhuān)利名稱(chēng)：濕式鍍膜系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及鍍膜技術(shù)，尤其涉及一種濕式鍍膜系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
薄膜制備技術(shù)一般可分為干式鍍膜與濕式鍍膜兩種，其中，濕式鍍膜由于具有鍍膜設(shè)備簡(jiǎn)單、便宜、沉積速率快、易于控制鍍膜厚度、鍍膜溫度低、不受限于鍍膜基材的形狀及材料(甚至可在軟性基材鍍膜)等優(yōu)點(diǎn)，近年來(lái)廣泛應(yīng)用于陶瓷、高分子及金屬基材的薄膜制備。一般地，濕式鍍膜時(shí)，基材需在不同的設(shè)備中流轉(zhuǎn)，進(jìn)行清洗、風(fēng)干、鍍膜、退火等工序，流轉(zhuǎn)過(guò)程中，基板或鍍?cè)诨纳系哪颖┞对诳諝庵?，容易被氧化，?dǎo)致所鍍的膜層品質(zhì)不佳，良率下降。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種能提升鍍膜品質(zhì)良率的濕式鍍膜系統(tǒng)。一種濕式鍍膜系統(tǒng)，其包括一個(gè)低溫腔室、一個(gè)加熱腔室、一個(gè)隔離腔室、一個(gè)傳輸裝置、一個(gè)清洗槽、一個(gè)鍍膜槽、一個(gè)熱風(fēng)噴槽及一個(gè)加熱槽。該隔離腔室連通該低溫腔室及加熱腔室以形成一個(gè)密閉的真空鍍膜腔。該傳輸裝置包括一個(gè)滑軌及一個(gè)升降手臂。 該滑軌跨設(shè)該低溫腔室、隔離腔室及加熱腔室。該升降手臂滑動(dòng)設(shè)置于該滑軌上，用于夾持一個(gè)基材并帶動(dòng)該基材沿垂直于該滑軌的方向伸縮。該清洗槽、鍍膜槽、熱風(fēng)噴槽及加熱槽順著該滑軌自該低溫腔室至該加熱腔室的滑向依次設(shè)置于該滑軌下。該清洗槽及鍍膜槽位于該低溫腔室內(nèi)；該熱風(fēng)噴槽位于該隔離槽內(nèi)；該加熱槽位于該加熱腔室內(nèi)。利用本發(fā)明的濕式鍍膜系統(tǒng)，基材可在傳輸裝置的帶動(dòng)下，在單一、密閉的環(huán)境內(nèi) (鍍膜腔)依次清洗、鍍膜、風(fēng)干及退火，避免基板不同設(shè)備中流裝而被氧化，提升了良率。


圖1為本發(fā)明較佳實(shí)施方式提供的濕式鍍膜系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明濕式鍍膜系統(tǒng)100鍍膜腔101入氣口103出氣口105低溫腔室10加熱腔室20隔離腔室30傳輸裝置40滑軌42升降手臂44
驅(qū)動(dòng)馬 達(dá)46動(dòng)子48清洗槽50第一漏液口52鍍膜槽60第二漏液口62熱風(fēng)噴槽70熱風(fēng)口72加熱槽80拿取閥門(mén)90基板200
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明較佳實(shí)施方式的濕式鍍膜系統(tǒng)100包括一個(gè)低溫腔室10、一個(gè)加熱腔室20、一個(gè)隔離腔室30、一個(gè)傳輸裝置40、一個(gè)清洗槽50、一個(gè)鍍膜槽60、一個(gè)熱風(fēng)噴槽70及一個(gè)加熱槽80。隔離腔室20連通低溫腔室10及加熱腔室30以形成一個(gè)密閉的真空鍍膜腔101。傳輸裝置40包括一個(gè)滑軌42及一個(gè)升降手臂44。滑軌42跨設(shè)低溫腔室10、隔離腔室20及加熱腔室30。升降手臂44滑動(dòng)設(shè)置于滑軌42上，用于夾持一個(gè)基材 200并帶動(dòng)基材200沿垂直于滑軌42的方向伸縮。清洗槽50、鍍膜槽60、熱風(fēng)噴槽70及加熱槽80順著滑軌42自低溫腔室10至加熱腔室30的滑向依次設(shè)置于滑軌42下。清洗槽 50及鍍膜槽60位于低溫腔室10內(nèi)；熱風(fēng)噴槽70位于隔離槽20內(nèi)；加熱槽80位于加熱腔室30內(nèi)。如此，基材200可在升降手臂44的夾持下，順著滑軌42在單一、密閉的鍍膜腔101 內(nèi)依次滑向清洗槽50、鍍膜槽60、熱風(fēng)噴槽70及加熱槽80。在滑動(dòng)過(guò)程中，升降手臂44沿遠(yuǎn)離清洗槽50、鍍膜槽60、熱風(fēng)噴槽70或加熱槽80的方向收縮，而在到達(dá)清洗槽50、鍍膜槽60、熱風(fēng)噴槽70或加熱槽80上方時(shí)，伸入清洗槽50、鍍膜槽60、熱風(fēng)噴槽70或加熱槽 80以對(duì)基板200進(jìn)行清洗、鍍膜、風(fēng)干及退火等工藝，避免基板200在不同設(shè)備中流轉(zhuǎn)而被氧化，提升了良率。鍍膜腔101用于提供一個(gè)單一、密閉的真空環(huán)境，以防止基板200或所鍍膜層(圖未示)被氧化。具體地，鍍膜腔101甚至可以有一個(gè)拿取閥門(mén)90，其在鍍膜過(guò)程中關(guān)閉以提供密閉的真空環(huán)境，而在鍍膜完成后打開(kāi)，以供取下鍍完膜的基板200并裝載新的待鍍膜基板200。具體地，濕式鍍膜系統(tǒng)100還包括有一個(gè)入氣口 103及一個(gè)出氣口 105。入氣口 103用于為鍍膜腔101內(nèi)引入惰性氣體，如氮?dú)猓允够?00的清洗、鍍膜、風(fēng)干及退火在惰性氣體環(huán)境中進(jìn)行，避免化學(xué)反應(yīng)發(fā)生。出氣口 105用于排出使用過(guò)的惰性氣體，以保持鍍膜腔101內(nèi)氣壓平衡。根據(jù)氣體的流動(dòng)及使用特性，本實(shí)施方式中，入氣口 103設(shè)置于低溫腔室10靠近清洗槽40處，出氣口 105設(shè)置于加熱腔室30的頂部?？梢岳斫猓綦x腔室20是為了連通低溫腔室10及加熱腔室30兩種不同的環(huán)境，其長(zhǎng)度應(yīng)視需求而定。傳輸裝置40可以包括有一個(gè)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)46及一個(gè)動(dòng)子48。驅(qū)動(dòng)馬達(dá)46用于驅(qū)動(dòng)動(dòng)子48在滑軌42上滑動(dòng)，而升降手臂44與動(dòng)子48連接，如此，傳輸裝置40可自動(dòng)控制升降手臂44在滑軌42上的滑動(dòng)。當(dāng)然，在其他的實(shí)施方式中，也可以通過(guò)手動(dòng)的方式驅(qū)動(dòng)械手臂44在滑軌42上滑動(dòng)。清洗槽50內(nèi)有清洗液(圖未示)，如水，并且包括有一個(gè)第一漏液口 52。第一漏液口 52伸出低溫腔室10外，用于向清洗槽50內(nèi)注入未使用的清洗液及漏出使用過(guò)的清洗液。本實(shí)施方式中，清洗槽50為一超聲波清洗槽。 鍍膜槽60內(nèi)有鍍膜溶液(圖未示)，并且包括有一個(gè)第二漏液口 62。第二漏液口 62伸出低溫腔室10外，用于向鍍膜槽50內(nèi)注入未使用的鍍膜溶液及漏出使用過(guò)的鍍膜溶液。熱風(fēng)噴槽70包括有一個(gè)熱風(fēng)口 72，熱風(fēng)口 72伸出隔離腔室10外并與一個(gè)熱風(fēng)源 (圖未示)連接，用于向熱風(fēng)噴槽50內(nèi)提供熱風(fēng)。加熱槽80用于加熱以對(duì)基板200進(jìn)行退火工藝。一般地，加熱槽80可在短時(shí)間內(nèi)將基板200加熱至400-600°C，并在短時(shí)間內(nèi)停止加熱，以讓基板緩慢冷卻、退火。優(yōu)選地，濕式鍍膜系統(tǒng)100還包括另一個(gè)設(shè)置于清洗槽50與鍍膜槽60之間的熱風(fēng)噴槽70，用于風(fēng)干剛清洗完的基板200。雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施方式披露如上，但是，其并非用以限定本發(fā)明，另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化等。當(dāng)然，這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于包括一個(gè)低溫腔室、一個(gè)加熱腔室、一個(gè)隔離腔室、 一個(gè)傳輸裝置、一個(gè)清洗槽、一個(gè)鍍膜槽、一個(gè)熱風(fēng)噴槽及一個(gè)加熱槽；該隔離腔室連通該低溫腔室及加熱腔室以形成一個(gè)密閉的真空鍍膜腔；該傳輸裝置包括一個(gè)滑軌及一個(gè)升降手臂；該滑軌跨設(shè)該低溫腔室、隔離腔室及加熱腔室；該升降手臂滑動(dòng)設(shè)置于該滑軌上，用于夾持一個(gè)基材并帶動(dòng)該基材沿垂直于該滑軌的方向伸縮；該清洗槽、鍍膜槽、熱風(fēng)噴槽及加熱槽順著該滑軌自該低溫腔室至該加熱腔室的滑向依次設(shè)置于該滑軌下；該清洗槽及鍍膜槽位于該低溫腔室內(nèi)；該熱風(fēng)噴槽位于該隔離槽內(nèi)；該加熱槽位于該加熱腔室內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該濕式鍍膜系統(tǒng)鍍還包括有一個(gè)入氣口及一個(gè)出氣口，該入氣口用于向該鍍膜腔內(nèi)引入惰性氣體，該出氣口用于排出該惰性氣體。
3.如權(quán)利要求2的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該入氣口設(shè)置于該低溫腔室靠近該清洗槽處。
4.如權(quán)利要求2的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該出氣口設(shè)置于該加熱腔室的頂部。
5.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該傳輸裝置還包括有一個(gè)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)及一個(gè)動(dòng)子，該驅(qū)動(dòng)馬達(dá)用于驅(qū)動(dòng)該動(dòng)子在該滑軌上滑動(dòng)，該升降手臂與該動(dòng)子連接以帶動(dòng)該升降手臂滑動(dòng)。
6.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該清洗槽包括有一個(gè)第一漏液口，該第一漏液口伸出該低溫腔室外，用于向該清洗槽內(nèi)注入及漏出清洗液。
7.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該清洗槽為一超聲波清洗槽。
8.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該鍍膜槽包括有一個(gè)第二漏液口，該第二漏液口伸出低溫腔室外，用于向該鍍膜槽內(nèi)注入及漏出鍍膜溶液。
9.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該熱風(fēng)噴槽包括有一個(gè)熱風(fēng)口，該熱風(fēng)口伸出該隔離腔室外，用于向該熱風(fēng)噴槽內(nèi)提供熱風(fēng)。
10.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該濕式鍍膜系統(tǒng)還包括另一個(gè)設(shè)置于該清洗槽與該鍍膜槽之間的熱風(fēng)噴槽。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種濕式鍍膜系統(tǒng)，其包括一個(gè)低溫腔室、一個(gè)加熱腔室、一個(gè)隔離腔室、一個(gè)傳輸裝置、一個(gè)清洗槽、一個(gè)鍍膜槽、一個(gè)熱風(fēng)噴槽及一個(gè)加熱槽。該隔離腔室連通該低溫腔室及加熱腔室以形成一個(gè)密閉的真空鍍膜腔。該傳輸裝置包括一個(gè)跨設(shè)該三個(gè)腔室的滑軌及一個(gè)滑動(dòng)設(shè)置于該滑軌上、用于夾持一個(gè)基材的升降手臂。該清洗槽、鍍膜槽、熱風(fēng)噴槽及加熱槽順著該滑軌自該低溫腔室至該加熱腔室的滑向依次設(shè)置于該滑軌下。該清洗槽及鍍膜槽位于該低溫腔室內(nèi)；該熱風(fēng)噴槽位于該隔離槽內(nèi)；該加熱槽位于該加熱腔室內(nèi)。如此，基材可在單一、密閉的環(huán)境內(nèi)依次清洗、鍍膜、風(fēng)干及退火，避免基板不同設(shè)備中流裝而被氧化，提升了良率。
文檔編號(hào)C23C18/00GK102220571SQ201010146840
公開(kāi)日2011年10月19日 申請(qǐng)日期2010年4月15日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月15日
發(fā)明者裴紹凱 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司