專利名稱：用于卷繞式鍍膜機的膜厚實時監控系統的制作方法
技術領域：
本實用新型是涉及一種用于卷繞式鍍膜機的膜厚實時監控系統。
背景技術：
薄膜產品特別是光學薄膜產品，膜層厚度的精度是產品的重要指標，因此在鍍制 過程中的膜厚監控極為重要。目前，在卷繞鍍膜機上尚沒有有效的膜厚實時監控手段，使得 產品一致性差，合格率低，造成很大的浪費。

實用新型內容本實用新型所要解決的技術問題是提供一種用于卷繞式鍍膜機的膜厚實時監控 系統，采用光譜分析原理，測試精度高，響應速度快，滿足在線實時監控的要求，從而使產品 的一致性和合格率大大提高。本實用新型所要解決的技術問題是通過以下技術方案來實現的一種用于卷繞式鍍膜機的膜厚實時監控系統，包括由計算機控制的快速光譜儀和 光源，其特征在于所述實時監控系統還包括支架、光源發射器和光束接收器，所述光源發 射器和光束接收器分別設在卷繞透明基材膜的雙側并安裝在支架上；所述支架與導膜輥平 行，支架設置在收卷輥與水冷輥上方的導膜輥之間。所述支架固定在鍍膜機的真空室腔體壁上。所述光源發射器通過光纖連線與光源連接。所述光束接收器通過光纖連線與光譜儀連接。所述卷繞透明基材膜設在支架中間。本實用新型具有如下優點本實用新型由計算機實時監控，當蒸發材料沉積在基材上時，薄膜的透射率隨沉 積厚度的增加而變化，鍍膜工作者可根據界面觀察到的產品光譜曲線與計算機中預存的目 標曲線的吻合程度，來調整鍍制工藝參數，減少了制作誤差，有效地提高了產品的一致性和 合格率，該裝置結構簡單，成本低廉，解決了一直以來卷繞鍍膜機沒有有效的膜厚實時監控 手段的問題。

圖1為本實用新型的結構示意圖圖2為本實用新型的監控裝置位置圖如圖所示，1-計算機，2-快速光譜儀，3-光源，4-光源發射器，5-光束接收器， 6-支架，7-卷繞基材膜，8-真空室腔體壁，9-光纖連線，10-收卷棍，11-導膜棍，12-水冷 輥，13-放卷輥。
具體實施方式
下面結合說明書附圖對本實用新型作進一步說明。如圖1和圖2所示一種用于卷繞式鍍膜機的膜厚實時監控系統，包括由計算機1 控制的快速光譜儀2和光源3，其特征在于所述實時監控系統還包括支架6、光源發射器4 和光束接收器5，所述光源發射器4和光束接收器5分別設在卷繞基材膜7的雙側并安裝在 支架6上；所述支架6與導膜輥11平行，支架6設置在收卷輥10與水冷輥12上方的導膜 輥11之間。所述支架6固定在鍍膜機的真空室腔體壁8上。所述光源發射器4通過光纖連線9與光源3連接。所述光束接收器5通過光纖連線9與快速光譜儀2連接。所述卷繞基材膜7設在支架6中間。當蒸發材料沉積在基材上時，薄膜的透射率隨厚度的增加而變化，鍍膜工作者可 根據界面觀察到的產品光譜曲線與目標曲線的吻合程度，來調整鍍膜工藝參數，減少了制 作誤差，有效地提高了產品的一致性和合格率。
權利要求一種用于卷繞式鍍膜機的膜厚實時監控系統，包括由計算機控制的快速光譜儀和光源，其特征在于所述實時監控系統還包括支架、光源發射器和光束接收器，所述光源發射器和光束接收器分別設在卷繞透明基材膜的雙側并安裝在支架上；所述支架與導膜輥平行，支架設置在收卷輥與水冷輥上方的導膜輥之間。
2.如權利要求1所述的用于卷繞式鍍膜機的膜厚實時監控系統，其特征在于所述支 架固定在鍍膜機的真空室腔體壁上。
3.如權利要求1所述的用于卷繞式鍍膜機的膜厚實時監控系統，其特征在于所述光 源發射器通過光纖連線與光源連接。
4.如權利要求3所述的用于卷繞式鍍膜機的膜厚實時監控系統，其特征在于所述光 束接收器通過光纖連線與光譜儀連接。
5.如權利要求1所述的用于卷繞式鍍膜機的膜厚實時監控系統，其特征在于所述卷 繞透明基材膜設在支架中間。
專利摘要本實用新型公開了一種用于卷繞式鍍膜機的膜厚實時監控系統，包括由計算機控制的光譜儀和光源，其特征在于所述實時監控系統還包括支架、光源發射器和光束接收器，所述光源發射器和光束接收器分別設在卷繞基材膜的雙側并安裝在支架上；所述支架與導膜輥平行，支架設置在收卷輥與水冷輥上方的導膜輥之間。本實用新型由計算機實時監控，采用非接觸式光源發射器和光束接收器，鍍膜工作者根據界面觀察產品的光譜曲線與計算機中預存的目標曲線的吻合程度，來調整鍍膜工藝參數，從而減少了操作誤差，有效地提高了產品的合格率，該裝置結構簡單，成本低廉，解決了一直以來卷繞鍍膜機沒有有效的膜厚監控手段的問題。
文檔編號C23C14/54GK201770771SQ201020505738
公開日2011年3月23日 申請日期2010年8月26日 優先權日2010年8月26日
發明者李正平, 郭繼光 申請人:李正平;郭繼光