專利名稱：研磨液配比機臺以及研磨液供給系統的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及集成電路制造領域，特別是涉及一種研磨液配比機臺以及研磨液 供給系統。
背景技術：
通常，半導體器件都需要經過許多的工藝步驟才得以完成，而這些工藝步驟幾乎 都需要使用化學試劑來完成。因此，在半導體工廠中，都會設置有化學試劑供應裝置，利用 化學試劑供應裝置的管路的配置及控制單元等元件，將化學試劑配送至各個工藝機臺。例 如，在化學機械研磨過程中，需要利用研磨液供給系統將研磨液供給至化學研磨機臺。具體請參考圖1和圖2，其中，圖1為現有的研磨液供給系統的示意圖，圖2為現有 的研磨液配比機臺的配比容器的示意圖。如圖1所示，現有的化學試劑供應裝置100包括研磨液配比機臺110、與所述研 磨液配比機臺Iio連接的控制單元120、第二進液管路130、第三進液管路140、第二排液管 路150、設置于第二進液管路130上的第二進液閥131、設置于第三進液管路140上的第三 進液閥141和定容裝置142、以及設置于第二排液管路150上的第二排液閥151。如圖2所示，并結合圖1，所述研磨液配比機臺110包括稱重計111以及設置于稱 重計111上的配比容器，所述配比容器包括主體112、由主體112限定的容置空間113、第 二進液口 114、第三進液口 115以及第二排液口 116，所述容置空間113通過第二進液口 114 與第二進液管路130連通，通過第三進液口 115與第三進液管路140連通，并通過第二排液 口 116與第二排液管路150連通。容置空間113用于存儲化學液體(例如研磨液和雙氧 水)，稱重計111用于測量容置空間113內的化學液體的重量，當空的配比容器放置于稱重 計111上時，使稱重計111的顯示重量為零(即將稱重計111清零)。當需要進行化學機械研磨工藝時，先利用稱重計111測量所述配比容器的重量， 若測量結果顯示不為零，則不啟動配比過程，若測量結果顯示為零，則啟動配比過程。配比 過程包括以下步驟首先控制單元120控制開啟第二進液閥131，第一化學液體(例如研磨 液)經第二進液管路130，并由第二進液口 114進入到容置空間113內，稱重計111測量容 置空間113內的第一化學液體的重量，當該重量達到預設值時，控制單元120控制關閉第 二進液閥131，停止向配比機臺110輸送研磨液；然后，定容裝置142將預設數量的第二化 學液體(例如雙氧水)輸送至第三進液管路140 ；接著，控制單元120控制開啟第三進液閥 141，預定數量的第二液體即可經第三進液口 115進入容置空間113內；隨后，稱重計111測 量容置空間113內的研磨液和雙氧水的總重量，若該總重量達到工藝要求，控制單元120控 制打開第二排液閥151，研磨液和雙氧水的混合液體可經第二排液管路150分配至各個化 學機械研磨機臺，即完成了 一次配比過程。然而，在實際生產中發現，由于研磨液受溫度等因素影響經常出現結晶現象，因 此，在每次配比過程結束后，盡管絕大部分的研磨液都會經第二排液管路150輸送至各個 化學機械研磨機臺，但是，仍有小部分研磨液殘留于配比容器內，而導致配比容器的內壁上附著有研磨液的結晶體，此時，稱重計111顯示重量則不為零(稱重計111無法清零)；而 所述控制單元120 —旦監控到所述稱重計111的顯示重量不為零，則停止啟動下一次配比 過程，導致化學機械研磨工藝無法順利進行下去。為了解決上述問題，目前，操作人員通常是用手稍微向上托起配比容器，直至稱重 計111的顯示重量變為零，從而使配比機臺110進行下一輪的配比過程，但是，由于人為的 向上托起配比容器，將導致稱重計111無法準確測量配比容器內的研磨液數量，從而導致 輸送至配比機臺的研磨液數量減小，使得研磨液與雙氧水的比例不符合工藝要求，進而導 致供給至化學機械研磨機臺的研磨液數量不符合要求。

實用新型內容本實用新型的目的在于提供一種研磨液配比機臺，以解決現有的研磨液配比機臺 由于無法清零，而導致無法準確測量研磨液的重量的問題。本實用新型的另一目的在于提供一種研磨液供給系統，以解決現有的研磨液供給 系統供給至化學機械研磨機臺的研磨液數量不符合要求的問題。為解決上述技術問題，本實用新型提供一種研磨液配比機臺，所述研磨液配比機 臺包括稱重計以及設置于稱重計上的配比容器，所述配比容器包括主體、由所述主體限定 的容置空間、以及設置于所述容置空間內的隔板，所述隔板將所述容置空間劃分為第一容 置空間和第二容置空間，所述主體上開設有第一進液口和第一排液口，所述第一容置空間 內存儲有預設數量的第一液體，所述第一液體由所述第一進液口流進所述第一容置空間， 并經第一排液口排出。可選的，在所述研磨液配比機臺中，所述主體包括頂壁、底壁以及與所述頂壁和底 壁連接的側壁，所述隔板與所述頂壁和底壁連接。可選的，在所述研磨液配比機臺中，主體和第一容置空間均呈長方體狀。可選的，在所述研磨液配比機臺中，主體和第一容置空間均呈圓柱體狀。本實用新型還提供一種研磨液供給系統，所述研磨液供給系統包括研磨液配比 機臺以及與所述研磨液配比機臺連接的控制單元，所述研磨液配比機臺包括稱重計以及設 置于所述稱重計上的配比容器，所述配比容器包括主體、由所述主體限定的容置空間、以 及設置于所述容置空間內的隔板，所述隔板將所述容置空間劃分為第一容置空間和第二容 置空間，所述主體上開設有第一進液口和第一排液口，所述第一容置空間內存儲有預設數 量的第一液體，所述第一液體由所述第一進液口流進所述第一容置空間，并經所述第一排 液口排出。可選的，在所述研磨液供給系統中，所述主體包括頂壁、底壁、以及與所述頂壁和 底壁連接的側壁，所述隔板與所述頂壁和底壁連接。可選的，在所述研磨液供給系統中，主體和第一容置空間均呈長方體狀。可選的，在所述研磨液供給系統中，主體和第一容置空間均呈圓柱體狀。可選的，在所述研磨液供給系統中，所述研磨液供給系統還包括進氣管路，所述主 體上還開設有進氣口，所述第一容置空間通過所述進氣口與所述進氣管路連通。所述研磨 液供給系統還包括設置于所述進氣管路上的進氣閥。可選的，在所述研磨液供給系統中，所述研磨液供給系統還包括第一進液管路以
5及第一排液管路，所述第一容置空間通過第一進液口與第一進液管路連通，并通過第一排 液口與第一排液管路連通。所述研磨液供給系統還包括設置于第一進液管路上的第一進液 閥和設置于第一排液管路上的第一排液閥。可選的，在所述研磨液供給系統中，所述研磨液供給系統還包括第二進液管路，所 述主體上還開設有第二進液口，所述第二容置空間通過所述第二進液口與所述第二進液管 路連通。所述研磨液供給系統還包括設置于所述第二進液管路上的第二進液閥。可選的，在所述研磨液供給系統中，所述研磨液供給系統還包括第三進液管路，所 述主體上還開設有第三進液口，所述第二容置空間通過所述第三進液口與所述第三進液管 路連通。所述研磨液供給系統還包括設置于所述第三進液管路上的定容裝置和第三進液 閥。可選的，在所述研磨液供給系統中，所述研磨液供給系統還包括第二排液管路，所 述主體上還開設有第二排液口，所述第二容置空間通過所述第二排液口與所述第二排液管 路連通。所述研磨液供給系統還包括設置于所述第二排液管路上的第二排液閥。與現有技術相比，本實用新型提供的研磨液配比機臺的配比容器還包括設置于容 置空間內的隔板，所述隔板將容置空間劃分為第一容置空間和第二容置空間，所述第一容 置空間內存儲有預設數量的第一液體，所述第一液體可由第一進液口流進第一容置空間， 并經第一排液口排出。當配比容器內形成有研磨液的結晶體，而導致稱重計的顯示重量大 于零時，可經第一排液口排出部分第一液體；當稱重計的顯示重量小于零時，可經第一進液 口向配比容器內補充第一液體，直至稱重計的顯示重量為零(即將稱重計清零)，從而確保 配比過程順利進行，并可確保供給至化學機械研磨機臺的研磨液數量符合工藝要求。

圖1為現有的研磨液供給系統的示意圖；圖2為現有的研磨液配比機臺的配比容器的示意圖；圖3為本實用新型實施例提供的研磨液供給系統的示意圖；圖4為本實用新型實施例提供的研磨液配比機臺的配比容器的示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖和具體實施例對本實用新型作進一步詳細說明。根據下面說明和權 利要求書，本實用新型的優點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且 均使用非精準的比率，僅用以方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。本實用新型的核心思想在于，提供一種研磨液配比機臺以及包含該研磨液配比機 臺的研磨液供給系統，所述研磨液配比機臺的配比容器包括設置于容置空間內的隔板，所 述隔板將容置空間劃分為第一容置空間和第二容置空間，所述第一容置空間內存儲有預設 數量的第一液體，所述第一液體可由第一進液口流進第一容置空間，并經第一排液口排出。 當配比容器內形成有研磨液的結晶體，而導致稱重計的顯示重量大于零時，可經第一排液 口排出部分第一液體；當稱重計的顯示重量小于零時，可經第一進液口向配比容器內補充 第一液體，直至稱重計的顯示重量為零(即將所述稱重計清零)，從而確保配比過程順利進 行，并可確保供給至化學機械研磨機臺的研磨液數量符合工藝要求。[0031]如圖3和圖4所示，本實用新型實施例提供的研磨液配比機臺210包括稱重計211 以及設置于稱重計211上的配比容器，所述配比容器包括主體212、由主體212限定的容 置空間以及設置于容置空間內的隔板213，隔板213將所述容置空間劃分為第一容置空間 213a和第二容置空間213b，主體212上開設有第一進液口 218和第一排液口 219，第一容 置空間213a內存儲有預設數量的第一液體，第一液體由第一進液口 218流進第一容置空間 213a，并可經第一排液口 219排出。當稱重計211的顯示重量大于零時，可經第一排液口 219 排出部分第一液體，直至稱重計211的顯示重量為零(將稱重計211清零)，從而確保配比 過程順利進行，并確保供給至化學機械研磨機臺的研磨液數量符合工藝要求。可以理解的 是，當稱重計211的顯示重量小于零時，也可通過第一進液口 218向第一容置空間213a內 補充一些第一液體，直至稱重計211的顯示重量為零。在本實施例中，所述第一液體為去離子水，該去離子水的成本較低，且不會結垢污 染第一容置空間213a，可通過調整第一容置空間213a內的去離子水的重量來使稱重計211 的顯示重量為零。當然，在本實用新型的其它實施例中，第一液體也可以是其它不易結晶的 液體。繼續參考圖3和圖4，所述主體212包括頂壁212a、底壁212b、以及與所述頂壁 212a和底壁212b連接的側壁212c，所述隔板213與頂壁21 和底壁212b連接，所述隔板 213可將容置空間劃分為第一容置空間213a和第二容置空間21北，所述第一容置空間213a 存儲預設數量的第一液體，所述第二容置空間21 則用于存儲化學液體(例如研磨液和雙 氧水的混合液體)。在本實施例中，所述主體212、第一容置空間213a和第二容置空間21 均呈長方 體狀。然而應當認識到，所述主體212和第一容置空間213a也可以設置為其它形狀，例如， 所述主體212和第一容置空間213a均設置為圓柱體狀。本實用新型還提供一種研磨液供給系統，具體如圖3和圖4所示，本實用新型實施 例提供的研磨液供給系統200包括研磨液配比機臺210以及與所述研磨液配比機臺210 連接的控制單元220。所述研磨液供給系統200還包括進氣管路沈0，所述進氣管路260用于向第一容置 空間213a內補充氣體(例如氮氣或壓縮空氣)，所述主體212上還開設有進氣口 217，所述 第一容置空間213a通過進氣口 217與進氣管路260連通。所述研磨液供給系統200還包 括設置于進氣管路260上的進氣閥沈1。所述研磨液供給系統200還包括第一進液管路270以及第一排液管路觀0，所述第 一容置空間213a通過第一進液口 218與第一進液管路270連通，并通過第一排液口 219與 第一排液管路280連通。所述研磨液供給系統還包括設置于第一進液管路270上的第一進 液閥271和設置于第一排液管路280上的第一排液閥觀1。所述研磨液供給系統還包括第二進液管路230，主體212上還開設有第二進液口 214，第二容置空間21 通過第二進液口 214與第二進液管路230連通。所述研磨液供給 系統200還包括設置于第二進液管路230上的第二進液閥231。所述研磨液供給系統200還包括第三進液管路M0，所述主體上212還開設有第三 進液口 215，所述第二容置空間21 通過第三進液口 215與第三進液管路240連通。所述 研磨液供給系統200還包括設置于第三進液管路240上的第三進液閥241和定容裝置M2。[0040]所述研磨液供給系統200還包括第二排液管路250，主體212上還開設有第二排液 口 216，第二容置空間21 通過第二排液口 216與第二排液管路250連通。研磨液供給系 統200還包括設置于第二排液管路250上的第二排液閥251。本實用新型實施例提供的研磨液供給系統200的工作過程如下首先，所述稱重計211測量所述配比容器的重量，由于上一次配比過程將殘留部 分研磨液在配比容器內，不可避免的，所述配比容器的內壁形成有研磨液的結晶體，導致稱 重計211顯示的重量不為零(即稱重計211無法清零)，通常來說，稱重計211顯示的重量 大于零。此時，可打開進氣閥261和第一排液閥觀1，經進氣口 217向第一容置空間213a內 補充氣體，從而將第一容置空間213a的部分第一液體順利的從第一排液口 219排出至第一 排液管路觀0，直至稱重計211的顯示重量為零(即將稱重計211清零)。當稱重計211顯示的重量為零后，啟動配比過程，控制單元220控制開啟第二進液 閥231，第一化學液體(例如研磨液)經第一進液管路230，并由第二進液口 214進入到第 二容置空間21 內，稱重計211開始測量第二容置空間21 內的研磨液重量，當該重量達 到預設值時，控制單元220控制關閉第二進液閥231，停止向配比機臺210輸送研磨液；然 后，定容裝置242將預設數量的第二化學液體(例如雙氧水)輸送至第三進液管路M0，控 制單元220控制開啟第三進液閥M1，預設數量的雙氧水即經第三進液口 215進入第二容置 空間21 內；其后，控制單元220控制關閉第三進液閥M1，停止向配比容器輸送雙氧水； 隨后，稱重計211測量第二容置空間21 內的研磨液和雙氧水的總重量，若該總重量達到 工藝要求，控制單元220控制打開第二排液閥251，研磨液和雙氧水的混合液體即可經第二 排液管路250分配至各個化學機械研磨機臺，即完成了一次配比過程。當然，由于特殊情況，所述稱重計211的顯示重量也可能小于零，此時，可打開第 一進液管路270上的第一進液閥271，經第一進液口 218向第一容置空間213a內補充一些 第一液體，直至稱重計211的顯示重量為零。顯然，本領域的技術人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用 新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權利要求及 其等同技術的范圍之內，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內。
權利要求1.一種研磨液配比機臺，包括稱重計以及設置于所述稱重計上的配比容器，其特征在 于，所述配比容器包括主體、由所述主體限定的容置空間以及設置于所述容置空間內的隔 板，所述隔板將所述容置空間劃分為第一容置空間和第二容置空間，所述主體上開設有第 一進液口和第一排液口，所述第一容置空間內存儲有預設數量的第一液體，所述第一液體 由所述第一進液口流進所述第一容置空間，并經所述第一排液口排出。
2.如權利要求1所述的研磨液配比機臺，其特征在于，所述主體包括頂壁、底壁以及與 所述頂壁和底壁連接的側壁，所述隔板與所述頂壁和底壁連接。
3.如權利要求1或2所述的研磨液配比機臺，其特征在于，所述主體和所述第一容置空 間均呈長方體狀。
4.如權利要求1或2所述的研磨液配比機臺，其特征在于，所述主體和所述第一容置空 間均呈圓柱體狀。
5.一種研磨液供給系統，包括研磨液配比機臺以及與所述研磨液配比機臺連接的控 制單元，所述研磨液配比機臺包括稱重計以及設置于所述稱重計上的配比容器，其特征在 于，所述配比容器包括主體、由所述主體限定的容置空間、以及設置于所述容置空間內的 隔板，所述隔板將所述容置空間劃分為第一容置空間和第二容置空間，所述主體上開設有 第一進液口和第一排液口，所述第一容置空間內存儲有預設數量的第一液體，所述第一液 體由所述第一進液口流進所述第一容置空間，并經所述第一排液口排出。
6.如權利要求5所述的研磨液供給系統，其特征在于，所述主體包括頂壁、底壁以及與 所述頂壁和底壁連接的側壁，所述隔板與所述頂壁和底壁連接。
7.如權利要求5或6所述的研磨液供給系統，其特征在于，所述主體和所述第一容置空 間均呈長方體狀。
8.如權利要求5或6所述的研磨液供給系統，其特征在于，所述主體和所述第一容置空 間均呈圓柱體狀。
9.如權利要求5所述的研磨液供給系統，其特征在于，所述研磨液供給系統還包括進 氣管路，所述主體上還開設有進氣口，所述第一容置空間通過所述進氣口與所述進氣管路 連通。
10.如權利要求9所述的研磨液供給系統，其特征在于，所述研磨液供給系統還包括設 置于所述進氣管路上的進氣閥。
11.如權利要求5所述的研磨液供給系統，其特征在于，所述研磨液供給系統還包括第 一進液管路以及第一排液管路，所述第一容置空間通過所述第一進液口與所述第一進液管 路連通，并通過所述第一排液口與第一排液管路連通。
12.如權利要求11所述的研磨液供給系統，其特征在于，所述研磨液供給系統還包括 設置于第一進液管路上的第一進液閥和設置于第一排液管路上的第一排液閥。
13.如權利要求5所述的研磨液供給系統，其特征在于，所述研磨液供給系統還包括第 二進液管路，所述主體上還開設有第二進液口，所述第二容置空間通過所述第二進液口與 所述第二進液管路連通。
14.如權利要求13所述的研磨液供給系統，其特征在于，所述研磨液供給系統還包括 設置于所述第二進液管路上的第二進液閥。
15.如權利要求5所述的研磨液供給系統，其特征在于，所述研磨液供給系統還包括第三進液管路，所述主體上還開設有第三進液口，所述第二容置空間通過所述第三進液口與 所述第三進液管路連通。
16.如權利要求15所述的研磨液供給系統，其特征在于，所述研磨液供給系統還包括 設置于所述第三進液管路上的定容裝置和第三進液閥。
17.如權利要求5所述的研磨液供給系統，其特征在于，所述研磨液供給系統還包括第 二排液管路，所述主體上還開設有第二排液口，所述第二容置空間通過所述第二排液口與 所述第二排液管路連通。
18.如權利要求17所述的研磨液供給系統，其特征在于，所述研磨液供給系統還包括 設置于所述第二排液管路上的第二排液閥。
專利摘要本實用新型公開了一種研磨液配比機臺以及研磨液供給系統，所述研磨液配比機臺包括稱重計以及設置于稱重計上的配比容器，所述配比容器包括主體、由主體限定的容置空間以及設置于容置空間內的隔板，所述隔板將所述容置空間劃分為第一容置空間和第二容置空間，所述主體上開設有第一進液口和第一排液口，所述第一容置空間內存儲有預設數量的第一液體，所述第一液體由所述第一進液口流進所述第一容置空間，并經所述第一排液口排出。本實用新型可確保配比過程順利進行，并確保供給至化學機械研磨機臺的研磨液數量符合工藝要求。
文檔編號B24B57/02GK201856169SQ20102056513
公開日2011年6月8日 申請日期2010年10月16日 優先權日2010年10月16日
發明者宋林飛, 朱海青 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司