專利名稱：拋光墊修整方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及化學(xué)機(jī)械拋光領(lǐng)域，具體而言，涉及一種拋光墊修整方法。
背景技術(shù)：
在集成電路的制造過程中，隨著特征尺寸的縮小和金屬互連層數(shù)的增加，對(duì)晶圓表面平整度的要求也越來越高，化學(xué)機(jī)械拋光是目前最有效的全局平坦化技術(shù)。化學(xué)機(jī)械拋光是將晶圓由旋轉(zhuǎn)的拋光頭夾持，并將晶圓以一定壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上，由磨粒和化學(xué)溶液組成的拋光液在晶圓和拋光墊之間流動(dòng)，晶圓表面在化學(xué)和機(jī)械的共同作用下實(shí)現(xiàn)平坦化。在實(shí)際的化學(xué)機(jī)械拋光過程中，由于拋光墊的線速度由中心向外沿逐漸增大，因此拋光墊的磨損量也由中心向外沿逐漸增大。即拋光墊在使用一段時(shí)間后變得不均勻，這樣會(huì)導(dǎo)致晶圓表面拋光厚度不均勻。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此，本發(fā)明的一個(gè)目的在于提出一種可以提高拋光墊的均勻性的拋光墊修整方法。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例提出一種拋光墊修整方法，所述拋光墊修整方法包括利用修整器對(duì)拋光墊進(jìn)行修整，其中在所述修整器的修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)減小，且在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)增大。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光墊修整方法通過在所述修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中減小所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)、以及通過在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中增大所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)，從而可以使所述修整器對(duì)所述拋光墊的修整量由所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿逐漸減小。由于所述拋光墊的磨損量由所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿逐漸增大，因此利用所述拋光墊修整方法對(duì)所述拋光墊進(jìn)行修整可以使所述拋光墊上各處的磨損量保持一致，從而可以大大地改善所述拋光墊的均勻性、大大地延長(zhǎng)所述拋光墊的使用壽命。另外，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光墊修整方法可以具有如下附加的技術(shù)特征根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)分段減小且分段增大。這樣可以使所述拋光墊修整方法更容易實(shí)施。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)分2-20段減小且分2-20段增大。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)沿所述拋光墊的半徑分段減小且沿所述拋光墊的半徑分段增大。由于所述拋光墊的磨損量是沿所述拋光墊的半徑變化的，因此沿所述拋光墊的半徑分段減小且分段增大所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以大大地提高所述拋光墊的均勻性。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)等間距地分段減小且等間距地分段增大。這樣可以使所述拋光墊修整方法更容易實(shí)施。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述修整器的修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)等步長(zhǎng)地分段減小且等步長(zhǎng)地分段增大。這樣可以使所述拋光墊修整方法更容易實(shí)施。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述修整頭的擺動(dòng)頻率由30次/分鐘減小至2次/分鐘且由2次/分鐘增大至30次/分鐘。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述修整頭的旋轉(zhuǎn)速度由150rpm減小至IOrpm且由 IOrpm 增大至 150rpm。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述修整頭的修整壓力由IOpsi減小至0.2psi且由 0. 2psi 增大至 IOpsi。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力同時(shí)減小且同時(shí)增大。這樣可以進(jìn)一步提高所述拋光墊的均勻性。本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實(shí)踐了解到。


本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的拋光墊修整方法的流程圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的拋光墊修整方法的流程圖；圖3是利用已有的拋光墊修整方法對(duì)拋光墊進(jìn)行修整后拋光墊的磨損示意圖；和圖4是利用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光墊修整方法對(duì)拋光墊進(jìn)行修整后拋光墊的磨損示意圖。
具體實(shí)施例方式下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、 “左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底” “內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
此外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。在本發(fā)明的描述中，除非另有規(guī)定和限定，需要說明的是，術(shù)語“安裝”、“相連”、 “連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是機(jī)械連接或電連接，也可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通，可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語的具體含義。本發(fā)明提供了一種拋光墊修整方法，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光墊修整方法包括 利用修整器對(duì)拋光墊進(jìn)行修整，其中在所述修整器的修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)減小，且在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)增大。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光墊修整方法通過在所述修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中減小所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)、以及通過在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中增大所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)，從而可以使所述修整器對(duì)所述拋光墊的修整量由所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿逐漸減小。由于所述拋光墊的磨損量由所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿逐漸增大，因此利用所述拋光墊修整方法對(duì)所述拋光墊進(jìn)行修整可以使所述拋光墊上各處的磨損量保持一致，從而可以大大地改善所述拋光墊的均勻性、大大地延長(zhǎng)所述拋光墊的使用壽命。如圖1所示，在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，所述拋光墊修整方法可以包括以下步驟A)所述修整頭可以從所述拋光墊的外沿沿第一方向擺動(dòng)到所述拋光墊的中心，且可以增大所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)；B)所述修整頭可以從所述拋光墊的中心沿第一方向擺動(dòng)到所述拋光墊的外沿，且可以減小所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)；C)所述修整頭可以從所述拋光墊的外沿沿第二方向擺動(dòng)到所述拋光墊的中心，且可以增大所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)；D)所述修整頭可以從所述拋光墊的中心沿第二方向擺動(dòng)到所述拋光墊的外沿，且可以減小所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)；和E)重復(fù)所述步驟A)-所述步驟D)直至所述修整結(jié)束；其中所述第一方向可以是順時(shí)針方向且所述第二方向可以是逆時(shí)針方向，或所述第一方向可以是逆時(shí)針方向且所述第二方向可以是順時(shí)針方向。在本發(fā)明的一些示例中，如圖2所示，所述拋光墊修整方法可以包括以下步驟A)所述修整頭可以從所述拋光墊的中心沿第一方向擺動(dòng)到所述拋光墊的外沿，且可以減小所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)；B)所述修整頭可以從所述拋光墊的外沿沿第二方向擺動(dòng)到所述拋光墊的中心，且可以增大所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)；C)所述修整頭可以從所述拋光墊的中心沿第二方向擺動(dòng)到所述拋光墊的外沿，且可以減小所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)；D)所述修整頭可以從所述拋光墊的外沿沿第一方向擺動(dòng)到所述拋光墊的中心，且可以增大所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)；和E)重復(fù)所述步驟A)-所述步驟D)直至所述修整結(jié)束；其中所述第一方向可以是順時(shí)針方向且所述第二方向可以是逆時(shí)針方向，或所述第一方向可以是逆時(shí)針方向且所述第二方向可以是順時(shí)針方向。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是，所述修整頭可以從所述拋光墊上任意一點(diǎn)開始對(duì)所述拋光墊進(jìn)行修整。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，在所述修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以分段減小，在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以分段增大。在每一個(gè)段內(nèi)，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力都可以保持不變，這樣可以使所述拋光墊修整方法更容易實(shí)施。具體地，在所述修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中， 所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以分2-20段減小，在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以分2-20段增大。在所述修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以沿所述修整頭的擺動(dòng)軌跡分段減小，在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以沿所述修整頭的擺動(dòng)軌跡分段增大。換言之，可以將所述修整頭的擺動(dòng)軌跡劃分為若干段，在所述修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中，所述修整頭每經(jīng)過所述修整頭的擺動(dòng)軌跡上的一個(gè)段，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)就會(huì)減小。在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭每經(jīng)過所述修整頭的擺動(dòng)軌跡上的一個(gè)段，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)就會(huì)增大。在本發(fā)明的一個(gè)示例中，在所述修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以沿所述拋光墊的半徑分段減小，在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以沿所述拋光墊的半徑分段增大。由于所述拋光墊的磨損量是沿所述拋光墊的半徑變化的，因此沿所述拋光墊的半徑分段減小且分段增大所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以大大地提高所述拋光墊的均勻性。換言之，可以將所述拋光墊的半徑劃分為若干段，在所述修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中，所述修整頭每經(jīng)過所述拋光墊的半徑上的一個(gè)段，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)就會(huì)減小。在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭每經(jīng)過所述拋光墊的半徑上的一個(gè)段，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)就會(huì)增大。在本發(fā)明的一個(gè)具體示例中，在所述修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以等間距地分段減小，在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以等間距地分段增大。這樣可以使所述拋光墊修整方法更容易實(shí)施。其中，等間距是指每個(gè)段的長(zhǎng)度都相等。具體地，可以將所述拋光墊的半徑劃分為若干個(gè)長(zhǎng)度相等的段，以便所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以沿所述拋光墊的半徑等間距地分段減小且可以沿所述拋光墊的半徑等間距地分段增大。在本發(fā)明的另一個(gè)具體示例中，在所述修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以等步長(zhǎng)地分段減小，在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中， 所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)可以等步長(zhǎng)地分段增大。這樣可以使所述拋光墊修整方法更容易實(shí)施。其中，等步長(zhǎng)是指所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)每次減小相同的數(shù)值且每次增大相同的數(shù)值。有利地，在所述修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中， 所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力可以同時(shí)減小，在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力可以同時(shí)增大。這樣可以進(jìn)一步提高所述拋光墊的均勻性。具體地，在所述修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中， 所述修整頭的擺動(dòng)頻率可以由30次/分鐘減小至2次/分鐘，所述修整頭的旋轉(zhuǎn)速度可以由150rpm減小至lOrpm，所述修整頭的修整壓力可以由IOpsi (磅/平方英寸)減小至 0. 2psi。有利地，在所述修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率可以由20次/分鐘減小至5次/分鐘，所述修整頭的旋轉(zhuǎn)速度可以由 120rpm減小至30rpm，所述修整頭的修整壓力可以由5psi減小至0. 4psi。在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率可以由2次/分鐘增大至30次/分鐘，所述修整頭的旋轉(zhuǎn)速度可以由IOrpm 增大至150rpm，所述修整頭的修整壓力可以由0. 2psi增大至IOpsi。有利地，在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率可以由 5次/分鐘增大至20次/分鐘，所述修整頭的旋轉(zhuǎn)速度可以由30rpm增大至120rpm，所述修整頭的修整壓力可以由0. 4psi增大至5psi。在本發(fā)明的一個(gè)具體示例中，可以將所述拋光墊的半徑劃分為四個(gè)長(zhǎng)度相等的段，由所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿依次為第一段、第二段、第三段和第四段。其中，當(dāng)所述修整頭位于所述第一段時(shí)，所述修整頭的擺動(dòng)頻率為20次/分鐘，所述修整頭的旋轉(zhuǎn)速度為120rpm，所述修整頭的修整壓力為5psi。當(dāng)所述修整頭位于所述第二段時(shí)，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力依次為15次/分鐘、90rpm和3.5psi。當(dāng)所述修整頭位于所述第三段時(shí)，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力依次為10次/分鐘、60rpm和2psi。當(dāng)所述修整頭位于所述第四段時(shí)，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力依次為5次/分鐘、30rpm和0. 5psi。可以利用已有的方法測(cè)量得到拋光墊的磨損量。例如，可以在拋光墊上選擇若干個(gè)點(diǎn)，利用千分尺測(cè)量拋光墊的所述若干個(gè)點(diǎn)在拋光墊使用前后的厚度，其中
拋光墊的某一點(diǎn)的磨損量=拋光墊的這一點(diǎn)在拋光墊使用前的厚度-拋光墊的這一點(diǎn)在拋光墊使用后的厚度。在本發(fā)明的一個(gè)具體示例中，可以將所述拋光墊的半徑劃分為兩個(gè)長(zhǎng)度相等的段，由所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿依次為第一段和第二段。只改變所述修整頭的修整壓力，當(dāng)所述修整頭位于所述第一段時(shí)，所述修整頭的修整壓力為1. Opsi,當(dāng)所述修整頭位于所述第二段時(shí)，所述修整頭的修整壓力為0. 5psi。修整后拋光墊上各處的磨損量如圖4所示。利用已有的拋光墊修整方法對(duì)拋光墊進(jìn)行修整后拋光墊上各處的磨損量如圖 3所示。由圖3可以看出，利用已有的拋光墊修整方法對(duì)拋光墊進(jìn)行修整后，拋光墊上各處的磨損量為lOum-eOum。由圖4可以看出，利用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的拋光墊修整方法對(duì)拋光墊進(jìn)行修整后，拋光墊上各處的磨損量為30um-40um。因此，所述拋光墊修整方法可以大大地提高拋光墊的均勻性。在本說明書的描述中，參考術(shù)語“一個(gè)實(shí)施例”、“一些實(shí)施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實(shí)施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例或示例中。在本說明書中，對(duì)上述術(shù)語的示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任何的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實(shí)施例，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解在不脫離本發(fā)明的原理和宗旨的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。
權(quán)利要求
1.一種拋光墊修整方法，其特征在于，包括利用修整器對(duì)拋光墊進(jìn)行修整，其中在所述修整器的修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)減小，且在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)增大。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光墊修整方法，其特征在于，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)分段減小且分段增大。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光墊修整方法，其特征在于，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)分2-20段減小且分2-20段增大。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光墊修整方法，其特征在于，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)沿所述拋光墊的半徑分段減小且沿所述拋光墊的半徑分段增大。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的拋光墊修整方法，其特征在于，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)等間距地分段減小且等間距地分段增大。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的拋光墊修整方法，其特征在于，所述修整器的修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)等步長(zhǎng)地分段減小且等步長(zhǎng)地分段增大。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光墊修整方法，其特征在于，所述修整頭的擺動(dòng)頻率由30 次/分鐘減小至2次/分鐘且由2次/分鐘增大至30次/分鐘。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光墊修整方法，其特征在于，所述修整頭的旋轉(zhuǎn)速度由 150rpm減小至IOrpm且由IOrpm增大至150rpm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光墊修整方法，其特征在于，所述修整頭的修整壓力由 IOpsi減小至0. 2psi且由0. 2psi增大至IOpsi。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光墊修整方法，其特征在于，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力同時(shí)減小且同時(shí)增大。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種拋光墊修整方法，所述拋光墊修整方法包括利用修整器對(duì)拋光墊進(jìn)行修整，其中在所述修整器的修整頭從所述拋光墊的中心向所述拋光墊的外沿?cái)[動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)減小，且在所述修整頭從所述拋光墊的外沿向所述拋光墊的中心擺動(dòng)的過程中，所述修整頭的擺動(dòng)頻率、旋轉(zhuǎn)速度和修整壓力中的至少一個(gè)增大。利用所述拋光墊修整方法對(duì)所述拋光墊進(jìn)行修整可以使所述拋光墊上各處的磨損量保持一致，從而可以大大地改善所述拋光墊的均勻性、大大地延長(zhǎng)所述拋光墊的使用壽命。
文檔編號(hào)B24B53/00GK102248486SQ201110209279
公開日2011年11月23日 申請(qǐng)日期2011年7月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月25日
發(fā)明者沈攀, 王同慶, 路新春 申請(qǐng)人:清華大學(xué)