Mocvd設備及該設備中的托盤支撐旋轉系統的制作方法
【專利摘要】本發明涉及一種MOCVD設備和該設備中的托盤支撐旋轉系統。該托盤支撐旋轉系統包含托盤及旋轉軸，在托盤底面設有向下延伸的凸起，凸起內貫通的空腔與托盤中心區域貫通的開孔相連通；托盤和旋轉軸相接觸時，托盤底面的凸起至少一部分插入旋轉軸頂部設置的凹進部分中，從而提供托盤和旋轉軸之間的接觸點，使得旋轉軸能夠支撐托盤并帶動托盤旋轉。本發明無需增加托盤的整體厚度就能保證托盤上與旋轉軸相接觸部分的機械強度，可以減輕托盤的重量，改善熱容量，縮短托盤加熱和冷卻的時間。另外托盤重量減輕后，旋轉軸上的應力相應減小，延長了旋轉軸的使用壽命。
【專利說明】MOCVD設備及該設備中的托盤支撐旋轉系統
【技術領域】
[0001]本發明涉及MOCVD設備，尤其是涉及MOCVD設備中的托盤支撐旋轉系統。
【背景技術】 [0002]目前，MOCVD(金屬有機化學氣相沉淀)設備有兩種典型的托盤支撐旋轉系統，提供了不同的支撐托盤并且帶動托盤旋轉的方式。
[0003]在如圖1所示的一種現有方案中，在MOCVD設備的反應腔中，設置有支撐筒51，支撐筒51與放置有若干外延片40的托盤10的下方邊緣位置接觸，并支撐該托盤10，保證托盤10的中心落在支撐面內，因此托盤10在靜態時很穩定。加熱器30的加熱元件在托盤下方，特別是在托盤下方中心位置處可以連續設置，保證托盤中心的溫度環境與托盤其他位
置一致。
[0004]這種方案中，在支撐筒51的底盤511下方、中間位置處設有驅動軸20(即旋轉軸)，由驅動軸20帶動支撐筒51旋轉,進而帶動托盤10旋轉,相應地轉動慣量較大,這種從邊緣支撐并帶動托盤10旋轉的裝置一般適用于低速轉動的情況。
[0005]在如圖2或圖3所示的另一種現有方案中，驅動軸從中心支撐并且帶動托盤10旋轉。其中，托盤10底部中間位置設置有凹入的沉孔或凹進部分101，其底面與托盤10的上表面平行。與該圓柱形(圖2)或圓錐形(圖3)等形狀的沉孔101相匹配，對應將驅動軸20頂端圓柱形或圓錐形的部分201，垂直插入該托盤10的沉孔101中。通過驅動軸20的表面與托盤10沉孔101的表面接觸，成為托盤10的支撐面，并在摩擦力作用下，由驅動軸20帶動托盤10—起旋轉。
[0006]由于結構簡單、部件少，該種MOCVD設備的動平衡易于調節，轉動慣量相對前一種方案有所減小，適合在中高速轉動的情況下使用。
[0007]然而，當采用石墨作為托盤10材料時，為了增強接觸面上的摩擦力和抗摩擦強度，需要有特殊的表面加工處理，而由于該接觸面落在沉孔101里，增加了表面加工處理的難度。
[0008]另外由于在托盤10上加工沉孔101會使得托盤10相應部位的厚度減薄，機械強度降低，為保證沉孔101部位的機械強度，往往要使托盤10的整體厚度增加，導致熱容量增加，延長了加熱或冷卻需要的時間；此外還造成托盤10的重量增加，增加了驅動軸(或旋轉軸)上的應力,縮短了驅動軸的使用壽命。

【發明內容】

[0009]本發明實施例的目的是提供一種MOCVD設備及該設備中的托盤支撐旋轉系統。
[0010]為了達到上述目的，本發明的一個技術方案提供一種MOCVD設備中的托盤支撐旋轉系統，包含托盤和旋轉軸，所述旋轉軸的軸心線通過托盤的中心區域；
所述托盤的中心區域設有貫通該托盤的開孔，托盤底面圍繞著軸心線設有向下延伸的凸起，且所述凸起中設有在軸心線上貫通該凸起的空腔，所述空腔的頂端和開孔的下端相連通；
所述旋轉軸的頂部設有容納所述凸起的凹進部分；
所述托盤和旋轉軸相接觸時，托盤底面的凸起至少一部分插入旋轉軸頂部的凹進部分中，凸起和凹進部分直接相接觸從而提供托盤和旋轉軸之間的接觸點，使得旋轉軸能夠支撐托盤并帶動托盤旋轉。 [0011]一種實施例中，所述旋轉軸的頂部進一步設有向下延伸的開口槽，所述開口槽的頂端和所述空腔的下端相連通或者所述開口槽和凹進部分相連通。
[0012]另一種實施例中，所述旋轉軸中設有貫通該旋轉軸的通孔，該通孔的頂端和所述空腔的下端相連通或者該通孔和凹進部分相連通。
[0013]優選的，所述凸起相對于軸心線對稱分布。
[0014]優選的，所述空腔的頂端的開口和所述開孔的下端的開口的形狀及尺寸相同。
[0015]所述凸起為大致呈環狀的凸起。
[0016]或者，所述凸起包含第一凸起和第二凸起，第一凸起和第二凸起相連，第二凸起位于第一凸起的下方，至少第二凸起的一部分或全部插入所述凹進部分。
[0017]所述凹進部分為大體呈環狀的凹進部分，或者所述凹進部分為大體呈圓柱狀或大體呈圓臺狀的凹進部分。
[0018]優選的，所述接觸點位于凸起的底面或凸起的外側面。
[0019]本發明的另一個技術方案是提供一種MOCVD設備，其包含進氣裝置、加熱器以及托盤支撐旋轉系統，其中托盤支撐旋轉系統包含托盤和旋轉軸，旋轉軸的軸心線通過托盤的中心區域；進氣裝置位于托盤的上方，用于釋放反應氣體至托盤的上表面以進行外延反應或薄膜沉積；加熱器在托盤的下方圍繞著旋轉軸排列，用于對托盤進行加熱；
所述托盤的中心區域設有貫通該托盤的開孔，托盤底面設有向下延伸的凸起，且所述凸起中設有在軸心線上貫通該凸起的空腔，所述空腔的頂端和開孔的下端相連通；
所述旋轉軸的頂部設有容納所述凸起的凹進部分；
所述托盤和旋轉軸相接觸時，托盤底面的凸起至少一部分插入旋轉軸頂部的凹進部分中，凸起和凹進部分直接相接觸從而提供托盤和旋轉軸之間的接觸點，使得旋轉軸能夠支撐托盤以及帶動托盤旋轉。
[0020]一種實施例中，所述旋轉軸的頂部進一步設有向下延伸的開口槽，所述開口槽的頂端和所述空腔的下端相連通或者所述開口槽和凹進部分相連通。
[0021]另一種實施例中，所述旋轉軸中設有貫通該旋轉軸的通孔，所述通孔的頂端和所述空腔的下端相連通或者該通孔和凹進部分相連通。
[0022]優選的，所述接觸點位于凸起的底面或凸起的外側面。
[0023]優選的，所述空腔的頂端的開口和所述開孔的下端的開口的形狀及尺寸相同。
[0024]本發明實施例與現有技術相比，無需增加托盤的整體厚度就能保證托盤上與旋轉軸相接觸部分的機械強度，可以減輕托盤的重量，改善熱容量，縮短托盤加熱和冷卻的時間。另外托盤重量減輕后，旋轉軸上的應力相應減小，延長了旋轉軸的使用壽命。
[0025]不難看出，本發明實施例中，托盤和旋轉軸之間的結構配合關系簡單，托盤可以方便地和旋轉軸相接觸或者相分離，在實際應用中，亦適合采用機械手(robot)來裝卸托盤。【專利附圖】

【附圖說明】
[0026]圖1是現有一種從邊緣支撐并帶動托盤旋轉的MOCVD系統的結構示意圖；
圖2是現有一種從中心支撐并且帶動托盤旋轉的MOCVD系統的結構示意圖；
圖3是現有另一種從中心支撐并且帶動托盤旋轉的MOCVD系統的結構示意圖；
圖4是本發明實施例中托盤支撐旋轉系統的一種實施結構的剖面示意圖，其中托盤與旋轉軸相接觸；
圖5是圖4所示托盤支撐旋轉系統中托盤與旋轉軸相分離時的剖面示意圖；
圖6是圖4所示托盤支撐旋轉系統的一種變形結構的立體剖面示意圖，其中旋轉軸內設有貫通旋轉軸的通孔；
圖7是本發明實施例中托盤支撐旋轉系統的另一種實施結構的剖面示意圖，其中旋轉軸中凹進部分為圓臺狀；
圖8是圖7所示托盤支撐旋轉系統的一種變形結構的剖面示意圖，其中旋轉軸中凹進部分為環狀；
圖9是對圖8所示托盤支撐旋轉系統的一種變形結構的剖面示意圖，其中旋轉軸設有開口槽；
圖10是本發明實施例中一種MOCVD設備的剖面示意圖；
圖11是本發明實施例中托盤支撐旋轉系統的又一種實施結構的剖面示意圖，其中具有外側面為圓柱面的第一凸起和外側面為圓臺面的第二凸起；
圖12是本發明實施例中另一種MOCVD設備的剖面示意圖，還示出托盤支撐旋轉系統的再一種變形結構的剖面示意圖，其中具有外側面為圓柱面的第一凸起和第二凸起。
【具體實施方式】
[0027]以下結合【專利附圖】

【附圖說明】本發明的多個【具體實施方式】。
[0028]在MOCVD設備中，通常將托盤置于MOCVD設備的反應腔中，托盤的上表面可以置有多個外延片(或者稱為襯底片或晶片)，本發明實施例中外延片的大小可以是2英寸、4英寸或者更大尺寸，例如6英寸、8英寸。托盤上方設有進氣裝置，例如噴淋頭，反應氣體從進氣裝置釋放出來后，向下到達托盤的上表面進行外延反應或薄膜沉積。本實施例中托盤可以是石墨托盤，或者是其他材質的托盤，例如SiC (碳化硅)托盤。 [0029]配合參見圖4、圖5所示，本發明一個實施例中提供的托盤支撐旋轉系統，包括托盤2和旋轉軸3 ;旋轉軸3的軸心線通過托盤2的中心區域，在托盤2的中心區域設有貫通托盤2的開孔，托盤底面22圍繞著軸心線設有向下延伸的凸起24，且該凸起24中設有在軸心線上貫通該凸起24的空腔，所述空腔的頂端與開孔的下端相聯通；旋轉軸3的頂部設有容納所述凸起24的凹進部分34 ;托盤2和旋轉軸3相接觸時，托盤底面22的凸起24至少有一部分插入旋轉軸3頂部的凹進部分34中，凸起24和凹進部分34直接相接觸從而提供托盤2和旋轉軸3之間的接觸點，使得旋轉軸3能夠支撐托盤2并帶動托盤2旋轉。通常地，凸起24和凹進部分34設置為相匹配的形狀。
[0030]本實施例中在托盤2的中心區域設置開孔，并使該開孔貫通或者貫穿托盤2，以及在托盤底面設置凸起24，凸起24中設有貫通凸起24且和開孔連通的空腔，至少具有如下的技術效果，即，無需增加托盤的整體厚度就能保證托盤上與旋轉軸相接觸部分的機械強度，可以減輕托盤2的重量，改善熱容量，縮短托盤加熱和冷卻的時間；并使旋轉軸3上的應力能夠相應減小，延長旋轉軸的使用壽命。
[0031]另外本實施例中托盤2和旋轉軸3之間的結構配合關系簡單，托盤2可以方便地和旋轉軸3相接觸(圖4)或者相分離(圖5)，在實際應用中，適合采用機械手來裝卸托盤2。 [0032]其中，對于在托盤2的中心區域設置的通孔，也就是在托盤2中心區域貫通托盤2的開孔來說，該開孔的開口可以為圓形或者其他形狀。相應地，對于貫通開設在凸起24中的空腔，該空腔位于旋轉軸軸心線上，空腔的頂端和開孔的下端相連通，且該空腔的頂端的開口和上述開孔的下端的開口的形狀及尺寸可以相同，也可以不相同，例如空腔的頂端的開口大于開孔的下端的開口。進一步地，本實施例中，開孔可以為圓柱形，空腔也為圓柱形，開孔的直徑小于或者等于或者大于空腔的內徑。優選地，使開孔的直徑和凸起24的直徑相等，此時開孔和空腔可以合起來看作一個圓柱。
[0033]本實施例中凸起24圍繞軸心線分布，優選地，凸起24圍繞軸心線或相對軸心線對稱分布。在一個可選的實施例中，凸起大體呈環狀，需要明白的是，本實施例中所稱的大體呈環狀包括環狀，以及接近環狀的形狀，例如環狀的簡單變形。本發明提供的實施例中大體呈環狀至少包括如下情形:凸起24的外側面242為圓柱面(圖5)或圓臺面(圖7)，內側面246為圓柱面或圓臺面(圖中未示出)。
[0034]或者，如圖11或圖12所示，凸起24包括第一凸起251和第二凸起252，第一凸起251和第二凸起252相連，第二凸起252位于第一凸起251的下方，其中第一凸起251大致呈環狀，第二凸起252也大致呈環狀。凸起的外側面242包括第一部分、第二部分以及連接第一部分和第二部分的連接部分262，其中第一部分為第一凸起251的外側面，第二部分為第二凸起252的外側面，例如在不同的實施例中第一部分為圓柱面(圖11、圖12)，第二部分為圓柱面(圖11)或圓臺面(圖12);連接部分262可以為環狀平面(圖11、圖12)或圓臺面(圖中未示出)；或者其他一些簡單的變化等。
[0035]對旋轉軸3而言，一方面，通過接觸點起到支撐托盤的作用；另一方面，進一步通過接觸點提供摩擦力帶動托盤旋轉。本實施例中旋轉軸3在驅動裝置作用下，可以上下移動，或者可以繞著軸心線旋轉，或者兼具上下移動和繞著軸心線旋轉這兩種功能。
[0036]在旋轉軸3的頂部設置的凹進部分34，用以容納上述的凸起24，通常，凸起24和凹進部分34的形狀設置成相匹配，當旋轉軸3和托盤2相接觸時，旋轉軸3支撐托盤2或進一步帶動托盤2旋轉，凸起24的一部分或者全部位于凹進部分34內。旋轉軸3和托盤2相接觸時，一般而言旋轉軸3和托盤2之間具有多個接觸點，接觸點位于凸起24的底面或凸起24的外側面。當凸起24為大體呈環狀的凸起時，如圖4所示，接觸點位于凸起24的環狀的底面244或凸起24的外側面242，不難明白，本實施例中接觸點也位于凹進部分34的底面344或凹進部分34的外側面342上。
[0037]本實施例對凹進部分34的形狀不做具體的限定。優選地，凹進部分34為大體呈環狀(圖4)的凹進部分，且凹進部分34的外側面342為圓柱面(圖4)或圓臺面(圖8)。凹進部分34為大體呈環狀的凹進部分時，在旋轉軸3頂端，凹進部分內側面344所包圍或者所限定的區域(或者稱為凸起件351)大體上可以設置為圓柱件(圖4)或者環狀件(圖8)。對凸起24而言，由于其中心部分設有空腔，托盤底面22的凸起24插入旋轉軸3頂部的凹進部分34時，該凸起件351也相應地插入空腔。需要強調的是，該凸起件351和空腔并不構成接觸，也就是說接觸點仍位于凸起24的底面244或凸起24的外側面242，而不會位于凸起24的內側面246，也不會位于凸起件351的頂面。因此，在另一些實施例中，凹進部分34內也可以不設置上述的凸起件351 (如圖7、圖11或圖12)，即，此時的凹進部分34為一個大體呈圓柱狀或圓臺狀的凹進部分。
[0038]進一步地，旋轉軸3的頂部還設有向下延伸的開口槽361(圖9、圖10或圖11)，所述開口槽361的頂端和空腔的下端相連通(見圖9、圖10)，或者開口槽361和凹進部分34相連通(見圖11)。或者旋轉軸3中設有貫通旋轉軸3的通孔362(圖6或圖7)，該通孔362的頂端和所述空腔的下端相連通(見圖6 )，或者通孔362和凹進部分34相連通(見圖7 )。通常開口槽361或者通孔362為圓柱狀，其直徑大小可以根據實際需要來設定，本發明實施例對此不作限定，在一種可選的方案中，直徑大小可以為2mm至100mm。 [0039]下面以旋轉軸3的頂部設有通孔362為例進行說明，參見圖6所示，凹進部分34為大體呈環狀的凹進部分時，在旋轉軸3頂部為凹進部分34內側面所包圍的中心區域(即凸起件351，本示例中為圓柱體)上開設向下貫通的通孔362，也就是說該通孔362從凸起件351的頂面開始向下延伸，并貫穿整個旋轉軸3。
[0040]而在如圖7所示的實施例中，即凹進部分34為大體呈圓柱狀或圓臺狀的凹進部分時，直接在凹進部分34的底部的中心區域開設貫通的通孔362，即該通孔362從凹進部分的底面開始向下延伸，并貫穿整個旋轉軸3。一般來說，通孔362可以大體呈圓柱形。
[0041]而如圖11或圖12所示，當凸起24包括第一凸起251和第二凸起252時，第二凸起252位于第一凸起251的下方，至少第二凸起252的一部分或全部插入上述大體呈圓柱狀或圓臺狀(圖7未示出)的凹進部分內。此時，托盤2與旋轉軸3的接觸點可以位于第一凸起251與第二凸起252之間為一環狀平面的連接部分262上(圖11或圖12)，也可以還同時位于第二凸起252的外側面(即上述的第二部分)上(圖12)。圖11或圖12所示的，是第二凸起252的高度al (或插入的深度)小于凹進部分34開設深度bl的情況，而在其他未示出的實施例中，第二凸起252的高度也可以大于或等于凹進部分34開設的深度。
[0042]參見圖10或圖12所示，本發明在實施例中還提供一種MOCVD設備，包括進氣裝置70、加熱器30以及上述的托盤支撐旋轉系統，其中托盤支撐旋轉系統包括托盤2和旋轉軸3，旋轉軸3的軸心線通過托盤2的中心區域；進氣裝置70位于托盤2的上方，用于釋放反應氣體至托盤2的上表面以進行外延反應或薄膜沉積，通常進氣裝置70可以是噴淋頭；加熱器30在托盤2的下方圍繞著旋轉軸3排列，用于對托盤2進行加熱；
托盤2的中心區域設有貫通托盤2的開孔，托盤底面22設有向下延伸的凸起24，且該凸起24中設有在軸心線上貫通該凸起24的空腔，所述空腔的頂端和開孔的下端相聯通；旋轉軸3的頂部設有容納所述凸起24的凹進部分34 ;托盤2和旋轉軸3相接觸時，托盤底面22的凸起24至少一部分插入旋轉軸3頂部的凹進部分34中，凸起24和凹進部分34直接相接觸從而提供托盤2和旋轉軸3之間的接觸點，使得旋轉軸3能夠支撐托盤2并帶動托盤2旋轉。通常地，凸起24和凹進部分34設置為相匹配的形狀。本實施例MOCVD設備中的托盤支撐旋轉系統可以是上文任意一個實施例中所描述的托盤支撐旋轉系統，這里不再贅述。
[0043]本發明實施例與現有技術相比，無需增加托盤的整體厚度就能保證托盤上與旋轉軸相接觸部分的機械強度，可以減輕托盤的重量，改善熱容量，縮短托盤加熱和冷卻的時間。另外托盤重量減輕后，旋轉軸上的應力相應減小，延長了旋轉軸的使用壽命。此外，本實施例中托盤和旋轉軸之間的結構配合關系簡單，托盤可以方便地和旋轉軸相接觸(圖4)或者相分離(圖5)，在實際應用中，適合采用機械手來裝卸托盤。 [0044] 盡管本發明的內容已經通過上述優選實施例作了詳細介紹，但應當認識到上述的描述不應被認為是對本發明的限制。在本領域技術人員閱讀了上述內容后，對于本發明的多種修改和替代都將是顯而易見的。因此，本發明的保護范圍應由所附的權利要求來限定。
【權利要求】
1.一種MOCVD設備中的托盤支撐旋轉系統，包含托盤(2)和旋轉軸(3)，所述旋轉軸(3)的軸心線通過托盤(2)的中心區域，其特征在于， 所述托盤(2)的中心區域設有貫通該托盤(2)的開孔，托盤底面(22) 圍繞著軸心線設有向下延伸的凸起(24)，且所述凸起(24)中設有在軸心線上貫通該凸起(24)的空腔，所述空腔的頂端和開孔的下端相連通； 所述旋轉軸(3)的頂部設有容納所述凸起(24)的凹進部分(34)； 所述托盤(2)和旋轉軸(3)相接觸時，托盤底面(22)的凸起(24)至少一部分插入旋轉軸(3)頂部的凹進部分(34)中，凸起(24)和凹進部分(34)直接相接觸從而提供托盤(2)和旋轉軸(3 )之間的接觸點，使得旋轉軸(3 )能夠支撐托盤(2 )并帶動托盤(2 )旋轉。
2.如權利要求1所述的托盤支撐旋轉系統，其特征在于，所述旋轉軸(3)的頂部進一步設有向下延伸的開口槽(361)，所述開口槽(361)的頂端和所述空腔的下端相連通或者所述開口槽(361)和凹進部分(34)相連通。
3.如權利要求1所述的托盤支撐旋轉系統，其特征在于，所述旋轉軸(3)中設有貫通該旋轉軸(3)的通孔(362)，該通孔(362)的頂端和所述空腔的下端相連通或者該通孔(362)和凹進部分(34)相連通。
4.如權利要求1或2或3所述的托盤支撐旋轉系統，其特征在于，所述凸起(24)相對于軸心線對稱分布。
5.如權利要求1或2或3所述的托盤支撐旋轉系統，其特征在于，所述空腔的頂端的開口和所述開孔的下端的開口的形狀 及尺寸相同。
6.如權利要求1所述的托盤支撐旋轉系統，其特征在于，所述凸起(24)為大致呈環狀的凸起。
7.如權利要求1所述的托盤支撐旋轉系統，其特征在于，所述凸起(24)包含第一凸起(251)和第二凸起(252)，第一凸起(251)和第二凸起(252)相連，第二凸起(252)位于第一凸起(251)的下方，至少第二凸起(252)的一部分或全部插入所述凹進部分(34)。
8.如權利要求1所述的托盤支撐旋轉系統，其特征在于，所述凹進部分(34)為大體呈環狀的凹進部分，或者所述凹進部分(34)為大體呈圓柱狀或大體呈圓臺狀的凹進部分。
9.如權利要求1所述的托盤支撐旋轉系統，其特征在于，所述接觸點位于凸起(24)的底面(244)或凸起(24)的外側面(242)。
10.一種MOCVD設備，其特征在于，包含進氣裝置(70)、加熱器(30)以及托盤支撐旋轉系統，其中托盤支撐旋轉系統包含托盤(2)和旋轉軸(3)，旋轉軸(3)的軸心線通過托盤(2)的中心區域；進氣裝置(70)位于托盤(2)的上方，用于釋放反應氣體至托盤(2)的上表面以進行外延反應或薄膜沉積；加熱器(30)在托盤(2)的下方圍繞著旋轉軸(3)排列，用于對托盤(2)進行加熱； 所述托盤(2)的中心區域設有貫通該托盤(2)的開孔，托盤底面(22)設有向下延伸的凸起(24)，且所述凸起(24)中設有在軸心線上貫通該凸起(24)的空腔，所述空腔的頂端和開孔的下端相連通； 所述旋轉軸(3)的頂部設有容納所述凸起(24)的凹進部分(34)； 所述托盤(2 )和旋轉軸(3 )相接觸時，托盤底面(22 )的凸起(24 )至少一部分插入旋轉軸(3 )頂部的凹進部分(34 )中，凸起(24 )和凹進部分(34 )直接相接觸從而提供托盤(2 )和旋轉軸(3)之間的接觸點，使得旋轉軸(3)能夠支撐托盤(2)以及帶動托盤(2)旋轉。
11.如權利要求10所述的MOCVD設備，其特征在于，所述旋轉軸(3)的頂部進一步設有向下延伸的開口槽(361)，所述開口槽(361)的頂端和所述空腔的下端相連通或者所述開口槽(361)和凹進部分(34)相連通； 或者，所述旋轉軸(3 )中設有貫通該旋轉軸(3 )的通孔(362 )，所述通孔(362 )的頂端和所述空腔的下端相連通或者該通孔(362)和凹進部分(34)相連通。
12.如權利要求10或11所述的MOCVD設備，其特征在于，所述接觸點位于凸起(24)的底面(244)或凸起(24)的外側面(242)。
13.如權利要求10或11所述的MOCVD設備，其特征在于，所述空腔的頂端的開口和所述開孔的下端的開口的形狀及尺寸相同。
【文檔編號】C23C16/458GK103540912SQ201210235247
【公開日】2014年1月29日 申請日期:2012年7月9日 優先權日:2012年7月9日
【發明者】陳愛華 申請人:中晟光電設備（上海）有限公司