專利名稱：環境友好型鈦合金化學機械拋光液的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種環境友好型鈦合金化學機械拋光液。
背景技術：
化學機械拋光液(chemical machanical polish, CMP)技術的概念,是1965年由Monsanto首先提出。該技術最初是用于獲得高質量的玻璃表面，如軍用望遠鏡和光子儀器等。與傳統的單純機械或化學的拋光方法不同，CMP是通過化學與機械的共同綜合作用，因而避免了由單純機械拋光造成的表面損傷和由單純化學拋光可能造成的拋光速度慢，表面平整度和拋光一致性差的缺陷。該技術是利用磨損中的“軟磨硬”的原理，也就是用較軟的材料來進行拋光，以獲得高質量的表面拋光。
在設定的壓力和拋光液共同作用下，被拋光零件相對拋光墊作相對運動，借助微細粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用的有機結合，獲得高質量光性表面。CMP技術已從原來主要應用于電路(IC)和超大規模集成電路(ULSI)對基材硅晶體的拋光，拓展主薄膜存儲磁盤，微電子機械和精密陶瓷、閥門、機械模具、光子玻璃，重金屬材料，特殊用途的有色金屬及合金表面(包括鋰及其合金、鋁及其合金、鈦及其合金)等表面有特殊要求的加工領域。器件特征尺寸在O. 35 μ m以下時，必須進行全局平面化，以確保精確度和分辨率。而C M P拋光液是目前幾乎唯一的可以提供全局平面化的技術手段。其中化學拋光液是重要關鍵技術之一。通常情況下，拋光液中的磨料和種類、粒徑大小、顆粒分散度、穩定性以及化學物理性質都將與拋光液效果密切相關。此外，拋光墊的屬性(如材料和平整度等)也會極大的影響拋光效果。由于市場巨大的需求，排放以及后處理工作量大，CMP不再重復使用，故提出環境友好型鈦合金化學機械拋光液就顯得尤為重要。

發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種環境友好型鈦合金化學機械拋光液，該拋光液具有良好的抗磨、減磨性能和防銹性能，且性能穩定，可以滿足化學機械拋光加工的需要。本發明以如下技術方案解決上述技術問題鈦合金化學機械拋光液的組分及質量百分比
權利要求
1.一種環境友好型鈦合金化學機械拋光液，其特征是由下列組分及質量百分數組成
2.如權利要求I所述的環境友好型鈦合金化學機械拋光液，其特征是油性添加劑為質量比50%的脂肪酸鹽和50%的聚醚復合。
3.如權利要求I所述的環境友好型鈦合金化學機械拋光液，其特征是無機鹽防銹劑為磷酸二氫鈉，鑰酸鈉復合，質量比為I : I;有機鹽防銹劑為辛酸鹽、十二烯基丁二酸鹽、十二烯基丁二酸辛酯鹽中的任一種。
4.如權利要求I所述的環境友好型鈦合金化學機械拋光液，其特征是非表面離子活性劑為丙異丙胺醇。
5.如權利要求I所述的環境友好型鈦合金化學機械拋光液，其特征是輔劑為乙醇。
6.如權利要求I所述的環境友好型鈦合金化學機械拋光液，其特征是pH調和劑為由檸檬酸和醋酸組成的復合有機酸，二者質量比為1:1。
7.如權利要求I所述的環境友好型鈦合金化學機械拋光液，其特征是抗硬水劑為乙二胺四乙酸EDTA。
8.如權利要求I所述的環境友好型鈦合金化學機械拋光液，其特征是消泡劑為改性的聚硅乙烷。
9.如權利要求I所述的環境友好型鈦合金化學機械拋光液，其特征是復合磨料顆粒物為I. 2-2. 5 μ m質量比50%的碳化硅和50%的氮化硼復合。
10.如權利要求I所述的環境友好型鈦合金化學機械拋光液，其特征是分散劑為二乙烯三胺和砒啶按質量比1:1復合。
全文摘要
本發明公開了一種環境友好型鈦合金化學機械拋光液，由下列質量百分數的成分組成油性添加劑5%-10%，無機鹽防銹劑為2%-5%，有機鹽防銹劑為10%-25%，非表面離子活性劑為5%-10%，輔劑為0.6%-1.0%，pH調和劑為1%-5%，抗硬水劑為0.3%-0.5%，消泡劑為0.07%-0.12%，復合磨料顆粒為6.0%-6.5%，分散劑為0.03%-0.05%，去離子水為余量。本發明的環境友好型鈦合金化學機械拋光液，具有良好的抗磨、減磨性能和防銹性能，性能穩定，可以滿足化學機械拋光加工的需要。
文檔編號C23F3/04GK102877068SQ20121035775
公開日2013年1月16日 申請日期2012年9月24日 優先權日2012年9月24日
發明者黃福川, 盧朝霞, 莫宇飛, 梁景, 粟滿榮, 唐興中, 田宗義, 肖友程, 藍明新, 唐彩珍, 李勝, 李宏君, 梁慧, 趙鐘興, 廖丹葵, 劉琨 申請人:廣西大學