一種石墨舟預(yù)處理替代片及石墨舟預(yù)處理方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種石墨舟預(yù)處理替代片及石墨舟預(yù)處理方法。現(xiàn)有技術(shù)中采用空載預(yù)處理或滿載硅片預(yù)處理對(duì)石墨舟進(jìn)行預(yù)處理，從而造成成本較高或預(yù)處理效果不好。本發(fā)明的石墨舟預(yù)處理替代片的形狀與所述工藝卡點(diǎn)相匹配，其邊緣區(qū)域厚度范圍為100～300μm，其中心區(qū)域厚度范圍為1～3mm，可供多次反復(fù)使用；本發(fā)明的石墨舟預(yù)處理方法先提供一進(jìn)行預(yù)處理的石墨舟，所述石墨舟上具有多個(gè)工藝卡點(diǎn)，接著提供與石墨舟數(shù)量相匹配的石墨舟預(yù)處理替代片，之后將所述石墨舟預(yù)處理替代片設(shè)置在所述石墨舟的工藝卡點(diǎn)上，最后將所述石墨舟設(shè)置到化學(xué)氣相沉積設(shè)備中沉積氮化硅。本發(fā)明可降低預(yù)處理的成本且提高預(yù)處理的性能。
【專利說(shuō)明】一種石墨舟預(yù)處理替代片及石墨舟預(yù)處理方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及太陽(yáng)電池制造領(lǐng)域，特別涉及一種石墨舟預(yù)處理替代片及石墨舟預(yù)處
理方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前在晶體硅電池片表面制作的減反膜，大多采用氮化硅膜，其具有良好的光減反和表面鈍化效果，同時(shí)是有優(yōu)良物理、化學(xué)性能的介質(zhì)膜。在太陽(yáng)能電池生產(chǎn)工藝中，普遍采用CVD (化學(xué)氣相沉積)的方式，其中最常見(jiàn)的一種方式是管式PECVD (等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)。在管式PECVD設(shè)備的工藝制程中，為了實(shí)現(xiàn)一次性鍍多片硅片，需要將多片硅片固定在特殊結(jié)構(gòu)要求的石墨舟中。石墨舟作為硅片的承載工具，其具有良好的導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性和韌性，硅片承放在石墨舟上也起到了電極作用，一片硅片通常通過(guò)三個(gè)工藝卡點(diǎn)設(shè)置在石墨舟上。因此如果硅片沒(méi)有放好，沒(méi)有完全接觸到石墨舟上，電場(chǎng)就會(huì)產(chǎn)生改變，導(dǎo)致鍍膜厚度不均勻。
[0003]對(duì)新的或經(jīng)過(guò)酸洗的石墨舟，由于石墨表面有一定的粗糙度，而且石墨材料的原子層間結(jié)合力不高，容易產(chǎn)生石墨粉粒脫落，同時(shí)由于管式PECVD是直接式的PECVD，如果等尚子體直接打在石墨舟片表面也會(huì)使石墨舟片的石墨粉脫落，而且表面有粗糖度會(huì)導(dǎo)致鍍膜不均勻。因此我們需要對(duì)新的石墨舟進(jìn)行預(yù)處理，就是在石墨舟表面鍍上一層一定厚度的氣化娃I吳，提聞表面的平整度，同時(shí)可以保護(hù)石墨舟，減少石墨舟的石墨粉掉落。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)對(duì)于石墨舟的預(yù)處理方法主要采用兩種方式:(I)、空舟預(yù)處理，即將新的或清洗好的石墨舟在空載的情況直接進(jìn)行預(yù)處理；(2)、滿載硅片預(yù)處理，即在石墨舟的舟片上都插置上硅片，硅片通過(guò)工藝卡點(diǎn)插置在舟片上，此時(shí)工藝卡點(diǎn)與舟片之間的縫隙均被硅片占據(jù)。
[0005]上述兩種預(yù)處理方法分別存在以下問(wèn)題:空舟預(yù)處理時(shí)，工藝卡點(diǎn)處于暴露狀態(tài)，沒(méi)有物體進(jìn)行遮擋，因此在預(yù)處理過(guò)程中，工藝卡點(diǎn)及工藝卡點(diǎn)與舟片的縫隙中會(huì)沉積氮化硅膜，導(dǎo)致在正常鍍膜工藝過(guò)程中，工藝卡點(diǎn)與硅片之間的導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性均受到影響，從而導(dǎo)致氮化硅膜沉積不均勻，造成大量需返工和影響產(chǎn)品品質(zhì)的氮化硅膜色差片；滿載硅片預(yù)處理時(shí)，工藝卡點(diǎn)與舟片之間縫隙被硅片占據(jù)，因此工藝卡點(diǎn)與舟片的縫隙中幾乎沒(méi)有氮化硅沉積，在生產(chǎn)鍍膜過(guò)程不會(huì)造成色差片，但由于硅片很薄，沉積大量氮化硅后，硅片容易發(fā)生彎曲，甚至破裂，無(wú)法反復(fù)使用，導(dǎo)致成本過(guò)高。
[0006]因此，如何提供一種石墨舟預(yù)處理替代片及石墨舟預(yù)處理方法以解決上述石墨舟預(yù)處理工藝所遇到影響工藝性能或成本過(guò)高的問(wèn)題，已成為業(yè)界亟待解決的技術(shù)問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的是要提供一種石墨舟預(yù)處理替代片及石墨舟預(yù)處理方法，通過(guò)所述代替片和處理方法可降低預(yù)處理成本且提高預(yù)處理性能。
[0008]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種石墨舟預(yù)處理替代片，用于石墨舟清洗后的預(yù)處理，所述石墨舟包括多個(gè)層疊設(shè)置的舟片，所述每一舟片上包括多個(gè)用于承載工件片的工藝卡點(diǎn)，所述石墨舟預(yù)處理替代片的形狀與所述工藝卡點(diǎn)相匹配，其邊緣區(qū)域厚度范圍為100?300 μ m，其中心區(qū)域厚度范圍為I?3mm。
[0009]在一較佳實(shí)施例中，所述石墨舟預(yù)處理替代片為邊長(zhǎng)為125mm或156mm的正方形，所述正方形的邊緣區(qū)域?yàn)樾ㄐ危鲂ㄐ蔚哪┒撕穸葹?00?300 μ m。
[0010]在進(jìn)一步的較佳實(shí)施例中，所述每一替代片對(duì)應(yīng)三個(gè)工藝卡點(diǎn)，所述工藝卡點(diǎn)分別支撐在每一替代片的三個(gè)側(cè)面，所述每一代替片通過(guò)對(duì)應(yīng)的工藝卡點(diǎn)傾斜5至10度設(shè)置在舟片上。
[0011]在一較佳實(shí)施例中，所述石墨舟預(yù)處理替代片的材質(zhì)為石墨或碳纖維。
[0012]本發(fā)明還提供一種石墨舟預(yù)處理方法，該方法包括以下步驟:a、提供一進(jìn)行預(yù)處理的石墨舟，所述石墨舟上具有多個(gè)工藝卡點(diǎn)；b、提供與石墨舟數(shù)量相匹配的如上任一項(xiàng)所述的石墨舟預(yù)處理替代片；c、將所述石墨舟預(yù)處理替代片設(shè)置在所述石墨舟的工藝卡點(diǎn)上；d、將所述石墨舟設(shè)置到化學(xué)氣相沉積設(shè)備中沉積氮化硅。
[0013]在一較佳實(shí)施例中，在步驟c中，所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備為等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備。
[0014]在一較佳實(shí)施例中，該方法還包括步驟e、通過(guò)氫氟酸溶液對(duì)所述石墨舟預(yù)處理替代片進(jìn)行清洗。
[0015]在一較佳實(shí)施例中，步驟e是在進(jìn)行4至6次步驟d中氮化硅沉積后再進(jìn)行。
[0016]與現(xiàn)有技術(shù)中空載預(yù)處理會(huì)導(dǎo)致性能不佳相比，本發(fā)明的石墨舟預(yù)處理方法先提供一進(jìn)行預(yù)處理的石墨舟，所述石墨舟上具有多個(gè)工藝卡點(diǎn)，接著提供與石墨舟數(shù)量相匹配的石墨舟預(yù)處理替代片，之后將所述石墨舟預(yù)處理替代片設(shè)置在所述石墨舟的工藝卡點(diǎn)上，最后將所述石墨舟設(shè)置到化學(xué)氣相沉積設(shè)備中沉積氮化硅。本發(fā)明可避免無(wú)需鍍氮化硅的區(qū)域例如工藝卡點(diǎn)上與硅片接觸的區(qū)域鍍上氮化硅，從而提高了預(yù)處理的性能。
[0017]與現(xiàn)有技術(shù)中滿載硅片預(yù)處理會(huì)導(dǎo)致成本較高相比，本發(fā)明的石墨舟預(yù)處理替代片的形狀與所述工藝卡點(diǎn)相匹配，其邊緣區(qū)域厚度范圍為100?300 μ m，其中心區(qū)域厚度范圍為I?3_，可供多次反復(fù)使用。本發(fā)明可降低預(yù)處理的成本。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1為本發(fā)明的石墨舟預(yù)處理替代片I的正視圖；
[0019]圖2為本發(fā)明的石墨舟預(yù)處理替代片I的側(cè)視圖；
[0020]圖3為本發(fā)明的石墨舟預(yù)處理替代片I所應(yīng)用的石墨舟2的組成結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖4為圖3中的A區(qū)域的放大示意圖；
[0022]圖5為本發(fā)明的石墨舟預(yù)處理方法的實(shí)施例的流程圖。
具體實(shí)施方案
[0023]下面結(jié)合具體實(shí)施例及附圖來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的目的及功效。
[0024]參見(jiàn)圖1至圖4，本發(fā)明的石墨舟預(yù)處理替代片I用于石墨舟2清洗后的預(yù)處理，所述石墨舟2包括多個(gè)層疊設(shè)置的舟片20，所述每一舟片20上包括多個(gè)用于承載工件片的工藝卡點(diǎn)200，所述石墨舟預(yù)處理替代片I的形狀與所述工藝卡點(diǎn)200相匹配，其邊緣區(qū)域厚度范圍為100?300 μ m，其中心區(qū)域厚度范圍為I?3mm，所述石墨舟預(yù)處理替代片I的材質(zhì)為石墨或碳纖維等耐高溫耐腐蝕的材料。在本實(shí)施例中，所述石墨舟預(yù)處理替代片為邊長(zhǎng)為125mm或156mm的正方形,所述正方形的邊緣區(qū)域?yàn)樾ㄐ?所述楔形的末端厚度為100?300 μ m,所述石墨舟預(yù)處理替代片I的材質(zhì)為碳纖維。
[0025]繼續(xù)參見(jiàn)圖4，所述每一石墨舟預(yù)處理替代片I對(duì)應(yīng)三個(gè)工藝卡點(diǎn)200，當(dāng)所述石墨舟預(yù)處理替代片I通過(guò)對(duì)應(yīng)的工藝卡點(diǎn)200傾斜5至10度設(shè)置在舟片20上，此時(shí)對(duì)應(yīng)的三個(gè)工藝卡點(diǎn)200分別支撐在每一石墨舟預(yù)處理替代片I的三個(gè)側(cè)面。
[0026]當(dāng)使用圖1和圖2所示的石墨舟預(yù)處理替代片I將清洗后的或新的石墨舟2進(jìn)行預(yù)處理時(shí)，需將多片石墨舟預(yù)處理替代片I每片均通過(guò)如圖4所示的三個(gè)工藝卡點(diǎn)200設(shè)置在舟片20上，之后將石墨舟2設(shè)置在PECVD設(shè)備反應(yīng)腔室中沉積氮化硅膜。待石墨舟預(yù)處理替代片I上沉積一定厚度的氮化硅膜后(約進(jìn)行4至6次氮化硅預(yù)處理沉積)，需通過(guò)氫氟酸溶液將石墨舟預(yù)處理替代片I表面的氮化硅洗去，否則石墨舟預(yù)處理替代片I將會(huì)產(chǎn)生彎曲，從而會(huì)影響預(yù)處理的功效。
[0027]參見(jiàn)圖5，本發(fā)明的石墨舟預(yù)處理方法首先進(jìn)行步驟S50，提供一進(jìn)行預(yù)處理的石墨舟，所述石墨舟上具有多個(gè)工藝卡點(diǎn)，所述工藝卡點(diǎn)的材質(zhì)也可為石墨。
[0028]接著繼續(xù)步驟S51，提供如圖1和圖2所示的石墨舟預(yù)處理替代片。
[0029]接著繼續(xù)步驟S52，將所述石墨舟預(yù)處理替代片設(shè)置在所述石墨舟的工藝卡點(diǎn)上。
[0030]接著繼續(xù)步驟S53，將所述石墨舟設(shè)置到化學(xué)氣相沉積設(shè)備中沉積氮化硅。在本實(shí)施例中，所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備為等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備。
[0031]接著繼續(xù)步驟S54，通過(guò)氫氟酸溶液對(duì)所述石墨舟預(yù)處理替代片進(jìn)行清洗，所述氫氟酸的質(zhì)量百分比濃度為5%至10% ;優(yōu)選的步驟S54是在進(jìn)行4至6次步驟S53后再進(jìn)行。
[0032]綜上所述，本發(fā)明的石墨舟預(yù)處理方法先提供一進(jìn)行預(yù)處理的石墨舟，所述石墨舟上具有多個(gè)工藝卡點(diǎn)，接著提供與石墨舟數(shù)量相匹配的石墨舟預(yù)處理替代片，之后將所述石墨舟預(yù)處理替代片設(shè)置在所述石墨舟的工藝卡點(diǎn)上，最后將所述石墨舟設(shè)置到化學(xué)氣相沉積設(shè)備中沉積氮化硅。本發(fā)明可避免無(wú)需鍍氮化硅的區(qū)域例如工藝卡點(diǎn)上與硅片接觸的區(qū)域鍍上氮化硅，從而提高了預(yù)處理的性能。本發(fā)明的石墨舟預(yù)處理替代片的形狀與所述工藝卡點(diǎn)相匹配，其邊緣區(qū)域厚度范圍為100?300 μ m，其中心區(qū)域厚度范圍為I?3_，可供多次反復(fù)使用。本發(fā)明可降低預(yù)處理的成本。。
【權(quán)利要求】
1.一種石墨舟預(yù)處理替代片，用于石墨舟清洗后的預(yù)處理，所述石墨舟包括多個(gè)層疊設(shè)置的舟片，所述每一舟片上包括多個(gè)用于承載工件片的工藝卡點(diǎn)，其特征在于，所述石墨舟預(yù)處理替代片的形狀與所述工藝卡點(diǎn)相匹配，其邊緣區(qū)域厚度范圍為100?300μπι，其中心區(qū)域厚度范圍為I?3mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石墨舟預(yù)處理替代片，其特征在于，所述石墨舟預(yù)處理替代片為邊長(zhǎng)為125mm或156mm的正方形,所述正方形的邊緣區(qū)域?yàn)樾ㄐ?所述楔形的末端厚度為 100 ?300 μ m。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的石墨舟預(yù)處理替代片，其特征在于，所述每一替代片對(duì)應(yīng)三個(gè)工藝卡點(diǎn)，所述工藝卡點(diǎn)分別支撐在每一替代片的三個(gè)側(cè)面，所述每一代替片通過(guò)對(duì)應(yīng)的工藝卡點(diǎn)傾斜5至10度設(shè)置在舟片上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石墨舟預(yù)處理替代片，其特征在于，所述石墨舟預(yù)處理替代片的材質(zhì)為石墨或碳纖維。
5.一種石墨舟預(yù)處理方法，其特征在于，該方法包括以下步驟:a、提供一進(jìn)行預(yù)處理的石墨舟，所述石墨舟上具有多個(gè)工藝卡點(diǎn)；b、提供與石墨舟數(shù)量相匹配的如權(quán)利要求1至3項(xiàng)任一項(xiàng)所述的石墨舟預(yù)處理替代片；c、將所述石墨舟預(yù)處理替代片設(shè)置在所述石墨舟的工藝卡點(diǎn)上；d、將所述石墨舟設(shè)置到化學(xué)氣相沉積設(shè)備中沉積氮化硅。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的石墨舟預(yù)處理方法，其特征在于，在步驟c中，所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備為等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的石墨舟預(yù)處理方法，其特征在于，該方法還包括步驟e、通過(guò)氫氟酸溶液對(duì)所述石墨舟預(yù)處理替代片進(jìn)行清洗。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的石墨舟預(yù)處理方法，其特征在于，步驟e是在進(jìn)行4至6次步驟d中氮化硅沉積后再進(jìn)行。
【文檔編號(hào)】C23C16/458GK103824795SQ201210475475
【公開(kāi)日】2014年5月28日 申請(qǐng)日期:2012年11月19日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月19日
【發(fā)明者】王在發(fā), 陳磊, 何悅, 何雙權(quán) 申請(qǐng)人:尚德太陽(yáng)能電力有限公司, 無(wú)錫尚德太陽(yáng)能電力有限公司