專利名稱：轉(zhuǎn)爐下料口的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及到電站、冶金等領(lǐng)域使用的轉(zhuǎn)爐下料口，用于高溫灰渣的輸送。
背景技術(shù)：
目前轉(zhuǎn)爐下料口采用的是大鋼管中套小鋼管，在兩管之間設(shè)置有冷卻水的結(jié)構(gòu)。轉(zhuǎn)爐下料口是安裝在煙道上、為轉(zhuǎn)爐冶煉加入散狀料的入口，是水冷結(jié)構(gòu)件。由于距爐口距離近，不僅受到冶煉中高溫火焰和渣液等噴濺物的附著，還受到散狀料的摩擦、所以轉(zhuǎn)爐下料口工況非常惡劣。在炙烤、附著和摩擦的多重作用下，轉(zhuǎn)爐下料口變形損壞容易發(fā)生漏水事故，使用壽命在3-4個(gè)月，每次更換需要10個(gè)小時(shí)以上，不但影響生產(chǎn)效率，工人的勞動(dòng)強(qiáng)度也比較大。而且存在重大安全隱患。對(duì)安全生產(chǎn)、產(chǎn)品質(zhì)量以及爐況造成影響。還必須增加水冷卻循環(huán)設(shè)備。發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的就是要提供一種轉(zhuǎn)爐下料口，它能克服現(xiàn)有轉(zhuǎn)爐下料口所存在的以上缺陷。本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的，轉(zhuǎn)爐下料口，包括鑄造管，其特 征在于所述的鑄造管，外圈設(shè)置為光圓，內(nèi)圈設(shè)置有均勻分布的或不均勻分布的數(shù)拾個(gè)凹槽。本實(shí)用新型采用離心鑄造加工，提高了耐腐、耐壓、耐高溫及強(qiáng)度等性能；內(nèi)圈設(shè)置的凹槽增大了表面面積，有利于散熱；不需要水冷卻裝置，不存在冷卻水外泄，避免了對(duì)環(huán)境的污染；加工簡(jiǎn)單，維修方便，降低了生產(chǎn)成本。


圖I是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖；I.外圈，2.凹槽，3. B為壁厚。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明；轉(zhuǎn)爐下料口，包括鑄造管，其特征在于所述的鑄造管，外圈I設(shè)置為光圓，內(nèi)圈設(shè)置有均勻分布的或不均勻分布的數(shù)拾個(gè)凹槽2。具體實(shí)施時(shí)，本實(shí)用新型采用稀土耐熱耐磨鋼離心鑄造加工，鑄造管外圈直徑為0 380mm- 520 mm，壁厚B為25 mm，凹槽寬30 mm，凹槽高20 mm。
權(quán)利要求1.轉(zhuǎn)爐下料口，包括鑄造管，其特征在于所述的鑄造管，外圈(I)設(shè)置為光圓，內(nèi)圈設(shè)置有均勻分布的或不均勻分布的數(shù)拾個(gè)凹槽(2)。
專利摘要轉(zhuǎn)爐下料口，是將鑄造管外圈設(shè)置為光圓，內(nèi)圈設(shè)置有均勻分布的或不均勻分布的數(shù)拾個(gè)凹槽組成。本實(shí)用新型采用離心鑄造加工，提高了耐腐、耐壓、耐高溫及強(qiáng)度等性能；內(nèi)圈設(shè)置的凹槽增大了表面面積，有利于散熱；不需要水冷卻裝置，不存在冷卻水外泄，避免了對(duì)環(huán)境的污染；加工簡(jiǎn)單，維修方便，降低了生產(chǎn)成本。
文檔編號(hào)C21C5/46GK202530119SQ20122014736
公開日2012年11月14日 申請(qǐng)日期2012年4月10日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月10日
發(fā)明者馬桂付 申請(qǐng)人:靖江市富捷機(jī)械配件有限公司