專利名稱：雙槽加熱裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種雙槽加熱裝置，應(yīng)用于鍍膜制備領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
在真空鍍膜工藝中，加熱裝置是一種重要的蒸發(fā)設(shè)備。加熱加熱裝置使其中的物質(zhì)蒸發(fā)，蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子就會以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。在裝料量一定、源和基片的距離一定的情況下，膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間，因此，增加加熱裝置與材料的接觸面積，可以加快蒸發(fā)速率來滿足需要。另一方面，舟內(nèi)材料在加熱過程中有時會濺出到加熱裝置外。故，需要一種新的產(chǎn)品以解決上述問題。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供一種使用方便、經(jīng)濟(jì)實用的雙槽加熱裝置產(chǎn)品。為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本實用新型雙槽加熱裝置可采用如下技術(shù)方案:一種雙槽加熱裝置，包括梯形槽和半圓槽，所述梯形槽的底部設(shè)置有所述半圓槽。更進(jìn)一步的,所述半圓槽的直徑為5_9cm,長度為6_12cm。更進(jìn)一步的，所述梯形槽的開口處設(shè)置有鎢絲，所述鎢絲的為螺旋形，所述鎢絲的兩端固定在所述梯形槽的兩端。增加了與材料的接觸面，節(jié)省了蒸發(fā)時間，也能減少材料濺出鎢舟，節(jié)省材料。更進(jìn)一步的，所述加熱裝置為鎢舟。有益效果:本實用新型的雙槽加熱裝置增加了加熱裝置內(nèi)側(cè)接觸面積，同時能減少蒸發(fā)材料濺出加熱裝置。

圖1是本實用新型的雙槽加熱裝置的俯視圖；圖2是本實用新型的雙槽加熱裝置的主視圖；圖3是本實用新型的帶鎢絲的雙槽加熱裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和具體實施例，進(jìn)一步闡明本實用新型，應(yīng)理解這些實施例僅用于說明本實用新型而不用于限制本實用新型的范圍，在閱讀了本實用新型之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員對本實用新型的各種等價形式的修改均落于本申請所附權(quán)利要求所限定的范圍。請參閱圖1所示，本實用新型的雙槽加熱裝置，具有梯形槽I和半圓槽2，半圓槽2開口設(shè)置在梯形槽I的底部。其中，加熱裝置為鎢舟。請參閱圖2所示，半圓槽2會增加加熱裝置與材料的接觸面。半圓槽2內(nèi)材料發(fā)生濺射時，會被梯形槽2內(nèi)壁阻擋。請參閱圖3所示，梯形槽I的開口處設(shè)置有鎢絲3，鎢絲3的為螺旋形，鎢絲3的兩端固定在梯形槽I的兩端。此設(shè)計增加了與材料的接觸面，節(jié)省了蒸發(fā)時間，也能減少材料濺出鎢舟，節(jié)省材料。如上所述，本實用新型的半圓槽2增加了加熱裝置內(nèi)側(cè)接觸面積，同時能減少蒸發(fā)材料濺出加熱裝置。
權(quán)利要求1.一種雙槽加熱裝置，其特征在于:包括梯形槽(I)和半圓槽(2)，所述梯形槽(I)的底部設(shè)置有所述半圓槽(I)。
2.如權(quán)利要求1所述的雙槽加熱裝置，所述半圓槽的直徑為5-9cm，長度為6-12cm。
3.如權(quán)利要求1所述的雙槽加熱裝置，其特征在于，所述梯形槽(I)的開口處設(shè)置有鎢絲(3)，所述鎢絲(3)的為螺旋形，所述鎢絲(3)的兩端固定在所述梯形槽(I)的兩端。
4.如權(quán)利要求1-3任一項所述的雙槽加熱裝置，其特征在于，所述加熱裝置為鎢舟。
專利摘要本實用新型公開了一種雙槽加熱裝置，包括梯形槽(1)和半圓槽(2)，所述梯形槽(1)的底部設(shè)置有所述半圓槽(1)。本實用新型增加了加熱裝置內(nèi)側(cè)接觸面積，同時能減少蒸發(fā)材料濺出加熱裝置。
文檔編號C23C14/24GK203007388SQ20122073990
公開日2013年6月19日 申請日期2012年12月30日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月30日
發(fā)明者陳道理 申請人:盱眙新遠(yuǎn)光學(xué)科技有限公司